It is important to understand that patients with hemiplegia are under stress during the rehabilitation process. This study was designed to determine what changes occur in the stress perceived by these patients during the rehabilitation process. and what changes occur in the ways they coped with stress. A decriptive study with a longitudinal design was conducted. A total of 57 patients with hemiplegia who were admitted to one general hospital made up the sample for this study. A questionnaire, observations and interviews were used for the data collection which was done in three phases(within one week after admission : within one week before discharge ; within one month after discharge ). Data were analyzed using t-test, ANOVA repeated measures of ANOVA, and post hoc paired t -test, Bonferroni correction. The results of this study are : 1. Changes in the perception of stress during the rehabilitation process : There was a statistically significant differencs in the perception of stress among these patients during the rehabilitation process. On the post-hoc test. the perception of stress showed a statistically significant decrease from admission to discharge. The perception of psychological stress was high during the rehabilitation process as compared with the perception of physical and social stress. 2. Changes in the way the patients coped during the rehabilitation process : On admission passive coping was used by most of the subjects(91.2%). Passive coping showed an decrease from admission to discharge, but an increase from discharge to follow-up at one month post discharge. There was, however, no statistically significant changes in the way the patients coped during the rehabilitation process. 3. Changes in perception of stress during the rehabilitation process according to variables. Perception of stress among patients classified as So-Um was higher during the rehabilitation process, when compared with patients classified as So- Yang and Tae-Um. There was, however, no statistically significant difference in perception of stress over time. The patients with right sided paralysis perceived higher stress than those with left sided paralysis. There was, however, no statistically significant difference in perception of stress over time. Hence, stress was not influenced by which side was paralyzed th frequency of the relapse of the disease, or the time in the rehabilitation process. 4. Changes in coping during the rehabilitation process according to variables. There was a statistically significant difference in the way the patients coped at follow- up according to the three different kinds of the constitution groups. In other words, coping was not used by patients classified as Tae-Um but was used by those classified as So-Um. On the repeated measures of ANOVA, there was a statstically significant difference in stress over time, and an interaction between constitution and time. But the way of coping during the rehabilitation process was not influenced by which side was paralyzed nor by the frequency of the relapse of the disease. In conclusion, perception of psychological stress was high during the rehabilitation process, as compared to perception of physical and social stress. There was a statistcally significant difference in the perception of stress over time, Perception of stress showed a gradual decrease from over admission to follow-up period. There was. however, no statistically significant difference in the way of coping over time. Passive coping was used by most of patients. In the study, these findings suggest a need for nursing care related to the psychological support for patients with hemiplegia both in the hospital as well as at home, and the need for education and counseling on independent self-care to help the hemiplegic patients adapt to stress using active coping.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
/
2012.08a
/
pp.172-173
/
2012
Currently GaN based LED is known to show high internal or external efficiency at low current range. However, this LED operation occurs at high current range and in this range, a significant performance degradation known as 'efficiency droop' occurs. Auger process, carrier leakage process, field effect due to lattice mismatch and thermal effects have been discussed as the causes of loss of efficiency, and these phenomena are major hindrance in LED performance. In order to investigate the main effects of efficiency loss and overcome such effects, it is essential to obtain relative proportion of measurements of internal quantum efficiency (IQE) and various radiative and nonradiative recombination processes. Also, it is very important to obtain radiative and non-radiative recombination times in LEDs. In this research, we measured the IQE of InGaN/GaN multiple quantum wells (MQWs) LEDs with PSS and Planar substrate using modified ABC equation, and investigated the physical mechanism behind by analyzing the emission energy, full-width half maximum (FWHM) of the emission spectra, and carrier recombination dynamic by time-resolved electroluminescence (TREL) measurement using pulse current generator. The LED layer structures were grown on a c-plane sapphire substrate and the active region consists of five 30 ${\AA}$ thick In0.15Ga0.85N QWs. The dimension of the fabricated LED chip was $800um{\times}300um$. Fig. 1. is shown external quantum efficiency (EQE) of both samples. Peak efficiency of LED with PSS is 92% and peak efficiency of LED with planar substrate is 82%. We also confirm that droop of PSS sample is slightly larger than planar substrate sample. Fig. 2 is shown that analysis of relation between IQE and decay time with increasing current using TREL method.
Journal of the Institute of Electronics and Information Engineers
/
v.52
no.5
/
pp.51-57
/
2015
In this paper, in order to design the A / D converter with a high resolution of 14 bits or more for the biological signal processing, CMOS delta sigma modulator that is a 1.8V power supply voltage - were designed. we propose a new structure of The fourth order delta-sigma modulator that needs four op amps but we use only two op amps. By using a time -interleaving technique, we can re-construct the circuit and reuse the op amps. Also, we proposed a KT/C noise reduction circuit to reduce the thermal noise from a noisy resistor. We adjust the size of sampling capacitor between sampling time and integrating time, so we can reduce almost a half of KT/C noise. The measurement results of the chip is fabricated using a Magna 0.18um CMOS n-well1 poly 6 metal process. Power consumption is $828{\mu}W$ from a 1.8V supply voltage. The peak SNDR is measured as a 75.7dB and 81.3dB of DR at 1kHz input frequency and 256kHz sampling frequency. Measurement results show that KT/C noise reduction circuit enhance the 3dB of SNDR. FOM of the circuit is calculated to be 142dB and 41pJ / step.
The power management integrated circuit(PMIC) for CCD image sensor is presented in this study. A CCD image sensor is very sensitive against temperature. The temperature, that is heat, is generally generated by the PMIC with low efficiency. Since the generated heat influences performance of CCD image sensor, it should be minimized by using a PMIC which has a high efficiency. In order to develop the PMIC with high efficiency, the input stage is designed with synchronous type step down DC-DC converter. The operating range of the converter is from 5V to 15V and the converter is controlled using PWM method. The PWM control circuit consists of a saw-tooth generator, a band-gap reference circuit, an error amplifier and a comparator circuit. The saw-tooth generator is designed with 1.2MHz oscillation frequency. The comparator is designed with the two stages OP Amp. And the error amplifier has 40dB DC gain and $77^{\circ}$ phase margin. The output of the step down converter is connected to input stage of the charge pump. The output of the charge pump is connected to input of the LDO which is the output stage of the PMIC. Finally, the PMIC, based on the PWM control circuit and the charge pump and the LDO, has output voltage of 15V, -7.5V, 3.3V and 5V. The PMIC is designed with a 0.35um process.
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
/
v.45
no.4
/
pp.13-20
/
2008
This paper describes the design of low power 12bit Digital-to-Analog Converter(D/A Converter) using Pseudo-Segmentation method which shows the conversion rate of 80MHz and the power supply of 1.8V with 0.18um CMOS n-well 1-poly 6-metal process for advanced wireless communication system. Pseudo-segmentation method used in binary decoder consists of simple parallel buffer is employed for low power because of simpler configuration than that of thermometer decoder. Also, using deglitch circuit and swing reduced drivel reduces a switching noise. The measurement results of the proposed low power 12bit 80MHz CMOS D/A Converter shows SFDR is 66.01dBc at sampling frequency 80MHz, input frequency 1MHz and ENOB is 10.67bit. Integral nonlinearity(INL) / Differential nonlinearity(DNL) have been measured ${\pm}1.6LSB/{\pm}1.2LSB$. Glich energy is measured $49pV{\cdot}s$. Power dissipation is 46.8mW at 80MHz(Maximum sampling frequency) at a 1.8V power supply.
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
/
v.44
no.8
/
pp.38-44
/
2007
This paper describes a 12 bit 80MHz CMOS D/A converter for wireless transceiver. Proposed circuit in the paper employes segmented structure which consists of four stage 3bit thermometer decoders. Proposed D/A converter is manufactured 0.35um CMOS n-well digital standard process and measurement results show a ${\pm}1.36SB/{\pm}0.62LSB$ of INL/DNL and $46pV{\cdot}s$ of glitch energy. SNR and SFDR are measured to be 58.5dB and 64.97dB @ Fs=80MHz and Fin=19MHz with a total power consumption of 99mW. Such results proved that our work has low power consumption, high linearity, low glitch and improved dynamic performance. Therefore, our work can be appled to various high speed and high performance circuits.
Park, Jong-Bum;Yoo, Sang-Min;Yang, Hee-Suk;Jee, Yong;Lee, Seung-Hoon
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SC
/
v.39
no.4
/
pp.16-24
/
2002
This work describes a 10b 120 MSample/s CMOS pipelined A/D converter(ADC) based on a merged-capacitor switching(MCS) technique for high signal processing speed and high resolution. The proposed ADC adopts a typical multi-step pipelined architecture to optimize sampling rate, resolution, and chip area, and employs a MCS technique which improves sampling rate and resolution reducing the number of unit capacitor used in the multiplying digital-to-analog converter (MDAC). The proposed ADC is designed and implemented in a 0.25 um double-poly five-metal n-well CMOS technology. The measured differential and integral nonlinearities are within ${\pm}$0.40 LSB and ${\pm}$0.48 LSB, respectively. The prototype silicon exhibits the signal-to-noise-and-distortion ratio(SNDR) of 58 dB and 53 dB at 100 MSample/s and 120 MSample/s, respectively. The ADC maintains SNDR over 54 dB and the spurious-free dynamic range(SFDR) over 68 dB for input frequencies up to the Nyquist frequency at 100 MSample/s. The active chip area is 3.6 $mm^2$(= 1.8 mm ${\times}$ 2.0 mm) and the chip consumes 208 mW at 120 MSample/s.
we have demonstrated structural evolution and optical properties of Si-nanowires (NWs) synthesized on Si (111) substrates with nanoscale Au-Si islands by rapid thermal chemical vapor deposition (RTCVD). The Au-Si nano-islands (10-50nm in diameter) were employed as a liquid-droplet catalysis to grow Si-NWs via vapor-liquid-solid mechanism. The Si-NWs were grown by a mixture gas of SiH4 and H2 at a pressure of 1.0 Torr and temperatures of $500{\sim}600^{\circ}C$. Scanning electron microscopy measurements showed that the Si-NWs are uniformly sized and vertically well-aligned along <111> direction on Si (111) surfaces. The resulting NWs are ${\sim}60nm$ in average diameter and ${\sim}5um$ in average length. High resolution transmission microscopy measurements indicated that the NWs are single crystals covered with amorphous SiOx layers of ${\sim}3nm$ thickness. In addition, the optical properties of the NWs were investigated by micro-Raman spectroscopy. The downshift and asymmetric broadening of the Si main optical phonon peak were observed in Raman spectra of Si-NWs, which indicates a minute stress effects on Raman spectra due to a slight lattice distortion led by lattice expansion of Si-NW structures.
We successfully fabricated 4.7-inch organic thin film transistors array with $640{\times}480$ pixels on flexible substrate. All the processes were done by photolithography, spin coating and ink-jet printing. The OTFT-Electrophoretic (EP) pixel structure, based on a top gate OTFT, was fabricated. The mobility, ON/OFF ratio, subthreshold swing and threshold voltage of OTFT on flexible substrate are: 0.01 ^2/V-s, 1.3 V/dec, 10E5 and -3.5 V. After laminated the EP media on OTFT array, a panel of 4.7-inch $640{\times}480$ OTFT-EPD was fabricated. All of process temperature in OTFT-EPD is lower than $150^{\circ}C$. The pixel size in our panel is $150{\mu}m{\times}150{\mu}m$, and the aperture ratio is 50 %. The OTFT channel length and width is 20 um and 200um, respectively. We also used OTFT to drive EP media successfully. The operation voltages that are used on the gate bias are -30 V during the row data selection and the gate bias are 0 V during the row data hold time. The data voltages that are used on the source bias are -20 V, 0 V, and 20 V during display media operation.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
/
2009.11a
/
pp.67-67
/
2009
Due to the scaling down of the dielectrics thickness, the leakage currents arising from electron tunneling through the dielectrics has become the major technical barrier. Thus, much works has focused on the development of high k dielectrics in both cases of memories and CMOS fields. Among the high-k materials, $Al_2O_3$ considered as good candidate has been attracting much attentions, which own some good properties as high dielectric constant k value (~9), a high bandgap (~2eV) and elevated crystallization temperature, etc. Due to the easy control of ion energy and flux, low ownership and simple structure of the inductively coupled plasma (ICP), we chose it for high-density plasma in our study. And the $BCl_3$ was included in the gas due to the effective extraction of oxygen in the form of BClxOy compound. In this study, the etch characteristic of ALD deposited $Al_2O_3$ thin film was investigated in $BCl_3/N_2$ plasma. The experiment were performed by comparing etch rates and selectivity of $Al_2O_3$ over $SiO_2$ as functions of the input plasma parameters such as gas mixing ratio, DC-bias voltage and RF power and process pressure. The maximum etch rate was obtained under 15 mTorr process perssure, 700 W RF power, $BCl_3$(6 sccm)/$N_2$(14 sccm) plasma, and the highest etch selectivity was 1.9. We used the x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) to investigate the chemical reactions on the etched surface. The Auger electron spectroscopy (AES) was used for elemental analysis of etched surface.
본 웹사이트에 게시된 이메일 주소가 전자우편 수집 프로그램이나
그 밖의 기술적 장치를 이용하여 무단으로 수집되는 것을 거부하며,
이를 위반시 정보통신망법에 의해 형사 처벌됨을 유념하시기 바랍니다.
[게시일 2004년 10월 1일]
이용약관
제 1 장 총칙
제 1 조 (목적)
이 이용약관은 KoreaScience 홈페이지(이하 “당 사이트”)에서 제공하는 인터넷 서비스(이하 '서비스')의 가입조건 및 이용에 관한 제반 사항과 기타 필요한 사항을 구체적으로 규정함을 목적으로 합니다.
제 2 조 (용어의 정의)
① "이용자"라 함은 당 사이트에 접속하여 이 약관에 따라 당 사이트가 제공하는 서비스를 받는 회원 및 비회원을
말합니다.
② "회원"이라 함은 서비스를 이용하기 위하여 당 사이트에 개인정보를 제공하여 아이디(ID)와 비밀번호를 부여
받은 자를 말합니다.
③ "회원 아이디(ID)"라 함은 회원의 식별 및 서비스 이용을 위하여 자신이 선정한 문자 및 숫자의 조합을
말합니다.
④ "비밀번호(패스워드)"라 함은 회원이 자신의 비밀보호를 위하여 선정한 문자 및 숫자의 조합을 말합니다.
제 3 조 (이용약관의 효력 및 변경)
① 이 약관은 당 사이트에 게시하거나 기타의 방법으로 회원에게 공지함으로써 효력이 발생합니다.
② 당 사이트는 이 약관을 개정할 경우에 적용일자 및 개정사유를 명시하여 현행 약관과 함께 당 사이트의
초기화면에 그 적용일자 7일 이전부터 적용일자 전일까지 공지합니다. 다만, 회원에게 불리하게 약관내용을
변경하는 경우에는 최소한 30일 이상의 사전 유예기간을 두고 공지합니다. 이 경우 당 사이트는 개정 전
내용과 개정 후 내용을 명확하게 비교하여 이용자가 알기 쉽도록 표시합니다.
제 4 조(약관 외 준칙)
① 이 약관은 당 사이트가 제공하는 서비스에 관한 이용안내와 함께 적용됩니다.
② 이 약관에 명시되지 아니한 사항은 관계법령의 규정이 적용됩니다.
제 2 장 이용계약의 체결
제 5 조 (이용계약의 성립 등)
① 이용계약은 이용고객이 당 사이트가 정한 약관에 「동의합니다」를 선택하고, 당 사이트가 정한
온라인신청양식을 작성하여 서비스 이용을 신청한 후, 당 사이트가 이를 승낙함으로써 성립합니다.
② 제1항의 승낙은 당 사이트가 제공하는 과학기술정보검색, 맞춤정보, 서지정보 등 다른 서비스의 이용승낙을
포함합니다.
제 6 조 (회원가입)
서비스를 이용하고자 하는 고객은 당 사이트에서 정한 회원가입양식에 개인정보를 기재하여 가입을 하여야 합니다.
제 7 조 (개인정보의 보호 및 사용)
당 사이트는 관계법령이 정하는 바에 따라 회원 등록정보를 포함한 회원의 개인정보를 보호하기 위해 노력합니다. 회원 개인정보의 보호 및 사용에 대해서는 관련법령 및 당 사이트의 개인정보 보호정책이 적용됩니다.
제 8 조 (이용 신청의 승낙과 제한)
① 당 사이트는 제6조의 규정에 의한 이용신청고객에 대하여 서비스 이용을 승낙합니다.
② 당 사이트는 아래사항에 해당하는 경우에 대해서 승낙하지 아니 합니다.
- 이용계약 신청서의 내용을 허위로 기재한 경우
- 기타 규정한 제반사항을 위반하며 신청하는 경우
제 9 조 (회원 ID 부여 및 변경 등)
① 당 사이트는 이용고객에 대하여 약관에 정하는 바에 따라 자신이 선정한 회원 ID를 부여합니다.
② 회원 ID는 원칙적으로 변경이 불가하며 부득이한 사유로 인하여 변경 하고자 하는 경우에는 해당 ID를
해지하고 재가입해야 합니다.
③ 기타 회원 개인정보 관리 및 변경 등에 관한 사항은 서비스별 안내에 정하는 바에 의합니다.
제 3 장 계약 당사자의 의무
제 10 조 (KISTI의 의무)
① 당 사이트는 이용고객이 희망한 서비스 제공 개시일에 특별한 사정이 없는 한 서비스를 이용할 수 있도록
하여야 합니다.
② 당 사이트는 개인정보 보호를 위해 보안시스템을 구축하며 개인정보 보호정책을 공시하고 준수합니다.
③ 당 사이트는 회원으로부터 제기되는 의견이나 불만이 정당하다고 객관적으로 인정될 경우에는 적절한 절차를
거쳐 즉시 처리하여야 합니다. 다만, 즉시 처리가 곤란한 경우는 회원에게 그 사유와 처리일정을 통보하여야
합니다.
제 11 조 (회원의 의무)
① 이용자는 회원가입 신청 또는 회원정보 변경 시 실명으로 모든 사항을 사실에 근거하여 작성하여야 하며,
허위 또는 타인의 정보를 등록할 경우 일체의 권리를 주장할 수 없습니다.
② 당 사이트가 관계법령 및 개인정보 보호정책에 의거하여 그 책임을 지는 경우를 제외하고 회원에게 부여된
ID의 비밀번호 관리소홀, 부정사용에 의하여 발생하는 모든 결과에 대한 책임은 회원에게 있습니다.
③ 회원은 당 사이트 및 제 3자의 지적 재산권을 침해해서는 안 됩니다.
제 4 장 서비스의 이용
제 12 조 (서비스 이용 시간)
① 서비스 이용은 당 사이트의 업무상 또는 기술상 특별한 지장이 없는 한 연중무휴, 1일 24시간 운영을
원칙으로 합니다. 단, 당 사이트는 시스템 정기점검, 증설 및 교체를 위해 당 사이트가 정한 날이나 시간에
서비스를 일시 중단할 수 있으며, 예정되어 있는 작업으로 인한 서비스 일시중단은 당 사이트 홈페이지를
통해 사전에 공지합니다.
② 당 사이트는 서비스를 특정범위로 분할하여 각 범위별로 이용가능시간을 별도로 지정할 수 있습니다. 다만
이 경우 그 내용을 공지합니다.
제 13 조 (홈페이지 저작권)
① NDSL에서 제공하는 모든 저작물의 저작권은 원저작자에게 있으며, KISTI는 복제/배포/전송권을 확보하고
있습니다.
② NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 상업적 및 기타 영리목적으로 복제/배포/전송할 경우 사전에 KISTI의 허락을
받아야 합니다.
③ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 보도, 비평, 교육, 연구 등을 위하여 정당한 범위 안에서 공정한 관행에
합치되게 인용할 수 있습니다.
④ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 무단 복제, 전송, 배포 기타 저작권법에 위반되는 방법으로 이용할 경우
저작권법 제136조에 따라 5년 이하의 징역 또는 5천만 원 이하의 벌금에 처해질 수 있습니다.
제 14 조 (유료서비스)
① 당 사이트 및 협력기관이 정한 유료서비스(원문복사 등)는 별도로 정해진 바에 따르며, 변경사항은 시행 전에
당 사이트 홈페이지를 통하여 회원에게 공지합니다.
② 유료서비스를 이용하려는 회원은 정해진 요금체계에 따라 요금을 납부해야 합니다.
제 5 장 계약 해지 및 이용 제한
제 15 조 (계약 해지)
회원이 이용계약을 해지하고자 하는 때에는 [가입해지] 메뉴를 이용해 직접 해지해야 합니다.
제 16 조 (서비스 이용제한)
① 당 사이트는 회원이 서비스 이용내용에 있어서 본 약관 제 11조 내용을 위반하거나, 다음 각 호에 해당하는
경우 서비스 이용을 제한할 수 있습니다.
- 2년 이상 서비스를 이용한 적이 없는 경우
- 기타 정상적인 서비스 운영에 방해가 될 경우
② 상기 이용제한 규정에 따라 서비스를 이용하는 회원에게 서비스 이용에 대하여 별도 공지 없이 서비스 이용의
일시정지, 이용계약 해지 할 수 있습니다.
제 17 조 (전자우편주소 수집 금지)
회원은 전자우편주소 추출기 등을 이용하여 전자우편주소를 수집 또는 제3자에게 제공할 수 없습니다.
제 6 장 손해배상 및 기타사항
제 18 조 (손해배상)
당 사이트는 무료로 제공되는 서비스와 관련하여 회원에게 어떠한 손해가 발생하더라도 당 사이트가 고의 또는 과실로 인한 손해발생을 제외하고는 이에 대하여 책임을 부담하지 아니합니다.
제 19 조 (관할 법원)
서비스 이용으로 발생한 분쟁에 대해 소송이 제기되는 경우 민사 소송법상의 관할 법원에 제기합니다.
[부 칙]
1. (시행일) 이 약관은 2016년 9월 5일부터 적용되며, 종전 약관은 본 약관으로 대체되며, 개정된 약관의 적용일 이전 가입자도 개정된 약관의 적용을 받습니다.