Diethylcarbamazine (DEC, 1-diethylcarbamyl-4-methylpiperazine) is an antiparasitic piperazine derivative used in the treatment of lymphatic filariasis caused by Wuchereria bancrofti, Brugia malayi or grugia timori. DEC-N-oxide is a major metabolite in humans and has antifilarial activity. In carrying out pharmacokinetic studies, gas chromatographic analysis of DEC in plasma can be complicated by the presence of the metabolite, since the thermally unstable DEC-N-oxide is converted back to a material which coelutes with DEC under the conditions of the analysis. We now report a method to separate DEC-N-oxide from DEC in plasma using solid phase extraction with subsequent gas chromatographic analysis using a nitrogen specific detector. One-diethylcarbamyl-4-ethylpiperazine (E-DEC) was the internal standard. The standard curve of DEC was linear in the range of 10 to 200 ng/ml as described by Y=0.0350+0.0128X, $R^2=0.999$. The limit of quantitation was 4 ng/mL. Reproducibility at 10, 100 and 200 ng/mL concentration points of the standard curve gave coefficient variations of 6.1%, 7.8% and 1.6%, respectively. The recovery following solid phase extraction was 99.3% for DEC and 94.8% for the internal standard. This sensitive and specific analytical method is suitable for pharmacokinetic studies of DEC.
본 논문에서는 IR-UWB 통신에 적합한 저전력, 저복잡도의 CMOS RF 수신기를 제작하였다. 제안된 IR-UWB 수신기는 비교적 구조가 간단한 non-coherent demodulation 방식으로 설계, 제작되었다. 설계된 IR-UWB 수신기는 single-ended 2-stage LNA, S2D, envelop detector, VGA, comparator로 구성되어 있으며, 0.18 ${\mu}m$ CMOS 공정 기술을 이용하여 단일 칩으로 설계, 제작하였다. 측정 결과 data rate이 1 Mbps 일 때 BER값이 $10^{-3}$ 조건에서 sensitivity는 -80.8 dBm이다. 제작된 단일 칩 CMOS IR-UWB 수신기의 전류 소모는 전압이 1.8 V 일 때, 13 mA이며 23.4 nJ/bit 의 성능을 갖는다.
비냉각 열상장비의 핵심 부품으로 사용되는 InfraRed Focal Plane Array(IRFPA)용 CMOS ReadOut IC (ROIC)를 설계하였다. 설계된 ROIC는 64×64 배열의 Barium Strontium Titanate(BST) 적외선 검출기에서 검출되는 신호를 받아 이를 적절히 증폭하고 잡음제거 필터링을 거쳐 pixel 단위로 순차적으로 출력하는 기능을 수행하며, 검출기 소자와의 임피던스 매칭, 저잡음 및 저전력 소모, 검출기 소자의 pitch 등의 사양을 만족하도록 설계되었다. 검출기 소자와 전치 증폭기 사이의 임피던스 매칭을 위해 MOS 다이오드 구조를 기본으로 하는 새로운 회로를 고안하여 적용함으로써 표준 CMOS 공정으로 구현이 가능하도록 하였다. 또한, tunable 저역통과 필터를 채용하여 신호대역 이상의 고주파 잡음이 제거되도록 하였으며, 단위 셀 내부에 클램프 회로를 삽입하여 출력신호의 신호 대 잡음비가 개선되도록 하였다. 64×64 IREPA ROIC는 0.65-㎛ 2P3M (double poly, tripple metal) N-Well CMOS 공정으로 설계되었으며, 트랜지스터, 커패시터 및 저항을 포함하여 약 62,000여개의 소자로 구성되는 코어 부분의 면적은 약 6.3-{{{{ { mm}_{ } }}}}×6.7-{{{{ { mm}_{ } }}}}이다.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제3권2호
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pp.28-31
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2002
The Cdl-xZnxTe film was fabricated by thermal evaporation for the flat-panel X-ray detector. The stoichimetric ratio and the crystal structure of a polycrystalline Cd$_{1-x}$ Zn$_{x}$Te were investigated by EPMA and XRD, respectively. The leakage current and X-ray sensitivity of the fabricated films were measured to analyze the X-ray response characteristic of Zn in the polycrystalline CdZnTe thin film. The leakage current and the output charge density of Cd$_{0.7}$Zn$_{0.3}$Te thin film were measured to 0.37 nA/cm$^2$ and 260 pc/cm$^2$ at an applied voltage of 2.5 V/${\mu}{\textrm}{m}$, respectively. Experimental results showed that the increase of Zn doping rates in Cd$_{1-x}$ Zn$_{x}$Te detectors reduced the leakage current and improved the signal to noise ratio significantly.
Bulk type radiation detector of Au/Cd$_{1-x}$ Zn$_{x}$Te(x=20%)/Au structure using Cd$_{1-x}$ Zn$_{x}$Te(x=20%) wafer(3x4xl mm$^{3}$) grown by high pressure Bridgman method has been developed. We etched wafer surfaces with 2% Br-methanol solution and coated gold thin film on the surfaces by electroless deposition method for 5 min. in 49/o HAuCI$_{3}$ 4H20 solution. Initial etch rates of Cd, Zn and Te were 46%, 12% and 42% respectively. After etched, the surface of wafer was slightly revealed to Te rich condition. The leakage current was increased with etch time, but it didn't exceed 3nA at 50volt. The thickness of Au film was about 100nm by Rutherford Backscattering Spectroscopy(RBS). The resolution were 6.7% for 22.1 keV photon from 109 $^{109}$ Cd and 8.2% for 59.5 keV photon from $^{241}$ Am. The radiation detector such as Au/Cd$_{1-x}$ Zn$_{x}$Te(x=20%)/Au structure was more effective to monitor the low energy gamma radiation.iation.
In this work we investigated coupling of the m2 and m4 subtypes of muscarinic acetylcholine receptors expressed in chinese hamster ovary (CHO) cells to activation of neuronal nitric oxide synthase (nNOS). Stimulation of guanylate cyclase activity in detector neuroblastoma cells was used as an index of generation of nitric oxide (NO) in CHO cells. The agonist carbachol induced marked time and concentration-dependent enhancement of the activity of nNOS at m2 receptors. In sharp contrast, the response in CHO cells transfected with the m4 receptor gene was similar in magnitude to that observed in non-transfected cells, suggesting lack of significant coupling of m4 muscarinic receptors to NO signaling. This novel observation of functional divergence of the two muscarinic receptor subtypes at the level of activation of nNOS is quite intriguing, in light of the currently accepted dogma that they belong to the same functional class. This functional selectivity was not due to differential effects on intracellular Ca$\^$2+/ concentration, since activation of both subtypes of muscarinic receptors produced a comparable, albeit quite small, Ca$\^$2+/ signal. Taken together, our present data strongly suggest that the generally assumed functional equivalence of m2 and m4 muscarinic receptors should be carefully reexamined. These data also suggest the presence of alternate mechanisms of activation of nNOS, which might be operative in the absence of large changes in the concentration of cellular Ca$\^$2+/. The latter mechanisms are expected to be activated by m2, but not m4 muscarinic receptors. Both sets of findings are quits important in regards to refining the functional classification of muscarinic receptor subtypes and the cellular mechanisms of activation of NOS.
This study observed the performance of an InAs/GaSb type-II superlattice photodiode with a p-i-n structure for mid-wavelength infrared detection. The 10 ML InAs/10 ML GaSb type-II superlattice photodiode was grown using molecular beam epitaxy. The cutoff wavelength of the manufactured photodiode with Si3N4 passivation on the mesa sidewall was determined to be approximately 5.4 and 5.5 ㎛ at 30 K and 77 K, respectively. At a bias of -50 mV, the dark-current density for the Si3N4-passivated diode was measured to be 7.9 × 10-5 and 1.1 × 10-4 A/㎠ at 77 K and 100 K, respectively. The differential resistance-area product RdA at a bias of -0.15 V was 1481 and 1056 Ω ㎠ at 77 K and 100 K, respectively. The measured detectivity from a blackbody source at 800 K was calculated to be 1.1 × 1010 cm Hz1/2/W at zero bias and 77 K.
InAs/GaSb 제2형 응력초격자(SLS)를 활성층에 탑재한 [$320{\times}256$] 초점면 배열(FPA) 적외선 열영상 모듈을 제작하고 열영상을 구현하였다. p-i-n형으로 설계된 소자의 활성층(i) 구조는 300 주기의 [13/7]-ML [InAs/GaSb]-SLS로 구성되어 있고, p와 n 전극층에는 각각 60주기의 [InAs:Be/GaSb]-SLS와 115 주기의 [InAs:Si/GaSb]-SLS 구조를 채용하였다. 시험소자의 광반응(PR) 스펙트럼으로부터 피크 파장(${\lambda}_p$)과 차단 파장(${\lambda}_{co}$)은 각각 ${\sim}3.1/2.7{\mu}m$과 ${\sim}3.8{\mu}m$이고 180 K 온도까지 동작을 확인하였다. 단위 화소의 간격/메사는 $30/24{\mu}m$ 규격으로 설계되었으며, [$320{\times}256$]-FPA는 표준 광묘화법으로 제작하였다. $18/10{\mu}m$의 In-bump/UBM 공정과 flip-chip 결합 기술을 적용하여 FPA-ROIC 열영상 모듈을 완성하였으며, 중적외선용 영상구동 회로 및 S/W를 활용하여 열영상을 시연하였다.
본 논문에서는 0.25-$\mu$m 디지털 CMOS공정으로 제작된 UHF대역 RFID를 위한 무선통신용 쿼드러처(Quadrature) 출력이 가능한 Integer-N방식의 PLL 주파수 합성기를 설계 및 제작하여 측정하였다. Integer-N 방식의 주파수 합성기의 주요 블록인 쿼드러처 전압제어 발진기(Voltage Controeld Oscillator, VCO)와 위상 주파수 검출기(Phase Frequency Detector, PFD), 차지 펌프(Charge Pump, CP)를 설계하고 제작하였다. 전압제어발진기는 우수한 위상노이즈 특성과 저전력 특성을 얻기 위해 LC 공진기를 사용하였으며 전압제어 가변 캐패시터는 P-channel MOSFET의 소스와 드레인 다이오드를 이용하여 설계되었으며 쿼드러처 출력을 위해 두 개의 전압제어발진기를 서로 90도 위상차를 가지도록 설계하였다. 주파수 분주기는 프리스케일러(Pre-scaler)와 아날로그 디바이스사의 칩 ADF4111을 사용하였으며 루프 필터는 3차 RC필터로 설계하여 측정하였다. 측정결과 주파수 합성기의 RF 출력 전력은 50옴 부하에서 -13dBm이고, 위상 잡음은 100KHz offset 주파수에서 -91.33dBc/Hz 이었으며, 동작 주파수영역은 최소 930MHz에서 최대 970MHz이고 고착시간은 약 600$\mu$s이다.
This paper describes the characteristics of a poly 3C-SiC micro heater which was fabricated on $AlN(0.1{\mu}m)/3C-SiC(1.0{\mu}m)$ suspended membranes by surface micro- machining technology. The 3C-SiC and AlN thin films which have wide energy bandgap and very low lattice mismatch were used sensors for high temperature and voltage environments. The 3C-SiC thin film was used as micro heaters and temperature sensor materials simultaneously. The implemented 3C-SiC RTD (resistance of temperature detector) and the power consumption of micro heaters were measured and calculated. The TCR (thermal coefficient of the resistance) of 3C-SiC RTD is about -5200 $ppm/^{\circ}C$ within a temperature range from $25^{\circ}C$ to $50^{\circ}C$ and -1040 $ppm/^{\circ}C$ at $500^{\circ}C$. The micro heater generates the heat about $500^{\circ}C$ at 10.3 mW. Moreover, durability of 3C-SiC micro heaters in high voltages is better than pt micro heaters. A thermal distribution measured and simulated by IR thermovision and COMSOL is uniform on the membrane surface.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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