Vapor phase epitaxy(VPE)법을 사용하여 amorphous $SiO_x$. nanowires를 성장시켰다. Ni thin film을 촉매로 사용하여 Si 기판위에 $800{\sim}1100^{\circ}C$ 범위의 온도에서 성장시켰으며, $SiO_x$ nanowires의 성장 메커니즘은 Vapor-liquid-solid(VLS)으로 확인되었다. $SiO_x$ nanowires의 shape와 morphology는 scanning electron microscope(SEM)으로 분석하였으며, cotton-like형태이고 길이는 $10{\mu}m$정도였다. 그리고 구조적 특징은 transmission electron microscope(TEM)으로 관찰하였고, $SiO_x$ nanowires의 성분 분석은 energy dispersed X-ray spectroscopy(EDS)로 하였다. EDX spectrum으로 nanowires가 Si와 O로 구성되어졌음을 확인하였다.
Single crystalline Au nanowires were successfully synthesized in a tube-type furnace. The Au nanowires were grown by vapor phase synthesis technique using solid-liquid-solid (SLS) mechanism on substrates of corning glass and Si wafer. Prior to Au nanowire synthesis, Au thin film served as both catalyst and source for Au nanowire was prepared by sputtering process. Average length of the grown Au nanowires was approximately 1 ${\mu}m$ on both the corning glass and Si wafer substrates, while the diameter and the density of which were dependent on the thickness of the Au thin film. To induce a super-saturated states for the Au particle catalyst and Au molecules during the Au nanowire synthesis, thickness of the Au catalyst thin film was fixed to 10 nm or 20 nm. Additionally, synthesis of the Au nanowires was carried out without introducing carrier gas in the tube furnace, and synthesis temperature was varied to investigate the temperature effect on the resulting Au nanowire characteristics.
Park, Young Soo;Moon, Hyung Suk;Huh, Mongyoung;Kim, Byung-Joo;Kuk, Yun Su;Kang, Sin Jae;Lee, Seong Hee;An, Kay Hyeok
Carbon letters
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제14권2호
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pp.99-104
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2013
We investigated the effects of parametric synthesis conditions of catalysts such as sintering temperature, sorts of supports and compositions of catalysts on alignment and length-control of carbon nanotubes (CNTs) using catalyst powders. To obtain aligned CNTs, several parameters were changed such as amount of citric acid, calcination temperature of catalysts, and the sorts of supports using the combustion method as well as to prepare catalyst. CNTs with different lengths were synthesized as portions of molybdenum and iron using a chemical vapor deposition reactor. In this work, the mechanisms of alignment of CNTs and of the length-control of CNTs are discussed.
Graphene has drawn enormous attention owing to its outstanding properties, such as high charge mobility, excellent transparence and mechanical property. Synthesis of Graphene by chemical vapor deposition (CVD) is an attractive way to produce large-scale Graphene on various substrates. However the fatal limitation of CVD process is high temperature requirement(around $1,000^{\circ}C$), at which many substrates such as Al substrate cannot endure. Therefore, we propose plasma enhanced CVD (PECVD) and decrease the temperature to $400^{\circ}C$. Fig. 1 shows the typical structure of RF-PECVD instrument. The quality of Graphene is affected by several variables. Such as plasma power, distance between substrate and electronic coil, flow rate of source gas and growth time. In this study, we investigate the influence of these factors on Graphene synthesis in vacuum condition. And the results were checked by Raman spectra and conductivity measurement.
Nano-sized tungsten disulfide ($WS_2$) powders were synthesized by chemical vapor condensation (CVC) process using tungsten carbonyl ($W(CO)_6$) as precursor and vaporized pure sulfur. Prior to the synthesis of tungsten disulfide nanoparticles, the pure tungsten nanoparticles were produced by same route to define the optimum synthesis parameters, which were then successfully applied to synthesize tungsten disulfide. The influence of experimental parameters on the phase and chemical composition as well as mean size of the particles for the produced pure tungsten and tungsten disulfide nanoparticles, were investigated.
Aluminum nitride (AlN) powders were prepared by the chemical vapor synthesis (CVS) process in the $AlCl_{3}-NH_{3}-N_{2}$ system. Aluminum chloride ($AlCl_3$) as the starting material was gasified in the heating chamber of $300^{\circ}C$. Aluminum chloride gas transported to the furnace in $NH_{3}-N_{2}$ atmosphere at the gas flow rate of 200-400ml/min. For samples synthesized between 700 and $1200^{\circ}C$, the XRD peaks corresponding to AlN were comparatively sharp and also showed an improvement of crystallinity with increasing the reaction temperature. In additions, the average particle size of the AlN powders decreased from 250 to 40 nm, as the reaction temperature increased.
Chemical vapor deposition (CVD) is one of the various synthesis methods that have been employed for carbon nanotube (CNT) growth. In particular, Ren et al reported that large areas of vertically aligned multi-wall carbon nanotubes could be grown using a direct current (dc) PECVD system. The synthesis of CNT requires a metal catalyst layer, etchant gas, and a carbon source. In this work, the substrates consists of Si wafers with Ni-deposited film. Ammonia $NH_3$) and acetylene ($C_2H_2$) were used as the etchant gases and carbon source, respectively. Pretreated conditions had an influence on vertical growth and density of CNTs. And patterned growth of CNTs could be achieved by lithographical defining the Ni catalyst prior to growth. The length of single CNT was increased as niclel dot size increased, but the growth rate was reduced when nickel dot size was more than 200 nm due to the synthesis of several CNTs on single Ni dot. The morphology of the carbon nanotubes by TEM showed that vertical CNTs were multi-wall and tip-type growth mode structure in which a Ni cap was at the end of the CNT.
The purpose of this paper is to decide the optimum synthesis conditions of polycrystalline diamond films according to the ratio of gas mixture. Diamond films were deposited with cyclo-hexane as a carbon precursor by the microwave plasma enhanced chemical vapor deposition process. The optimum oxygen ratio to cyclo-hexane was reached about 125 % under the fixed 0.3% c-hexane in hydrogen. Oxygen plays a role in etching the graphitic components of carbon sp2 bond effectively. By OES measurement, the best synthesis conditions found out about 12.5 % and 15.75 %, which is the emission intensity ratios of CH(B-X) and $H{\beta}$ on $H{\alpha}$, respectively. Also, the electron temperature was similar about 5,000 to 5,200 K in this work.
Graphene is an interesting material because it has remarkable properties, such as high intrinsic carrier mobility, good thermal conductivity, large specific surface area, high transparency, and high Young's modulus values. It is produced by mechanical and chemical exfoliation, chemical vapor deposition (CVD), and epitaxial growth. In particular, large-area and uniform single- and few-layer growth of graphene is possible using transition metals via a thermal CVD process. In this study, we utilize polystyrene and boron oxide, which are a carbon precursor and a doping source, respectively, for synthesis of pristine graphene and boron doped graphene. We confirm the graphene grown by the polystyrene and the boron oxide by the optical microscope and the Raman spectra. Raman spectra of boron doped graphene is shifted to the right compared with pristine graphene and the crystal quality of boron doped graphene is recovered when the synthesis time is 15 min. Sheet resistance decreases from approximately $2000{\Omega}/sq$ to $300{\Omega}/sq$ with an increasing synthesis time for the boron doped graphene.
산소분위기에서 전자선을 조사하여 과산화물을 생성시킨 폴리프로필렌에 benzoyl peroxide (BPO)를 개시제로 사용하여 비닐계 단량체인 스티렌과 glycidyl methacrylate (GMA)를 기상 그라프트 반응시켰다. 합성체의 그라프트율은 반응온도가 증가함에 따라 증가하는 경향을 나타내었고, 단량체가 스티렌의 경우 $70^{\circ}C$에서 최대였으며, GMA의 경우 반응온도 $80^{\circ}C$에서 최대로 나타났다. 반응시간에 따른 최대 그라프트율은 스티렌이 GMA보다 높게 나타났다 단량체 내 증류수의 조성에 따른 그라프트율은 사용되어지는 단량체의 비등점에 영향을 받는 것으로 나타났다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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