a-Si is commonly considered as a primary candidate for the formation of passivation layer in heterojunction (HIT) solar cells. However, there are some problems when using this material such as significant losses due to recombination and parasitic absorption. To reduce these problems, a wide bandgap material is needed. A wide bandgap has a positive influence on effective transmittance, reduction of the parasitic absorption, and prevention of unnecessary epitaxial growth. In this paper, the adoption of a-SiOx:H as the intrinsic layer was discussed. To increase lifetime and conductivity, oxygen concentration control is crucial because it is correlated with the thickness, bonding defect, interface density (Dit), and band offset. A thick oxygen-rich layer causes the lifetime and the implied open-circuit voltage to drop. Furthermore the thicker the layer gets, the more free hydrogen atoms are etched in thin films, which worsens the passivation quality and the efficiency of solar cells. Previous studies revealed that the lifetime and the implied voltage decreased when the a-SiOx thickness went beyond around 9 nm. In addition to this, oxygen acted as a defect in the intrinsic layer. The Dit increased up to an oxygen rate on the order of 8%. Beyond 8%, the Dit was constant. By controlling the oxygen concentration properly and achieving a thin layer, high-efficiency HIT solar cells can be fabricated.
Piezoelectric fields built in I $n_{x}$G $a_1$$_{-x}$N/GaN (x=0.06∼0.1) quantum wells (QWs) have been estimated by comparing the transition energies, both calculated and measured by photoluminescence (PL). The calculation was numerically carried out with a rectangular QW model, where the effective bandgap considering a bowing facto, energy levels quantized for the lowest lying electrons and heavy holes (1e-lhh), and biaxial compressive strain were included except for the piezoelectric fields. The calculated values were observed to be larger (9∼15 meV) than the measured values by PL, which was considered to be caused by the piezoelectric fields built in InGaN/GaN QW interface. In addition, we observed the energy shift by measuring the EPDPL (excitation power-dependent PL), which was compared with the energy difference caused by the piezoelectric fields.
Investigation of improving the properties of UV detector which uses the wide bandgap of ZnO are under active progress. The present study focused on the design and fabrication of i-ZnO/p-inversion $layer/n^--Si$ Epi. which is characterized with very thin p-type inversion layer for UV detectors. The i-ZnO thin film for achieving p-inversion layer which was grown by RF sputtering at $450^{\circ}C$ and then annealed at $400^{\circ}C$ in $O_2$ gas for 20 min shows good intrinsic properties. High (0002) peak intensity of the i-ZnO film is shown on XRD spectrum and it is confirmed by XPS analysis that the ratio of Zn : O of the i-ZnO film is nearly 1 : 1. Measurement shows high transmission of 79.5 % in UV range (< 400 nm) for the i-ZnO film. Measurement of $V_r-I_{ph}$ shows high UV photo-current of 1.2 mA under the reverse bias of 30 V.
Kim, Hong-Rae;An, Byoung-Gi;Chang, Young Wook;Kang, Min-Jung;Park, Jae-Gwan;Pyun, Jae-Chul
한국세라믹학회지
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제56권3호
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pp.308-316
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2019
CdSxSe1-x ternary alloy nanowires (x = 0, 0.5, 1.0) were fabricated by in-situ synthesis on interdigitated electrode. Morphology analysis of the alloy nanowires according to the synthesis zone and composition analysis of the nanowires were carried out by SEM and EDX. The crystal structures of the alloy nanowires were studied by XRD analysis. The I-V characteristics of the nanowire photosensors were analyzed according to the intensity of incident light. The influence of zonal synthesis position on the photosensor response to the wavelength of incident light was also analyzed, and was found to be related to the bandgap of alloy nanowires. The analysis results indicate that photosensors with a specific photoresponse could be selected based on the composition of the source materials of nanowires as well as by controlling the in-situ synthesis zone.
We have investigated $Al_{x}$$Ga_{l-x}$ N/GaN epilayers (x = 0.08, 0.15) grown by metal organic vapor phase epitaxy on sapphire with photoluminescence(PL), and persistent photoconductivity(PPC) experiments. An anomalous S-shaped shift behavior of temperature dependencies of PL peak energy is observed for the x = 0.15 sample. In PPC measurement, showed that the dark current recovery time of $Al_{x}$$Ga_{l-x}$ N/GaN epilayers mainly depends on the Al content. These behaviors are usually attributed to the presence of carrier localization states. All these phenomena are explained based on the alloy compositional fluctuations in the $Al_{x}$ /$Ga_{l-x}$ N/ epilayers. The photocurrent quenching observed in PPC measurements for $Al_{x}$$Ga_{l-x}$ N/ epilayers less than 0.2 $\mu\textrm{m}$ thickness indicates that the presence of metastable state in the bandgap of GaN layer, and that the excess holes in the valence band recombine with free electrons.
A high NIR-reflective black pigment is developed by Mn doping of Fe2O3. The pigment powders are prepared by spray pyrolysis, and the effect of the Mn concentration on the blackness and optical properties is investigated. Mn doping into the crystal lattice of α-Fe2O3 is found to effectively change the powder color from red to black, lowering the NIR reflectance compared to that of pure Fe2O3. The pigment doped with 10% Mn, i.e., Fe1.8Mn0.2O3, exhibits a black color with an optical bandgap of 1.3 eV and a Chroma value of 1.14. The NIR reflectance of the prepared Fe1.8Mn0.2O3 black pigment is 2.2 times higher than that of commercially available carbon black, and this material is proven to effectively work as a cool pigment in a temperature rise experiment under near-infrared illumination.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제16권3호
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pp.130-134
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2015
This research proposes the use of a composition modulated (ZrO2)x(Al2O3)1-x film as a charge trapping layer for charge trap flash memory; this is possible when the Zr (Al) atomic percent is controlled to form a variable bandgap as identified by the valence band offsets and electron energy loss spectrum measurements. Compared to memory devices with uniform compositional (ZrO2)0.1(Al2O3)0.9 or a (ZrO2)0.92(Al2O3)0.08 trapping layer, the memory device using the composition modulated (ZrO2)x(Al2O3)1-x as the charge trapping layer exhibits a larger memory window (6.0 V) at the gate sweeping voltage of ±8 V, improved data retention, and significantly faster program/erase speed. Improvements of the memory characteristics are attributed to the special energy band alignments resulting from non-uniform distribution of elemental composition. These results indicate that the composition modulated (ZrO2)x(Al2O3)1-x film is a promising candidate for future nonvolatile memory device applications.
Tb3+-doped CaNb2O6 (CaNb2O6:Tb3+) thin films were deposited on quartz substrates at a growth temperature of 300 ℃ using radio-frequency magnetron sputtering. The deposited thin films were annealed at several annealing temperatures for 20 min and characterized for their structural, morphological, and luminescent properties. The experimental results showed that the annealing temperature had a significant effect on the properties of the CaNb2O6:Tb3+ thin films. The crystalline structure of the as-grown CaNb2O6:Tb3+ thin films transformed from amorphous to crystalline after annealing at temperatures greater than or equal to 700 ℃. The emission spectra of the thin films under excitation at 251 nm exhibited a dominant emission band at 546 nm arising from the 5D4→7F5 magnetic dipole transition of Tb3+ and three weak emission bands at 489, 586, and 620 nm, respectively. The intensity of the 5D4→7F5 (546 nm) magnetic dipole transition was greater than that of the 5D4→7F6 (489 nm) electrical dipole transition, indicating that the Tb3+ ions in the host crystal were located at sites with inversion symmetry. The average transmittance at wavelengths of 370~1,100 nm decreased from 86.8 % at 700 ℃ to 80.5 % at an annealing temperature of 1,000 ℃, and a red shift was observed in the bandgap energy with increasing annealing temperature. These results suggest that the annealing temperature plays a crucial role in developing green light-emitting CaNb2O6:Tb3+ thin films for application in electroluminescent displays.
우리가 잘 아는 반도체 응용분야 중 하나인 박막 태양전지의 기본원리와 이를 양산하기위해 극복해야 할 문제점들과 실제로 어떠한 방향으로 세계적인 연구가 진행되고 있는지 알아 본다. 특히 Si Bulk와 CIGS 박막 태양전지의 측정분석 tool의 차이점은 무엇인지, CIGS 박막 태양전지의 효율 저하를 유발하는 Killer defect들은 어떤 것들이 있는지, 그리고 어떻게 하면 20% 이상의 고효율을 달성할 수 있을지 살펴 보고자 한다. 특히 이러한 효율저하를 일으키는 Sub-bandgap defect에서의 Recombination mechanism에 대한 Device Physics를 SCAPS simulation을 이용하여 쉽게 설명하고자 한다.
This study reports the effects of $H_2S$ gas concentration on the properties of $Cu_2ZnSnS_4(CZTS)$ thin films. Specifically, sulfurization process with low $H_2S$ concentrations of 0.05% and 0.1%, along with 5% $H_2S$ gas, was studied. CZTS films were directly synthesized on Mo/Si substrates by chemical bath deposition method using copper sulfate, zinc sulfate heptahydrate, tin chloride dihydrate, and sodium thiosulfate pentahydrate. Smooth CZTS films were grown on substrates at optimized chemical bath deposition condition. The CZTS films sulfurized at low $H_2S$ concentrations of 0.05 % and 0.1% showed very rough and porous film morphology, whereas the film sulfurized at 5% $H_2S$ yielded a very smooth and dense film morphology. The CZTS films were fully crystallized in kesterite crystal form when they were sulfurized at $500^{\circ}C$ for 1 h. The kesterite CZTS film showed a reasonably good room-temperature photoluminescence spectrum that peaked in a range of 1.4 eV to 1.5 eV, consistent with the optimal bandgap for CZTS solar cell applications.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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