비휘발성 메모리 적용을 위한 $SiO_2/ZrO_2$ 다층 유전막의 전기적 특성
(Electrical characteristic of stacked $SiO_2/ZrO_2$ for nonvolatile memory application as gate dielectric)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
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- pp.134-135
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- 2008