• 제목/요약/키워드: cell transistor

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Intergrated Injection Logic - 설계에 대한 고찰과 실험결과 (Integrated Injection Logic- Design Considerations and Experimental Results)

  • 서광석;김충기
    • 대한전자공학회논문지
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    • 제16권2호
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    • pp.7-14
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    • 1979
  • Integrated Injecton Logic의 설계를 npn transistor 의 상향전류증폭율, βu 을 중심으로 하여 검토하였다. I2L 기본회로의 DC, AC특성과 npn transistor의 베이스 전류성분을 측정하기 위하여 test structure를 제작하였으며 또한 I2L T flip-flop도 설rP, 제작하였다. 제작된 test structure의 특성은 βe가 10, speed-power product가 2.6p.J/gate, 최소 전달지연 시간이 36 nsec 였으며 T flip-flop은 3.5 MHz 까지 동작하였다.

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초 저 소비전력 및 저 전압 동작용 FULL CMOS SRAM CELL에 관한 연구

  • 이태정
    • 전자공학회지
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    • 제24권6호
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    • pp.38-49
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    • 1997
  • 0.4mm Resign Rule의 Super Low Power Dissipation, Low Voltage. Operation-5- Full CMOS SRAM Cell을 개발하였다. Retrograde Well과 PSL(Poly Spacer LOCOS) Isolation 공정을 사용하여 1.76mm의 n+/p+ Isolation을 구현하였으며 Ti/TiN Local Interconnection을 사용하여 Polycide수준의 Rs와 작은 Contact저항을 확보하였다. p-well내의 Boron이 Field oxide에 침적되어 n+/n-well Isolation이 취약해짐을 Simulation을 통해 확인할 수 있었으며, 기생 Lateral NPN Bipolar Transistor의 Latch Up 특성이 취약해 지는 n+/n-wellslze는 0.57mm이고, 기생 Vertical PNP Bipolar Transistor는 p+/p-well size 0.52mm까지 안정적인 Current Gain을 유지함을 알 수 있었다. Ti/TiN Local Interconnection의 Rs를 Polycide 수준으로 낮추는 것은 TiN deco시 Power를 증가시키고 Pressure를 감소시킴으로써 실현할 수 있었다. Static Noise Margin분석을 통해 Vcc 0.6V에서도 Cell의 동작 Margin이 있음을 확인할 수 있었으며, Load Device의 큰 전류로 Soft Error를 개선할수 있었다. 본 공정으로 제조한 1M Full CMOS SRAM에서 Low Vcc margin 1.0V, Stand-by current 1mA이하(Vcc=3.7V, 85℃기준) 를 얻을 수 있었다.

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Biracial Silicon Solar Cells with Spin-on Doping and Electroless Plating

  • U. Gangopadhyay;Kim, Kyung-Hae;S.K. Dhungel;D. Mangalaraj;Park, J.H.;J. Yi
    • Transactions on Electrical and Electronic Materials
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    • 제5권1호
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    • pp.7-10
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    • 2004
  • A new method for fabrication of transistor like structure of the bifacial solar cell using spin-on doping and electroless plating has been proposed and the basic characteristics of the bifacial cell have been investigated. It is found that 9% increase in short circuit current is achieved with bifacial connection than the unifacial connection. Some unwanted effect of the series resistance on collection efficiency under different mode of illumination has been pointed out. Loss mechanisms inherent in the transistor like bifacial structure have also been discussed.

트랜지스터 레이아웃 산포를 고려한 새로운 설계 기법 (The New Design Methodology Considering Transistor Layout Variation)

  • 도지성;조준동
    • 전자공학회논문지
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    • 제49권12호
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    • pp.234-241
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    • 2012
  • 본 논문에서는 소자의 레이아웃 파라미터로 인한 회로 특성 산포를 개선할 수 있는 새로운 설계 기법을 제안한다. 제안된 설계 기법은 회로 시뮬레이션을 수행하지 않고 칩 내에서 레이아웃에 의한 소자의 전기적 특성 분포를 추출하여 불량 소자를 개선하는 방법이다. 이 기법은 3가지 장점이 있다. 첫째, 현 설계 흐름도에 변화를 주지 않아도 된다. 둘째, 레이아웃 설계자가 고비용의 설계 시뮬레이션을 수행하지 않고 소자의 전기적 특성 산포를 추출할 수 있다. 셋째, 초기 레이아웃 설계단계에서 전기적 불량 소자를 찾아 개선하여 설계 기간 단축에 도움이 된다. 제안한 방법에 대한 효율성을 검증하기 위하여 30나노 DRAM 공정에서 총 9종류의 소자 레이아웃 파라미터에 대해서 모델링을 진행하였다. 레이아웃 설계자를 위한 eDRC 환경을 개발하여 Standard Cell Library 설계에 적용하여 초기 설계단계에서 불량 소자 17.8%를 찾아 2.9%로 줄였다.

부유게이트에 지역전계강화 효과를 이용한 아날로그 어레이 설계 (Design of an Analog Array using Enhancement of Electric Field on Floating Gate MOSFETs)

  • 채용웅
    • 한국전자통신학회논문지
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    • 제8권8호
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    • pp.1227-1234
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    • 2013
  • 1.2 더블 폴리 부유게이트 트랜지스터로 구성된 아날로그 메모리가 CMOS 표준공정에서 제작되었다. 효율적인 프로그래밍을 위해 일반적인 아날로그 메모리에서 사용되었던 불필요한 초기 소거 동작을 제거하였으며 프로그래밍과 읽기의 경로를 동일하게 가져감으로서 읽기 동작 시에 발생하는 증폭기의 DC 오프셋 문제를 근본적으로 제거하였다. 어레이의 구성에서 특정 셀을 주변의 다른 셀들로부터 격리시키는 패스 트랜지스터 대신에 Vmid라는 별도의 전압을 사용하였다. 실험 결과 아날로그 메모리가 디지털 메모리의 6비트에 해당하는 정밀도를 보였으며 프로그래밍 시에 선택되지 않은 주변의 셀들에 간섭 효과가 없는 것으로 확인되었다. 마지막으로, 아날로그 어레이를 구성하는 셀은 특이한 모양의 인젝터 구조를 가지고 있으며, 이것은 아날로그 메모리가 특별한 공정 없이도 트랜지스터의 breakdown 전압 아래에서 프로그래밍 되도록 하였다.

부유게이트를 이용한 아날로그 어레이 설계 (Design of an Analog Array Using Floating Gate MOSFETs)

  • 채용웅;박재희
    • 전자공학회논문지C
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    • 제35C권10호
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    • pp.30-37
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    • 1998
  • 1.2㎛ 더블 폴리 부유게이트 트랜지스터로 구성된 아날로그 메모리가 CMOS 표준공정에서 제작되었다. 효율적인 프로그래밍을 위해 일반적인 아날로그 메모리에서 사용되었던 불필요한 초기 소거 동작을 제거하였으며 프로그래밍과 읽기의 경로를 동일하게 가져감으로서 읽기 동작 시에 발생하는 증폭기의 DC offset 문제를 근본적으로 제거하였다. 어레이의 구성에서 특정 셀을 주변의 다른 셀들로부터 격리시키는 패스 트랜지스터 대신에 Vmid라는 별도의 전압을 사용하였다. 실험 결과 아날로그 메모리가 디지털 메모리의 6비트에 해당하는 정밀도를 보였으며 프로그래밍 시에 선택되지 않은 주변의 셀들에 간섭 효과가 없는 것으로 확인되었다. 마지막으로, 아날로그 어레이를 구성하는 셀은 특이한 모양의 인젝터 구조를 가지고 있으며, 이것은 아날로그 메모리가 특별한 공정 없이도 트랜지스터의 breakdown 전압 아래에서 프로그래밍 되도록 하였다.

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디지털 시스템설계를 위한 CMOS 인버터게이트 셀의 지연시간 (The Delay time of CMOS inverter gate cell for design on digital system)

  • 여지환
    • 한국산업정보학회:학술대회논문집
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    • 한국산업정보학회 2002년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.195-199
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    • 2002
  • This paper describes the effect of substrate back bias of CMOS Inverter. When the substrate back bias applied in body, the MOS transistor threshold voltage increased and drain saturation current decreased. The back gate reverse bias or substrate bias has been widely utilized and the following advantage has suppressing subthreshold leakage, lowering parasitic junction capacitance, preventing latch up or parasitic bipolar transistor, etc. When the reverse voltage applied substrate, this paper stimulated the propagation delay time CMOS inverter.

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16Mb DRAM의 중요 기술적 문제점

  • 김창현;신윤승;진대제
    • 전기의세계
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    • 제38권4호
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    • pp.12-19
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    • 1989
  • 16Mb DRAM을 개발하는데 필요한 주요한 기술적인 문제점으로 설계면에서는 전력소모, Noise, Vcc내부 전압강하회로를 들 수 있다. 기술적인 면은 CELL을 어떻게 형상화느냐에 따라 문제가 다르게 나타나나 단차에 따른 photo/etching, 박막의 leakage전류와 reliability, short channel에 따른 transistor특성의 안정화등이 있다. 특히 16Mb에서는 stack형, stack과 trench의 병합형이 cell의 주요형태가 될 전망이다.

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Printed Organic One-Time Programmable ROM Array Using Anti-fuse Capacitor

  • Yang, Byung-Do;Oh, Jae-Mun;Kang, Hyeong-Ju;Jung, Soon-Won;Yang, Yong Suk;You, In-Kyu
    • ETRI Journal
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    • 제35권4호
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    • pp.594-602
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    • 2013
  • This paper proposes printed organic one-time programmable read-only memory (PROM). The organic PROM cell consists of a capacitor and an organic p-type metal-oxide semiconductor (PMOS) transistor. Initially, all organic PROM cells with unbroken capacitors store "0." Some organic PROM cells are programmed to "1" by electrically breaking each capacitor with a high voltage. After the capacitor breaking, the current flowing through the PROM cell significantly increases. The memory data is read out by sensing the current in the PROM cell. 16-bit organic PROM cell arrays are fabricated with the printed organic PMOS transistor and capacitor process. The organic PROM cells are programmed with -50 V, and they are read out with -20 V. The area of the 16-bit organic PROM array is 70.6 $mm^2$.

The Role of a Wiring Model in Switching Cell Transients: the PiN Diode Turn-off Case

  • Jedidi, Atef;Garrab, Hatem;Morel, Herve;Besbes, Kamel
    • Journal of Power Electronics
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    • 제17권2호
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    • pp.561-569
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    • 2017
  • Power converter design requires simulation accuracy. In addition to the requirement of accurate models of power semiconductor devices, this paper highlights the role of considering a very good description of the converter circuit layout for an accurate simulation of its electrical behavior. This paper considers a simple experimental circuit including one switching cell where a MOSFET transistor controls the diode under test. The turn-off transients of the diode are captured, over which the circuit wiring has a major influence. This paper investigates the necessity for accurate modeling of the experimental test circuit wiring and the MOSFET transistor. It shows that a simple wiring inductance as the circuit wiring representation is insufficient. An adequate model and identification of the model parameters are then discussed. Results are validated through experimental and simulation results.