한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)
- 한국표면공학회 2007년도 추계학술대회 논문집
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- Pages.114-115
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- 2007
신경망을 이용한 실리콘 나이트라이드 박막의 전하밀도 모델링
Charge Density Modeling of Silion Nitride Thin Films Using Neural Network
초록
플라즈마 응용화학기상법을 이용하여 Silicon Nitride (SiN) 박막을 증착하였다. PECVD 공정은 Box Wilson 실험계획표를 이용하여 수행하였다. SiN박막의 전하밀도를 신경망과 유전자 알고리즘을 이용하여 모델링하였다. 개발된 모델을 이용하여 전하밀도에의
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