한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference) (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)
한국표면공학회 (The Korean Institute of Surface Engineering)
- 반년간
과학기술표준분류
- 재료 > 열/표면처리
한국표면공학회 2007년도 추계학술대회 논문집
-
-
Thin films of CrAlSiN were deposited on SKD11 tool steel substrate using Cr and AlSi cathodes by a cathodic arc plasma deposition system. The influence of process parameters on the deposited film properties were investigated. The oxidation characteristics of the films were studied at temperatures ranging from 800 and 1000+C up to 50 h in air. The films showed superhardness and good oxidation resistance..
-
-
-
Ni-Fe 합금을 전주성형하여 Ni용출 특성을 연구하였다. 피팅현상은 Ni용출을 가속화시키나 전주성형된 Ni-Fe 합금의 나노구조는 피팅현상을 줄임으로써 Ni용출량을 줄이는 역할을 함을 알 수 있었다. Ni 용출시험은 인공땀 용액에서 수행하였다.
-
진공 용기 내에서 펄스 전원 공급 장치를 이용하여 아르곤과 산소 분위기에서 발생시킨 글로 방전으로 마그네슘 판재의 표면을 처리하여 내식성 변화를 관찰하였다. 마그네슘 판재의 내식성 평가를 위하여 염수분무 시험을 실시 하였으며, 마그네슘 판재의 표면 변화를 관찰하기 위해서 x-선 분광기를 이용하였다. 글로 방전에 의해 표면 처리된 마그네슘 판재는 표면처리를 하지 않은 마그네슘 판재보다 높은 내식성을 보여주었다. x-선 분광기 분석결과, 글로 방전에 의해 마그네슘 판재 표면에 산화막이 형성되는 것을 관찰하였다.
-
-
콘크리트 강화용 철근재료의 제작을 위하여 여러 가지 조성의 용융도금을 실시하였다. 여기서는 여러 가지의 중성 및 알칼리 환경에서 이들 용융도금 철근재의 내식특성 변화에 대해 조사함으로써 콘크리트용 용융도금철근재료에 대한 유효성을 검코하고 적용설계에 관한 기초적인 지침을 제시하고자 하였다.
-
To attest zinc electrodeposition mechanism, electric circuit models for zinc electro reaction on Pt electrode are analyzed from the a.c. impedance data. Electrochemical reactions of zinc deposition are composed of the three electrochemical reactions on the cathode layer and of the induced electrode layers.
-
Cu via fill 도금 시, void, seam과 같은 내부 defects는 공정 중 신뢰성을 떨어뜨리며, 전기신호 전달속도를 느리게 한다. 또한 Cu via fell 도금 공정 중 발생하는 과도한 Cu 표면 도금층은 wafer thenning 공정의 생산성 저하와 공정 비용 상승을 유발한다. 3D Interconnection용 직경 30
${\mu}$ m, 깊이 120${\mu}$ m (Aspect Ratio : 4) Via를 이용하여 정류방법, 전류 parameter, 첨가제 조성에 따른 Cu via felling 특성과 overburden두께 변화를 실험적으로 검증하였다. -
해수 임펠러(impeller) 재료로 사용되고 있는 스테인리스강을 이용하여 케비테이션 발생 시 고체입자 충격에 의한 충격하중 및 침식손상을 조사하였다. 충격하중은 압전센서를 이용하여 측정되었으며, 고체입자충격의 경우 기포붕괴에 비해 전체적으로 높은 충격하중을 가한 것으로 나타났다. 또한 충격하중과 침식손상과의 관계를 고찰하기 위해 침식표면에 형성된 침식핏(pit)을 측정하였으며, 고체입자충격 및 기포붕괴 조건에서의 임계충격하중을 구하였다.
-
본 연구에서는 분산강화 스테인리스강을 이용하여 케비테이션 발생 시 고체입자충격에 의한 재료의 침식메커니즘 및 침식저항성을 고찰하고자 하였다. 케비테이션 시간에 따른 침식저항성 측정결과, 기존재료에 비해 분산강화된 시편의 무게손실량이 낮았으며 침식잠복기가 짧고 침식속도가 낮아 전반적으로 우수한 저항성을 보였다. 이것은 침식표면의 손상메커니즘 관찰을 통해 확인할 수 있었다.
-
저온 공정이 가능한 대향타겟식 스퍼터 (Facing Target Sputtering, FTS) 를 이용하여 Flexible display에 적용 가능한 polymer 기판위에 산소 가스 유량비 변화에 따라 ITO를 합성하였다. 산소의 유량이 2.8 sccm 일 때 가시광 영역에서 85%이상의 투과도와 2.26
${\sim}$ 10$^{-4}$ ${\Omega}$ cm의 가장 낮은 전기적 특성을 나타내었다. -
DLC를 포함한 탄소 박막은 우수한 특성으로 인해 세계적으로 많은 연구들이 진행 되고 있다. 본 연구에서는 탄소 박막의 산소 및 수분 차단 특성 및 광투과율의 특성과 플라즈마 변수와의 상관관계를 규명 하고자 하였으며, 이러한 상관관계를 Langmuir probe, UV-spectroscopy, MOCON 의 분석기구를 통하여 플라즈마 변수와 박막의 특성을 분석 하였으며, 수분 투과도는 4g/m
$^2$ /day까지 감소하는 결과를 얻었다. -
AZ31 Mg alloy plate 표면에 대기압 플라즈마 처리, MgO 코팅, 유기단분자막 형성, sol-gel 코팅등의 표면 처리를 한 후 내식성의 변화를 조사하였다. 대기압 플라즈마는 O2, Ar 개스를 사용하여 처리하였고, MgO 코팅은 sputter를 사용하였으며, 유기 단분자막으로는 Octadecyltrimethoxy silane을 기상유기박막 코팅하였으며, sol-gel 코팅은 dipping 방법을 이용하여 샘플을 제작하였다. 마그네슘 판재는 buffing 공정으로 표면 처리된 것을 사용하였으며, 아세톤 및 에탄올을 이용하여 초음파 세척하여 사용하였다. 표면처리된 시험편을 염수분무법으로 내식성을 평가하였으며, sol-gel 코팅 층의 젖음성 특성 및 xps를 이용하여 내식 특성에 미치는 표면 효과를 분석하였다.
-
Si Interlayer의 두께가 DLC (Diamond-like Carbon) 박막의 조도 및 미세 조직에 미치는 영향을 AFM 및 TEM을 이용하여 조사하였다. DLC 박막은 이온빔 소스를 이용하여 벤젠가스를 플라즈마 분해하여 기판에 증착하였고 기판에는 2kV의 펄스전원을 인가하였다. 기판은 Si Wafer와 초경을 이용하였으며 초경의 경우 평균조도가 20nm이하가 되도록 연마하여 사용하였다. Si Interlayer는 스퍼터링 소스를 이용하여 제조하였고 증착 시간에 따라 두께를 달리하여 약 90nm까지 변화시켰다. Si Interlayer만 증착하였을 경우 조도에 큰 차이를 나타내었으나 Interlayer 위에 DLC가 코팅되면 조도가 감소하여 Si 두께와는 상관이 없는 것으로 나타났다. 본 연구에서는 Interlayer에 두께에 따른 조도변화와 함께 피막의 조직 및 경도 변화 등에 대해 고찰하였다.
-
양극산화로 제조된 다공성 알루미늄 산화물template를 사용하여 Co/Pt 나노와이어 바코드를 Pulsed electrodeposition 방법으로 제조하였다. 도금 시간을 조절하여 나노와이어 바코드의 형상을 제어하였으며 이렇게 제조된 나노와이어 바코드의 자기적 성질을 SQUID를 이용하여 분석하였다. 나노와이어 바코드의 종횡비를 조절하여 나타나는 형상 이방성을 체계적으로 관찰하였고 나노와이어 바코드를 열처리하여 합금을 형성하였을 때 나타나는 자기적 특성의 증가를 관찰하였다.
-
타겟-모재간 거리를 변수로 하여 마그네트론 스퍼터링법에 의해 CrN 박막을 합성하고 미세구조 및 물성을 평가하였다. 타겟-모재간 거리 85mm 및 180mm에서 CrN 박막을 합성하였으며, 합성된 코팅막의 내식 특성을 평가하기 위해 양극분극시험을 수행하였다. 타겟-모재간 거리 변화에 따른 미세구조 변화를 관찰하기 위해 주사전자현미경을 이용하여 박막의 파단면 조직을 관찰하였으며, XRD 분석을 통해 상천이 거동을 관찰하고 이를 물성 결과와 비교 분석하였다.
-
무독성 원소로 조성된 Ti-30Ta-xZr(x=3, 7, 10, 15) 합금을 제조하여, HA박막과 금속사이의 계면이 생기는 문제점을 개선하기 위해 합금 표면에 HA/TiN 및 HA/ZrN 이중층을 형성시킨 후 전기화학적 방법으로 코팅의 영향을 조사하였다.
-
역전파 신경망은 반도체 공정 모델링에 효과적으로 응용되고 있으며, 모델의 예측정확도를 향상시키기 위하여 Random Generator를 개발하였다. Random Generator의 효과가 기존의 모델에 비해 예측정확도의 향상에 영향을 주었음을 알 수 있었다. 모델링에 이용한 실험데이터는 다중 유도결합형 플라즈마 장비를 이용하여 수집하였다.
-
Zn, Al 및 Sn을 각각 도금한 강기판상에 Mg박막을 이온플레이팅법에 의해 제작하였다. 이와 같은 중간층을 가진 Mg막의 내식측정결과에 의하면, Mg과 갈바닉 전위차가 작은 Zn을 중간층으로 하여 제작한 Mg 막이 Fe 모재보다 낮은 자연 전위값을 안정적으로 유지하면서 희생양극적 방식효과를 장시간동안 나타내었다.
-
자외선 살균기는 기존의 살균기보다 효율적으로 작동되어, 모델의 세균살균을 향상시키기 위하여 투과 반사와 오존을 복합적으로 사용하였다. 투과 반사 효과가 기존의 모델에 비해 세균살균의 효율에 상당한 영향을 주었음을 알 수 있었다.
-
기존에 있는 Ti 합금의 여러 가지 단점을 보완하기 위해 골과의 탄성계수 차이를 줄이고 독성이 없는 Ta, Nb와 같은
${\beta}$ 형 안정화 원소를 Ti 와 합금하여 Ti-30Ta-(3${\sim}$ 15wt%)Nb 합금을 제조하여 RF-magnetron sputter를 이용하여 Ti/HA 복합코팅을 하여 코팅된 합금의 전기화학적 특성을 조사하였다. -
치과 임플란트는 주로 Ti 합금으로 이루어지며 구강내 또는 체내에 매식되기 때문에 다양한 신체용액에 노출될 수 있다. 본 연구에서는 국내에서 제조된 티타늄 임플란트를 이용하여 수종의 신체유사용액에서 전기화학적인 방법을 통해 각각의 부식 안정성을 평가하였다.
-
-
디스플레이용 전극 소재로 사용되는 투명 전도막은 높은 가시광 투과율 (89%이상)과 우수한 전기전도성(비저항 10
$^{-4}{\Omega}cm$ 이하)을 동시에 가지므로 LCD, PDP, OLED 소자의 핵심소재로 인식되고 있다. 투명 전도막은 광학적 밴드갭이 3.5eV 이상인 wide-gap 반도체로서, 산화인듐($In_2O_3$ )에 주석(Sn), 아연(Zn) 등을 치환고용 시킨 ITO, IZO, 산화아연(ZnO)에 Al 혹은 Ga을 치환고용 시킨 AZO, GZO 등 다양한 재료에 대한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 본 연구에서는 플라즈마 정밀 제어 기술을 이용하여 80$^{\circ}C$ 이하의 저온 코팅 공정 조건에서 우수한 비저항($2{\times}10^{-4}$ ${\Omega} cm $ )을 나타낼 수 있는 TCO 코팅 공정 기술을 개발하였으며 이러한 연구결과는 차세대 디스플레이 소자로 예측되고 있는 Flexible 디스플레이 소자의 전극 재료로 활용될 수 있을 것으로 기대된다. -
본 연구에서는 실리콘 식각 공정 중 하나인 BOSCH 공정 이후 문제가 되는 scallops를 후처리 공정인 RCA 클리닝 공정, KOH와 IPA를 이용한 습식식각 공정을 이용하여 제거하는 방법을 개발하였다. 또한 Via-Hole 에칭 공정이후 전기적 절연을 위해 측벽에 증착된 TEOS 표면에 대하여 분석하였다.
-
열전재료는 냉각과 발전 분야에서 매우 매력적인 친환경 에너지 소재이다. 열전 재료의 효율을 나타내는 성능 지수는 ZT로 나타내는데, 기존의 bulk 재 열전소재의 경우 그 값이 1 내외이다. 그러나 기존의 타 기술과의 경쟁에서 우위를 점하기 위해서는 ZT 값이 3이 되어야 한다. 이론적인 계산에 의하면 나노 박막이나 나노와이어 형태로 열전재료를 제어를 함으로써 ZT 값의 현저한 향상이 예상되어 ZT값이 3이상의 값도 얻을 수 있을 것으로 기대된다. 전기도금법은 나노와이어 형태의 열전재료를 경제적으로 대량 생산할 수 있는 가장 유력한 방법이다. 본 발표에서는 전기도금법을 이용하여 n-형 BiTe 계와 p-형 BiSbTe계 열전반도체 나노와이어를 제조하고 그 특성을 측정한 연구결과를 소개한다.
-
Cho, Tong-Yul;Yoon, Jae-Hong;Song, Ki-Oh;Joo, Yun-Kon;Fang, Wei;Zhang, Shihong;Youn, Suk-Jo;Chun, Hui-Gon;Hwang, Soon-Young 61
HVOF thermal spray coating of micron size Co-alloy powder has been studied for the durability improvement of high velocity spindle (HVS). Optimal coating process of this system for the best surface properties is hydrogen flow rate 75 FMR, oxygen flow rate 38-42 FMR, feed rate 30 g/min at spray distance 5 inch. Friction coefficient (FC) and wear trace (WT) decrease increasing coating surface temperature from 25$^{\circ}$ C to 538$^{\circ}$ C due to the higher lubricant effects of the oxides at the higher temperature. At the study of adhesion of T800 coating on a light metal alloy Ti-6Al-4V (Ti64) tensile bond strength (TBS) and tensile fracture location (TFL) of Ti64/T800 are 8,740 psi and near middle of T800 coating respectively. This shows that adhesion of Ti64/T800 is higher than the cohesion strength (8,740 psi) of T800 coating. Therefore T800 coating is strongly advisable for the surface coating on HVS such as high speed air-bearing spindle. -
자기장 제어에 따른 플라즈마 형성 거동 및 코팅 물성간의 상관관계를 알아보기 위해 자기장 시뮬레이션을 수행하여 챔버 내 자력 분포에 따른 CrN 코팅막 물성 변화를 관찰하였다. Cross link type의 자석 배열을 할수록 폐회로(close field)의 자기장 배열을 형성하므로 높은 플라즈마 밀도를 구현할 수 있으며, 우수한 물성을 갖는 CrN이 합성됨을 확인하였다.
-
저온 플라즈마 기술을 이용하면 오스테나이트계 스테인리스강의 내식성과 표면경도를 동시에 증가 시킬 수 있다. 여러 가지 처리방법 중 질탄화와 2-step 공정으로 처리한 AISI304L강의 표면을 분석하였다. 처리한 모든 시편의 표면은 expanded austenite(
${\gamma}_N$ )이 형성되었고, 표면 경도도 모재보다 약 4배 이상 증가 하였다. 저온플라즈마 질탄화 공정의 경우 경화층의 두께가 최대 15${\mu}m$ 밖에 형성되지 않았지만 2-step공정의 경우 질탄화 공정보다 짧은 시간으로 약 2배의 경화층을 얻을 수 있었다. 두 가지 공정 모두 온도와 시간이 증가할수록 경화층의 두께가 두꺼워졌지만, 과도하게 높은 온도와 긴 공정시간은 석출물을 형성 시켰다. 석출물이 형성되지 않은 시편의 경우 내식성이 증가하였다. -
본 연구에서는 스퍼터된 원자의 이온화율을 높여 스퍼터링 효율 및 증착된 박막의 특성을 향상시킬 목적으로, 스퍼터 타깃과 기판사이에 보조 전자기코일을 부가하였다. 실험결과, 보조 전자기 코일을 통해 전자장 분포를 제어함으로 인해 스퍼터링 효율 및 박막의 증착 균일도를 동시에 향상시킬 수 있었으며, 나아가 입사이온의 증가로 인해 증착된 박막의 특성도 향상됨을 예상할 수 있었다.
-
ZnS:Cu,Cl phosphor was coated by solid-gel reaction with
$SiO_2$ outside layer. The effect of$Cu^{2+}$ -doping concentration has been investigated on the luminescence characteristics of ZnS:Cu,Cl blue-green phosphors for inorganic electro luminescent device. Also, SiO2 coated layers' effect on luminescence characteristics. Evaluation of luminescence characteristics dependent on the synthesis conditions is important to get high-performance phosphors properties. EL and PL properties such as luminescence intensity and chromaticity of ZnS:Cu,Cl phosphors synthesized with different concentration of activator,$Cu^{2+}$ , were analysed separately -
AZ31 마그네슘 판재의 장식 도금을 공정 개발을 적용하기 위한 기초 연구로서 전처리 특성에 따른 마그네슘 AZ31 판재의 아연치환도금의 특성을 연구하였다. AZ31 판재는 다이캐스팅으로 사용되는 AZ91 소재에 비해 산세에 대해 민감한 반응을 나타내었다. 소재의 균일화는 시편 E와 F에서 균일하고 광택 있는 표면을 얻었고, 질산은 표면 에칭효과만을 가진다는 것을 알 수 있었다. 아연치환도금을 위한 전처리에 있어서는 시편 E에서 우수한 밀착력을 나타내었다. 이후 청화동 도금과 황산동 도금, 니켈도금 3가 크롬도금을 실시하여, X-cutting 테이핑 테스트에서 양호한 밀착성과 내식성 72시간, 열탕시험을 만족하였다.
-
연속 동판재 생산을 위하여 전주도금 기술과 고속동도금 기술을 응용하여 동도금 공정을 개발하였다. 동 연속 전주 장비를 개발하고 적절한 동도금 조건의 개발을 통하여 연속적인 동도금 판재의 생산이 가능하게 하였다. 연속 전주 장치에서 제작된 동판재의 최종 물성을 살펴보면 두께 형성 속도는
$20{\mu}m/min$ . 속도이고, 동판재의 두께 편차는 5%이내의 두께 편차를 나타내었다. 제작된 동 판재의 비저항은$2.2{\times}10-6\;{\Omega} cm$ 를 나타내었으며, SEM을 이용한 표면관찰에서 void-free한 형태를 나타내었다. 판재상의 피막의 불순물은 500ppm 이하의 물성을 나타내었다. -
3가크롬 도금액은 크롬원 (황화물계 또는 염화물계), 착화제, 완충제, 전도보조제, 산화방지제, 유기첨가제등으로 구성되어 있으며, 특히 착화제와 유기첨가제가 용액의 안정성 및 균일전착성에 미치는 영향이 크다고 보고되고 있다. 본 연구에서는 카르복시기의 작용기를 갖는 유기산을 착화제로 사용하고, 다양한 유/무기 첨가제의 조합 및 첨가량을 조절하여 크롬의 전착특성을 고찰하였다.
-
Damascene 공정을 이용하여 80nm급의 trench 패턴 내에 구리 배선 형성을 위해 무전해 구리 도금법을 이용하였다. 화학 반응으로 진행되는 무전해 도금법에 의한 구리이온의 초미세 패턴 내 환원 과정에 구리 이온의 물질 전달과정이 구리 도금층의 표면 특성과 superconformality에 미치는 영향을 살펴보았다. 회전 전극에 고정된 칩의 회전 속도가 증가함에 따라 구리 도금층의 비저항이 감소하고, trench 내 균일 도금성이 향상되는 것으로 나타났다.
-
상용으로 사용되고 있는 Sargent bath에 수십 나노크기의 다이아몬드 분말을 혼입하여 전기도금법에 의해 매우 우수한 표면 특성을 갖는 크롬 복합 도금층을 얻었다. 상기 복합 도금층은 순수 크롬 도금층의 미세 경도(Hy. 801)보다 높은 값(Hy. 920)을 나타내었고, 내마모성은 약 3-4배 뛰어난 성능을 보였다. 또한, NaCl 수용액에서 수행한 내식성 테스트에서는 크롬 복합 도금층이 순수 크롬 도금층대비 1/6 수준의 passive current를 가졌다. SEM을 통한 표면 형상 관찰 결과 크롬 도금층에 혼입된 나노 다이아몬드 분말은 단결정 혹은 다결정의 형태로 존재하였다.
-
무전해 구리 도금 공정에서 첨가제로 사용되는 HIQSA 화합물이 Damascene 공정을 이용한 60nm급 trench 패턴 내 무전해 구리 배선 형성 과정에 미치는 효과를 전기 화학적 기법과 광학적 기법을 이용하여 관찰하였다. HIQSA 농도별 open circuit potential의 변화를 관측한 결과, 3ppm 수준으로 첨가되었을 때, 무전해 도금 과정 중 가장 안정한 전위가 유지됨을 볼 수 있었다. 무전해 도금액 내 HIQSA 농도가 높아짐에 따라 구리 도금층의 두께는 지수적으로 감소하였으며, 표면의 결정 크기도 감소하였다. 60nm급 trench 내 무전해 구리 도금 시, 용액 내 침적 시간 60초가 무결함 superconformal copper filling을 얻기 위한 최적 시간이었다.
-
본 연구에서는 ITO/PEDOT:PSS/PFO-poss/LiF/Al 구조를 갖는 고분자 유기발광다이오드(PLED)를 제작하여 ITO 투명 전도막의 전처리 효과가 유기발광 다이오드의 특성에 미치는 영향에 대하여 조사하였다. 최적의 전처리 조건을 찾기 위하여 다양한 플라즈마 처리 조건에 다른 ITO 투명전도막의 표면형상의 변화와 전기적 특성을 관찰하였다. 또한 ITO 투명전도막에 플라즈마 처리와 열처리를 실시하여 PLED 소자를 제작하고 전기 광학적 특성을 조사하여 ITO 투명 전도막의 전처리가 소자의 특성에 미치는 영향을 조사하였다.
-
In-Sn-Zn-O (ISZO)박막과 In-Zn-Sn-O (IZSO)박막은 상온에서 2개의 캐소드 (DC, RF)를 이용하여 마그네트론 2원 동시 방전법에 의해 polyethylene terephthalate (PET)기판 위에 실온에서 증착되었다. ISZO 박막의 경우, Zn함량이 증가함에 따라 비저항은 증가하였지만, Zn원자의 도입에 의해 표면 조도는 개선되었다. 반면, IZSO 박막의 경우, 최저비저항 (
$3.17$ ${\times}$ $10^{-4}$ ${\Omega}cm$ )은$SnO_2$ 타켓의 RF power 40W에서 얻어졌지만, Sn원자의 도입에 의해 표면 조도는 거칠어졌다. XRD 측정 결과 모든 박막은 비정질 구조로 사료되고, 가시광선 영역에서 80% 이상의 높은 투과율을 보였다. -
DC 마그네트론 스퍼터링법에 의하여 전도성이 다른 타겟을 사용하여 non-alkali glass 기판위에 실온에서 ITO 박막을 증착하였다. 전도성 향상 타겟을 사용하여 증착한 ITO 박막의 경우, 최저 비저항은 2.9
${\times}$ $10^{-4}{\Omega}cm$ 로 산소첨가량 0.5%에서 얻어졌다. 이것은 타겟 표면의 노듈에 의하여 발생하여 박막물성을 저하시키는 마이크로 아킹의 감소 및 플라즈마 임피던스의 감소에 의한 방전 안정성의 증가에 기인한다고 생각된다. 한편 AFM에 의한 박막표면의 관찰결과, 산소첨가량에 따라 박막표면의 거칠기는 증가하는 것으로 나타났다. 이결과는 산소의 증가에 따른 박막의 부분적인 결정화에 기인한다고 생각되어진다. 그러나 XRD 관찰 결과 산소첨가에 따른 박막의 미세구조의 변화는 확인 할 수 없었다. -
DC magnetron sputtering 법으로 다양한
$Ga_2O_3$ 함량비($2.27{\sim}$ 10.81 wt%)를 가진 고밀도 GZO 소결타겟을 사용하여 GZO박막을 증착한 후 도핑농도에 따른 광학적 특성과 전기적 특성을 조사하였다. GZO($Ga_2O_3$ : 6.65 wt%)타겟을 사용하여 기판온도$300^{\circ}C$ 에서 증착한 GZO박막은 상대적으로 낮은 비저항($5.1{\times}10^{-4}$ ${\Omega}cm$ )과 85% 이상의 높은 투과율을 보였다. 또한 타겟의$Ga_2O_3$ 함량이 6.65 wt%일때 광학적 밴드갭 에너지는 3.61 eV로 비교적 큰 흡수계수의 변화를 보였으며 그 이상의$Ga_2O_3$ 농도에서는 밴드갭 에너지가 감소하는 경향을 보였다. -
DC magnetron sputtering법을 이용하여 다양한
$Al_2O_3:$ 함량비( 1, 2, 3 wt%)를 가진 고밀도 세라믹 타겟을 사용하여 기판온도$RT{\sim}300^{\circ}C$ 에서 AZO박막을 제작하였다.$Al_2O_3:$ 함량 및 기판온도의 증가에 따라 AZO박막의 결정성은 향상됨을 확인할 수 있었다. 결과적으로 기판온도$300^{\circ}C$ 에서$Al_2O_3:$ 3 wt%를 함유한 AZO 타겟을 사용하여 증착한 AZO박막은 가시광 영역에서 85%이상의 높은 투과율과$7.8{\times}10^{-4}{\Omega}cm$ 의 비저항 값을 나타내었다. -
마그네트론 스퍼터링법을 이용하여
$100^{\circ}C$ 미만의 저온에서 플라스틱 기판위에 IZO(Indium Zinc Oxide) 박막을 증착하였다. 저전압 방전을 위하여 RF 중첩형 DC 마그네트론 스퍼터링 방법을 사용하였으며, 인가 power에 따른 IZO 박막의 전기적, 광학적 특성과 굽힘에 대한 신뢰성을 평가하였다. 플라스틱 기판이 변형되지 않도록$90\;^{\circ}C$ 이하의 범위에서 기판온도와 산소분압을 변화하여$2{\times}10^{-4}$ ${\Omega}$ cm의 비저항, 95 % 이상의 가시광 투과도를 가지는 IZO 박막을 증착할 수 있었다. 또한 본 연구에서 비가열의 플라스틱기판 위에 증착한 IZO 투명전극을 이용하여 유연성 OLED를 제작하였으며, 제작된 소자의 특성은 13.7 %의 최대양자 효율과 32.7 lm/W의 전력효율을 보였다. -
ZnO에 Li과 Al이 codoping된 박막을 magnetron spuuter을 이용하여 사파이어 기판 위에 성장하였다. 성장시킨 박막에 대한 구조적, 전기적, 광학적 특성들을 관찰 하였으며, 증착 분위기 조절에 따라서 에피텍셜한 박막을 얻을 수 있었다.
$LiAlO_2$ 도핑농도가 증가함에에 따라 전기적으로는 부도체에 가까운 특성을 나타내면서, 광학 밴드갭 에너지가 증가하는 현상을 관찰할 수 있었다. -
$CuInO_2$ 단일상은 합성조건이 매우 까다롭기 때문에 일반적인 고상법으로 얻기 힘든 것으로 알려저 있다. 투명전도성$CuInO_2$ 박막을 증착하기 위하여 일반적인 고상법으로 Cu와 In의 비율이 1:1인$Cu_2O-In_2O_3$ composite target 및 In 대신 Ca, Mg, Ti가 각각 1mol% 도핑된 target을 제작하였다. 제작된 각각의 composite target을 이용하여 pulsed laser deposition(PLD) 공정으로 투명전도성$CuInO_2$ 박막을 증착하였다. Cu와 In이 1:1 인$Cu_2O-In_2O_3$ composite target을 사용한 경우, 증착된 박막이 Cu와 In의 비율이 1:1인 c-axis 배향된 단일상의$CuInO_2$ 박막임을 확인하였다. -
p형 투명 전도막을 만들기 위해 박막화의 가능성 있는 벌크(bulk)상태의 p형 투명 전도 물질을 합성하고, 박막화 하여 p형 투명 전도 물질의 기초적 물성을 조사하여 p형 투명 전도 물질의 개발 가능성을 조사하였다. p-type
$CAO_2$ 박막은 열처리를 통하여 얻을 수 있었다.$CAO_2$ 박막은 초기 증착 온도가$650^{\circ}C$ 이하에서는 열처리를 통해서도$CAO_2$ 상을 얻을 수가 없었고 오직 공기중 분위기에서만 c-axis 배향을 가진$CuAIO_2$ 단일상 박막을 얻을 수 있었다.$CuAIO_2$ 단일상 박막은 2개의 상이 공존하고 있는 것으로 생각된다. -
마그네트론 스퍼터링 장치를 이용하여 산소 가스 유량 변화에 따른 ITO 박막을 실온 제작하였다. 그 결과 산소 가스 유량의 증가에 따라 박막의 비저항이 감소하였으며 적정 유량 이상에서는 비저항이 증가하였다. 또한 산소 가스 유량을 3 sccm으로 고정한 후 ITO 박막의 두께를 변화시킨 경우 막 두께 40nm 이상에서 부터는
$0.6{\sim}0.8$ $m{\Omega}-cm$ 의 비저항과 가시광 영역에서 80% 이상의 광투과율 특성을 나타내었다. -
Pulsed DC 마그네트론 스퍼터링 장치를 이용하여 Polymer 및 Glass 기판 위에
$SiN_{\chi}$ (Silicon Nitride) 박막을 합성 시키고 이들의 구조적, 광학적 특성을 조사하였다. 막두께는 100 nm로 고정하였으며, power mode 및 질소 가스 유량비를 변수로 합성하였다. -
ZnS:Cn,Cl phosphor was coated by solid-gel reaction with
$SiO_2$ outside layer. The effect of$Cu^{2+}$ -doping concentration has been investigated on the luminescence characteristics of ZnS:Cn,Cl blue-green phosphors for inorganic electro luminescent device. Also, SiO2 coated layers' effect on luminescence characteristics. Evaluation of luminescence characteristics dependent on the synthesis conditions is important to get high-performance phosphors properties. EL and PL properties such as luminescence intensity and chromaticity of ZnS:Cn,Cl phosphors synthesized with different concentration of activator,$Cu^{2+}$ , were analysed separately -
플라즈마 응용화학기상법을 이용하여 Silicon Nitride (SiN) 박막을 증착하였다. PECVD 공정은 Box Wilson 실험계획표를 이용하여 수행하였다. SiN박막의 전하밀도를 신경망과 유전자 알고리즘을 이용하여 모델링하였다. 개발된 모델을 이용하여 전하밀도에의
$N_2$ 와$NH_3$ 의 영향을 다양한 온도에서 고찰하였다.$N_2$ (or$NH_3$ )의 증가에 따라 전하밀도는 증가하였으며, 이는 전하밀도의 [N-H]에의 강하게 의존하고 있음을 보인다. 전하밀도는 고온에서의$NH_3$ 의 증가, 또는 높은$NH_3$ 유량에서의 온도의 증가에 따라 급격히 증가하였다. 굴절률 모델과 비교할 때, 이 같은 현상이 [N-H]의 증가에 기인하는 것으로 해석되었다. -
카본블랙을 충전제로 사용하여 전도성도료를 제작하였으며 충전제의 양과 그리고 도료가 도포된 두께에 따른 전기적 특성을 조사하였다. 충전제의 양이 많아질수록 박막의 저항값은 지수적으로 감소하였으며 박막의 두께가 증가함에 따라 저항값이 감소하였다. 이러한 박막내 충전제의 증가와 박막두께의 변화에 따른 전기전도도의 변화에 대해 조사하였다.
-
Phase stability and morphological investigation on the
$Si/SiO_2/HfO_2$ and$Si/SiO_2/ZrO_2$ stack are presented. Thermal stability of$HfO_2$ and$ZrO_2$ determines the quality of interface and subsequently the performance of device. The stacks have been fabricated and annealed at$1000^{\circ}C$ for various time. In evolution of crystalline phase and morphology (electrical and geometrical) of high-k materials, annealing time and process are observed to be crucial factors. The crystallization of some phase has been observed in the case of$Si/SiO_2/HfO_2$ . The chemical environment around Zr and Hf in respective samples is observed to be different. -
3성분계
$Ti-C_x-N_{1-x}$ 코팅막은 AIP(Arc Ion Plating)법에 의해 -25V의 바이어스와$300^{\circ}C$ 의 분위기에서 스테인리스 스틸 기판 위에 증착시켰다.$Ti-C_x-N_{1-x}$ 코팅막 안의 탄소(carbon)는 유입가스 비$CH_4/(CH_4+N_2)$ 를 변화시키며 합성하였다. 탄소(carbon)가 증가함으로써,$Ti-C_x-N_{1-x}$ 코팅막의 미세경도는 TiN 코팅막의 20 GPa로부터 x=0.52에서 최대 약 32 GPa로 측정되었다. 또한, 미세구조는 잔류응력과 관련 있으며 탄소 함량에 따라 평균마찰계수가 크게 감소하였다. -
3성분계 Ti-Si-C 코팅은 PECVD 기술에 의해 WC-Co 기판에 합성되었다. 이 연구에서 Ti-Si-C코팅에서의 비정질 silicon carbide 상의 효과는 XRD, XPS, TEM에 의해 분석되었다. TiC 결정의 입자크기는 비정질 silicon carbide의 침투 현상 때문에 Si의 함유량이 증가됨에 따라 감소된다. Ti-Si-C 코팅은 5.2%의 Si함유량에서 나노크기의 nc-TiC결정과 비정질 a-SiC로 이루어져 있고 최고 경도 33GPa와 탄성율 330GPa를 각각 보여주고 있다. 이 수치들은 순수한 TiC(-21GPa, 260Gpa)보다 눈에 띄게 높아졌다.
-
MoN 코팅막은 Ar과
$N_2$ 가 섞인 가스 상태 안에서 몰리브덴(Mo) 타겟을 사용해서 아크 이온 플레이팅법을 사용하여 stainless steel 표면 위에 증착을 시켰다. MoN 코팅막의 미세 결정 구조의 특징은 X-선 회절 분석(X-ray Diffractormeter, Phillips co. X'pert)과 XPS를 사용해서 측정하였다. MoN 코팅막은 순수 Mo 코팅막의 13GPa 보다 높은 25 GPa의 미세경도값을 나타냈으며, 또한 Mo 코팅막에 N의 함량이 증가할수록 마찰계수가 낮아지는 것을 알 수 있었다. 이번 연구에서는 MoN 코팅막에서 질소 함량을 변화 시켜 MoN 코팅막의 미세구조와 그 특성에 대하여 연구하였다. -
Cr-Al-N, Cr-Si-N 그리고 Cr-Al-Si-N 코팅막을 WC-Co 모재위에 AIP법과 DC 마그네트론 스퍼터링 법을 결합한 하이브리드 시스템을 이용하여 합성하였으며, Si함량에 따른 Cr-Al-Si-N 코팅막의 미세구조, 기계적 특성과 마찰 거동에 관해 비교 연구하였다. Cr-Si-N(
${\sim}35GPa$ )과 Cr-Al-Si-N(${\sim}55GPa$ ) 코팅막의 경도값은 CrN(${\sim}23GPa$ )과 Cr-Al-N(${\sim}25GPa$ ) 코팅막과 비교하여 각각 증가하였고, CrN(${\sim}0.50$ )과 Cr-Al-N(${\sim}0.84$ )의 평균 마찰계수는 Si 함량이 9 at.% 일때, Cr-Si-N(${\sim}0.30$ )과 Cr-Al-Si-N(${\sim}0.57$ )으로 각각 감소하였다. -
초고경도 박막을 얻기 위해 질화물을 이용한 CrN / CrAlN 초격자 박막을 CFUBM 시스템을 통해 합성하였다. 초격자 박막의 각층의 두께 (
${\lambda}$ )는 기판의 회전 속도를 이용하여 제어하여 4.4 에서 44.1 nm 까지 합성하였다. 박막의 결정구조 및 미세구조를 분석하기 위하여 고분해능 X선 회절 분석기 (HR-XRD)를 이용하였으며, 박막의 기계적 성질은 나노 인덴터와 ball on disk tester를 통해 분석하였다. CrN / CrAlN 초격자 박막은 각층의 두께 (${\lambda}$ )에 따라 28.77 GPa에서 31.97 GPa의 경도 값을 나타내었으며, 미세구조와 기계적 특성이 변화를 관찰할 수 있었다. -
제품 표면에 코팅을 하는 것은 원자재나 디자인을 개선하는 것보다 훨씬 효과적인 결과를 가져온다. 제품에 코팅을 적용하면 성능과 신뢰성이 향상되어 수명이 증가되고, 소형 경량화가 가능해진다. 자동차 엔진과 그 외의 부품에 적용할 경우 에너지 절감 효과가 있고 친환경 요구에 부응할 수 있어 그 효과가 크다. 시스템의 잠재된 성능은 특정 목적에 따라 맞춤된 PVD/PACVD 코팅에 의해서 향상 될 수 있고, 실제로도 많은 경우 PVD/PACVD 코팅만이 새로운 설계 솔루션을 실현 가능하게 해준다.
-
Graphite and MoS2 were added respectively as a lubricant to improve the cutting efficiency of micro blades which contains diamond abrasive. Strength, fracture toughness, and life span of micro-blades were observed to decrease with the increase in diamond abrasive and lubricant content. Wearing mode of micro-blades and the cutting efficiency were also found to be affected by the content of diamond abrasive and the addition of lubricants.
-
Wear resistant TiAlN thin film has been widely deposited on the surface of cutting and forming tools by using Arc Ion Plating. TiAlN films are deposited by the processes designed by the Taguchi L18 experimental design. The L18 experimental design is applied to achieve surface properties and adhesion. The deposition parameters are working pressure, substrate temperature, bias voltage, arc power and pre-sputtering bias voltage and time. The most influential parameters on surface properties and adhesion are substrate bias voltage, working nitrogen pressure and arc power. The optimal coating processes are obtained for surface properties and adhesion.
-
The microstructure and micro-hardness of high velocity oxygen fuel-sprayed (HVOF) WC-CoCr coatings are comparatively studied for both before and after laser heat-treatment (LT) of the coatings. The results indicate that compared to HVOF WC-CoCro coating, the laser treatment has eliminated the pores almost entirely providing a more homogeneous and densified microstructure. And the compact interface of the coating with substrate is achieved by laser treatment. The thickness of the coating has decreased from 300
${\mu}m$ to 225${\mu}m$ As a result, the average porosity is five times higher in HVOF coating than in the coating by laser treatment. The laser treatment has produced a considerable increment in the hardness of the coating near surface whose average value increases from Hv0.2=1262.4 in the HVOF-sprayed coating to Hv0.2=1818.7 in the coatings treated with laser. -
The arc ion plating (AIP) technique has been used widely for thin coating in the area of surface engineering. The TiN coating is important in the field of dies, cutting tools and other mechanical parts. When forming the TiN films by AIP technique, the processing parameters such as arc power, bias voltage, working pressure, temperature of substrate and pre-treatment affected the adhesion respectively. The results of scratch test revealed that the adhesion strength was influenced by arc power most strongly. And a sequence of the importance of each parameters has been obtained. The crystal structure and cross-section of TiN films are also be investigated.
-
플라즈마 이온 확산법을 이용하여
$N_2$ $CH_4$ 와 Ar의 기체 혼합물로부터 탄절화 타이타늄을 제조하였다.. 타이타늄 합금에 형성된 탄질화 타이타늄은 증착온도가 증가할수록 TiCN(200)으로 우선성장 하였고, 온도에 증가함에 따라 탄질화층의 두께도 증가하는 경향이 나타났으며, 미소경도의 증가와 좋은 내마모성특성이 나타났다. -
The compound, Ti3(Al,Si)C2, was synthesized by hot pressing a powder mixture of TiCX, Al and Si. Its oxidation at 900 and 1000 oC in air for up to 50 h resulted in the formation of rutile-TiO2, -Al2O3 and amorphous SiO2. During oxidation, Ti diffused outwards to form the outer TiO2 layer, and oxygen was transported inwards to form the inner mixed layer.
-
플라즈마 코팅공정시 질소 인입량 조절에 따라 비대칭 마그네트론 스퍼터링법으로 CrN 박막을 합성하였으며 증착된 CrN 박막을 XRD, SEM, EDX, ESCA, 양극분극시험 등을 통하여 분석을 실시하였다. 플라즈마 공정시 챔버에 인입하는 질소량이 증가함에 따라 박막의 부식특성이 우수해짐을 확인하였다.
-
개량된 플라즈마 전해산화 기술(Advanced Plasma Electrolytic Oxidation; APEO)을 사용하여 마그네슘((Mg)기판표면을 경면처리한 후 내마모 특성을 조사하였다. 시편의 마찰계수 거동과 시간에 따른 마모깊이의 변화를 조사하여 APEO 처리 후 마모특성의 변화를 관찰하였다.
-
AISI316L강은 AISI304L강과 기본 조성은 같지만 316L강이 약 2.5%의 Mo가 첨가되어 있다. 저온 플라즈마 질탄화 시 모재에 첨가된 Mo의 영향을 조사하기 위하여 처리온도를 변화시켜 실험하였다. 같은 처리온도의 경우 경화층의 두께는 316L강이 비교적 두껍게 형성되었다. 316L강의 경우
$450^{\circ}C$ 이하에서 약 25${\mu}m$ 까지 형성되었고, 306L강의 경우$400^{\circ}C$ 에서 약 10${\mu}m$ 까지 형성되었다.$400^{\circ}C$ 이하에서 경화층은 두 가지시편 모두 확장된 오스테나이트 (${\gamma}_N,\;{\gamma}_c$ )로 이루어져 있으나, 304L의 경우$430^{\circ}C$ 부터 석출물(CrN)이 형성되기 시작하였다. 316L의 경우$450^{\circ}C$ 까지 석출물이 형성되지 않았고,$480^{\circ}C$ 에서 석출물 (CrN)이 관찰되었다. 석출물이 형성된 시편을 제외한 모든 시편의 내식성은 모제보다 증가 하였다. -
AISI316L강에 저온 프라즈마 침탄과 저온 프라즈마 질화를 연속적으로 실시하여 표면경도와 내식성을 동시에 증가시키는 처리법에서 질화처리 시 처리시간 및 온도에 따른 표면특성변화를 조사하였다. 모든 시편의 표면에 N에 의해 확장된 오스테나이트(
${\gamma}_N$ )가 형성되었으며, 형성된${\gamma}_N$ 로 인하여 표면경도가 약$3{\sim}4$ 배 증가하였다. 처리시간과 온도가 증가함에 따라${\gamma}_N$ 층의 두께와 표면의 N농도가 증가 하였다. 표면처리한 모든 시편은 표면의 N의 영향으로 내식성이 증가 하였다. -
AISI316L강의 내식성과 표면경도를 동시에 향상시키기 위한방법으로 저온 플라즈마 침탄과 저온 플라즈마 질화를 동일한 로 내에서 연속적으로 실시하였다. 여러 가지 공정인자 중 저온 플라즈마 질화 시
$N_2$ 가스가 표면에 미치는 영향을 조사 하였다. 모든 시편의 표면에 N에 의해 확장된 오스테나이트 (${\gamma}_N$ )가 형성되었으며, 형성된${\gamma}_N$ 로 인하여 표면경도가 약$3{\sim}4$ 배 증가하였다.$N_2$ 가스가 증가할수록${\gamma}_N$ 층의 두께가 증가 하였다. -
저온 플라즈마 침탄 처리 후 연속적인 공정으로 저온 플라즈마 질화를 실시하여 내식성과 표면경도를 향상시키는 처리에서 질화처리 시 Ar 가스가 표면특성에 미치는 영향을 조사 하였다. 모든 시편의 경도가 미처리재 보다 약4배 증가하였으며, Ar가스의 양이 증가할수록 N의 침투깊이가 깊어졌다. 전체 경화증의 두께는 거의 일정하였고, 경화층은 모재보다 내식성이 증가되어 단면조직사진에서 밝게 나타났다.
-
본 연구에서는 CFUBMS (Closed Field Unbalanced Magnetron Sputtering) 방법을 사용하여 TiN 박막을 합성하는 과정에서 TiN 박막의 색상을 결정하는 공정변수(질소량, Substrate Bias, Target power, 합성 온도)의 영향에 관하여 연구하였다. 합성된 박막은 UV-vis spectrophotometer, AFM, XRD를 통하여 특성을 분석하였다. 공정변수 가운데 Target power의 변화와 합성온도의 변화는 합성된 박막의 색 변화에 크게 영향을 미치지 않는 것으로 나타났다. 반면에 질소량의 변화와 Substrate bias 변화에 따라서는 색의 변화가 크게 나타났으며, 박막의 격자상수 차이로 인한 격자 간격에 차이가 생겨서 박막의 색이 붉은 갈색으로 변화게 됨을 확인 할 수 있었다. 한편 변수의 크기가 증가함에 따라 RMS가 증가하면서
$L{\ast}(brightness)$ 이 감소하게 되고 합성된 박막의 색은 노란색에서 붉은색으로 변화되는 결과를 확인할 수 있었다. -
Si(중간층)/DLC(diamond-like carbon)막은 스퍼터와 이온소스(ion source)법에 의한 복합방식(hybrid method)을 이용하여 3mTorr의 반응가스 벤젠(
$C_6H_6$ )분위기에서 Si wafer에 기판온도$130^{\circ}C$ 로 180분간 증착하였다. 평가는 표면과 단면에 대해 주사전자현미경(scanning electron microscopy, SEM)과 투자전자현미경(trasmission electron microsope, TEM)으로 관찰하였다. 경도와 마찰계수는 나노인텐터(nanoindetor)와 마모시험기를 이용하였으며, 박막의 구조는 라만스펙트럼으로 분석하였다. 그 결과 박막의 두께는 약$0.9{\mu}m$ , 표면조도는 약$0.34{\sim}1.64nm$ 로 평탄한 표면을 가지며 경도는 약$35{\sim}37GPa$ , 마찰계수는 약$0.02{\sim}0.07$ 로 관찰되었다. 라만분광법과 전자회절패턴에 의해 IG/ID의 함량비는$0.54{\sim}0.59$ 로$sp^2$ 와$sp^3$ 가 혼재된 전형적인 비정질 구조임을 확인하였다. -
스퍼터링법으로 제작된 FCCL은 PI필름(Poly-imide film)과 Cu layer사이에 Tie-coating layer로 Ni-Cr을 많이 사용한다. 하지만 완성된 FCCL에서 페터닝을 실시할 때 Cr성분이 소멸되지 않고 잔존하는 현상으로 누설전류가 발생 한다. 또한 Cr으로 인해 Eatching액의 오염으로 재사용의 어려움도 발생된다. 이러한 원인들은 제품의 특성들을 저하 시키므로 이를 개선할 필요가 있다. 따라서 본 연구에서는 기존의 Tie-coating layer를 대체할 물질로 Acrylic acid를 이용하여 FCCL을 제작하여 표면특성 평가를 위해 Contact angle측정과 부착력을 위한 Peel test측정과 조직분석 및 성분분석을 위해 SEM-EDS를 측정을 통하여 Polymerization을 이용한 Ti-coating layer 개발의 가능성을 확인하였다.
-
본 연구에서 반도체 플라즈마 장비 감시를 위한 CUSUM 제어 차트 설계기법에 관해 연구하였다. CUSUM 제어차트에 관여하는 설계변수의 다양한 조합에 대하여 플라즈마 장비의 감시 성능을 평가하였다. 평가를 위해 RF 정합망 감시시스템을 이용하여 플라즈마 임피이던스 정합에 관여하는 정합변수에 대한 실시간 데이터를 수집하였으며, 여기에는 임피이던스와 상위치에 대한 전기적 정보, 그리고 반사전력에 대한 정보가 포함된다. CUSUM 설계변수에 따른 감시와 진단성능을 평가하였으며, 최적화된 설계변수의 결정으로 감시와 진단성능을 증진시킬 수 있었다. 한편, 고정설계변수에 비해 가변 설계변수가 감시성능을 증진하느데 더 효과적임을 알 수 있었다. 평가에 이용된 데이터는 소스전력이 500 W, 압력이 15 mTorr,
$O_2$ 유량이 75 socm일 때 수집하였다. -
초고속용사법(HVOF)은 우수한 강도와 높은 경도를 가지는 치밀한 후막형성이 가능하고 피로특성 및 열충격에 대한 저항성이 양호하여 종래에 사용되어 오던 전기도금등을 통한 표면처리 방법을 대체시키고 있다. 항공기엔진의 주요부품, 초고속 air bearing spindle등의 내구성향상을 위한 WC계 분말을 이용한 표면처리의 공정을 다구찌실험계획법을 이용해 최적조건을 선정하였다.
-
Through Silicon Via ( TSV)는 향후3D integration devices (CMOS image sensors) 와 보다 더 직접화되고 진보된 memory stack에 기여 할 것이다. 이는 한층 더 진보된 microprocessors system 을 구축 하리라 본다. 해서 본문은 TSV plasma etching processing 소개와 특히 Bosch process에 대한 개선 방법을 제시하고자 한다.
-
대면적 플라즈마 스퍼터링 시스템에서 가스 분배 구조의 변화가 시스템의 압력 균일도에 미치는 영향을 3차원 수치 모델을 통하여 연구하였으며 2 line parallel internal antenna의 경우에 대해서 플라즈마 균일도를 drift diffusion approximation을 이용하여 계산 하였다.
-
지르코늄 합금 피복관을 고온-고압 수증기 분위기에서 산화시켰으며 이에 따른 결과를 도출하였다. 수증기 압력이 증가함에 따라서 산화량은 증가하였고, 산화막 두께 또한 두꺼워졌다. 산화된 시편의 산화막을 광학현미경과 주사전자현미경으로 관찰하였다. 대기압하에서 산화된 시편은 균일한 산화막을 갖는 반면 고압 수증기하에서 산화된 시편은 많은 균일이 관찰되었다.