• 대한기계학회:학술대회논문집
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• 대한기계학회 2008년도 추계학술대회B
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• pp.2495-2500
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• 2008

We simulated the mixing characteristics in micro T-channel using Lattice Boltzmann Method. We studied the relation a mixing length and pressure-drop due to inlet and outlet ration in Reynolds number 0.5, Peclet number 500 and Schmidt 1000. The ratio of a down-inlet to up-inlet was $0.5{\sim}1.5$ times, up-inlet to outlet was $1{\sim}3$ times and outlet length was 250 times to up-inlet. The mixing length decrease linearly as outlet ratio decreased, and pressure-drip increase non-linearly. Initial stage of micro channel mixture was fast by down-inlet ratio, however, the mixing length is not influence.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1993년도 하계학술대회 논문집 B
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• pp.1289-1291
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• 1993

The hydrogenation effects on characteristics of polycrystalline silicon thin film transistors(poly-Si TFT's) of which the channel length varies from $2.5{\mu}m\;to\;20{\mu}m$ and poly-Si layer thickness is 50, 100, and 150 nm was investigated. After 1 hr hydrogenation annealing by PECVD, the threshold voltage shift decreased dependent on the channel length, but channel width may not alter the threshold voltage shift. In addition to channel length, the active poly-Si layer thickness may be an important parameter on hydrogenation effects, while gate poly-Si thickness may do not influence on the characteristics of TFT's. Considering our experimental results, we propose that channel length and active poly-Si layer thickness may be a key parameters of hydrogenation of poly-Si TFT's.

• 전자공학회논문지T
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• 제35T권1호
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• pp.14-21
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• 1998

GaAs MESFET는 동작점에 따라 선형영역, 포화영역으로 구분된 모델을 사용함에 따라, GaAs MESFET 회로 해석을 위한 컴퓨터 시뮬레이션 시 영역의 경계점에서의 1차 및 2차 미분 불연속으로 인한 해의 발산 문제가 발생하곤 하였다. 본 논문에서는 선형영역과 포화영역을 모두 포함한 통합된 채널길이변조식을 제안하였다. 새로이 제안된 채널길이변조식을 이용하여 전류-전압 모델과 커패시턴스-전압 모델을 제안하였다. 제안된 전류-전압 모델은 Shur의 모델과 비교하였으며 제안된 커패시턴스-전압 모델은 디바이스 시뮬레이션 결과와 비교하였다. 비교된 결과로부터 제안된 모델들은 기존의 모델과 유사한 결과를 얻었으며 연속성이 개선될 것으로 기대된다.

• Transactions on Electrical and Electronic Materials
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• 제7권3호
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• pp.99-102
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• 2006

The electrical characteristics of CMOS inverter with LDMOSFET are studied for high power and digital circuit application by using two dimensional MEDICI simulator. The simulation is done in terms of voltage transfer characteristic and on-off switching properties of CMOS inverter with variation of channel length and channel doping levels. The channel which surrounds a junction-type source in LDMOSFET is considered to be an important parameter to decide a circuit operation of CMOS inverter. The digital logic levels of input voltage show to increase with increase of n-channel length and doping levels while the logic output levels show to the almost constant.

• 한국전산유체공학회지
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• 제7권3호
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• pp.53-59
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• 2002

A two-dimensional laminar flow through a channel with a pair of symmetric vertical fins is investigated. At far up- and down-stream from the fins, the plane Poiseuille flow exists in the channel. The Stokes flow for this channel is first investigated analytically and then the other laminar flows by numerical method. For analytic method, the method of eigen function expansion and collocation method are employed. In numerical solution for laminar flows, finite difference method(FDM) is used to obtain vorticity and stream function. From the results, the streamline patterns are shown and the additional pressure drop due to the attached fins and the force exerted on the fin are calculated. It is clear that the force depends on the length of fins and Reynolds number. When the Reynolds number exceeds a critical value, the flow becomes asymmetric. This critical Reynolds number Re/sub c/ depends on the length of the fins.

• JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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• 제8권2호
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• pp.156-163
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• 2008

We proposed a new $p^+/n^+$ gate locally-separated-channel (LSC) bulk FinFET which has vertically formed oxide region in the center of fin body, and device characteristics were optimized and compared with that of normal channel (NC) FinFET. Key device characteristics were investigated by changing length of $n^+$ poly-Si gate ($L_s$), the material filling the trench, and the width and length of the trench at a given gate length ($L_g$). Using 3-dimensional simulations, we confirmed that short-channel effects were properly suppressed although the fin width was the same as that of NC device. The LSC device having the trench non-overlapped with the source/drain diffusion region showed excellent $I_{off}$ suitable for sub-50 nm DRAM cell transistors. Design of the LSC devices were performed to get reasonable $L_s/L_g$ and channel fin width ($W_{cfin}$) at given $L_gs$ of 30 nm, 40 nm, and 50 nm.

• 한국정보통신학회논문지
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• 제19권2호
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• pp.401-406
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• 2015

본 논문에서는 비대칭 이중게이트(double gate; DG) MOSFET의 채널길이에 대한 문턱전압이하 스윙의 변화에 대하여 분석하였다. 문턱전압이하 스윙은 트랜지스터의 디지털특성을 결정하는 중요한 요소로서 채널길이가 감소하면 특성이 저하되는 문제가 나타나고 있다. 이러한 문제를 해결하기 위하여 개발된 DGMOSFET의 문턱전압이하 스윙의 채널길이에 대한 변화를 채널두께, 산화막두께, 상하단 게이트 전압 및 도핑농도 등에 따라 조사하고자 한다. 특히 하단 게이트 구조를 상단과 달리 제작할 수 있는 비대칭 DGMOSFET에 대하여 문턱전압이하 스윙을 분석함으로써 하단 게이트 전압 및 하단 산화막 두께 등에 대하여 자세히 관찰하였다. 문턱전압이하 스윙의 해석학적 모델을 구하기 위하여 포아송방정식에서 해석학적 전위분포모델을 유도하였으며 도핑분포함수는 가우스분포함수를 사용하였다. 결과적으로 문턱전압이하 스윙은 상하단 게이트 전압 및 채널도핑농도 그리고 채널의 크기에 매우 민감하게 변화하고 있다는 것을 알 수 있었다.

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제37권8호
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• pp.9-16
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• 2000

0.35m CMOS공정을 이용하여 MOSFET의 RF특성을 평가하였다. 채널길이(L-0.25~0.8m)와 채널폭(W=50~600m) 및 바이어스 전압의 변화에 따른 RF특성을 분석하였으며, 차단주파수$f_T$는 최대 22GHz, 최대공진주파수($f_{max}$)는 최대 28GHz의 값을 얻었다. 채널폭의 변화에 대해서 차단주파수는 영향을 받지 않았으며, 최대공진주파수는 감소하는 경향을 보였고, 채널길이 증가에 대해서는 차단주파수 및 최대공진주파수 모두 감소하는 경향을 나타내었다. 최소잡음지수는 채널폭이 증가할수록 감소하고 채널길이가 증가할수록 증가하는 경향을 얻었는데, 2GHz에서 최소 0.45dB의 값을 얻었다. 평가결과로부터 0.35m CMOS공정이 2GHz대역의 상업용 RFIC 구현에 충분한 RF특성을 보유하고 있음을 확인할 수 있었으며, 바이어스 및 채널폭과 길이변화에 대한 CMOS 트랜지스터의 RF 특성분석을 통하여 RF 회로설계에 대한 지침을 제시하였다.

• JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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• 제13권3호
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• pp.213-223
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• 2013

A unified channel thermal noise model valid in all operation regions is presented for short channel MOS transistors. It is based on smooth interpolation between weak and strong inversion models and consistent physical model including velocity saturation, channel length modulation, and carrier heating. From testing for noise benchmark and comparing with published noise data, it is shown that the proposed noise model could be useful in simulating the MOSFET channel thermal noise in all operation regions.

• 한국산학기술학회논문지
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• 제11권5호
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• pp.1592-1596
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• 2010

IGZO (indium gallium zinc oxide) 박막트랜지스터는, 활성층 채널의 폭과 길이의 비가 고정된 경우에도, 채널 길이가 길어지면 게이트전압에 대한 드레인 전류의 특성곡선이 양의 전압 방향으로 이동하고 전계효과이동도는 낮아졌다. 채널의 길이와 폭이 고정된 상태에서는, 드레인이 전압 높은 경우에 전계효과이동도가 낮고 문턱아래 기울기가 큰 특성을 보였다. 이러한 현상은 IGZO 채널층의 일함수가 커서 소스/드레인 전극과 채널층의 접합부 띠굽음이 규소반도체의 경우와 반대방향으로 나타나는 것에 기인하는 것으로 해석된다.