• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제17권4호
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• pp.373-377
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• 2004

We have investigated the electrical characterization of metal-oxide-semiconductor (MOS) capacitors formed on the inductively coupled plasma (ICP) etch-damaged both n- and p-type 4H-SiC. We found that there was an effect of a sacrificial oxidation treatment on the etch-damaged surfaces. Current-voltage and capacitance-voltage measurements of these MOS capacitors were used and referenced to those of prepared control samples without etch damage. It has been found that a sacrificial oxidation treatment can improve the electrical characteristics of MOS capacitors on etch-damaged 4H-SiC since the effective interface density and fixed oxide charges of etch-damaged samples have been found to increase while the breakdown field strength of the oxide decreased and the barrier height at the SiC-SiO$_2$ interface decreased for MOS capacitors on etch-damaged surfaces.

• 한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집
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• 한국반도체및디스플레이장비학회 2003년도 추계학술대회 발표 논문집
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• pp.45-49
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• 2003

본 논문에서는 gate 산화막을 위한 Hf oxide 박막을 $Hf(dmae)_4$ (dmae=dimethylaminoethoxide) 전구체로 Direct Liquid Injection Metal Organic Chemical Vapor Deposition (DLI-MOCVD)방법을 이용하여 p-type Si(100) 기판 위에 증착하였다. 이 전구체를 이용하여 $150^{\circ}C$의 낮은 증착 온도에서도 낮은 carbon 농도와 roughness를 가지는 양질의 박막을 증착할 수 있었다. 증착된 박막은 비정질 구조를 나타내었지만 annealing 온도를 증가시킴에 따라서 결정성(monoclinic phase)을 나타내었다. $500{\AA}$으로 증착한 박막을 C-V 와 I-V curve를 통하여 전기적 특성을 평가하였다. 열처리 온도가 증가함에 따라 유효유전상수(k)는 증가하지만 열처리 온도가 $900^{\circ}C$ 이상이 되면 계면층의 형성에 의해 유효유전상수는 감소하게 되고 이에 따라 누설 전류도 감소하게 된다. 산소분위기 $800^{\circ}C$에서 annealing한 $HfO_2$ 박막의 유전상수는 20.1이고, 누설 전류 밀도는 SV에서 $2.2\times10^{-6}A/\textrm{cm}^2$ 로 좋은 전기적 특성을 가진다.

• 한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집
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• 한국반도체및디스플레이장비학회 2002년도 추계학술대회 발표 논문집
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• pp.10-13
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• 2002

본 논문에서는 P-type (100)Si 기판위에 RF magnetron sputtering법으로 강유전체 BST 박막을 증착하기 위한 완충층용(buffer layer) MgO 박막을 제작하였다. 증착 시 기판온도는 $400^{\circ}C$, 작업가스 Ar:$O_2$:=80:20, 작업진공 10m torr에서 RF 파워를 25W, 50W, 7SW로 변화하면서 증착하여 최적의 RF 파워조건을 확립하였다. XRD 측정결과 RF 파워 세기에 관계없이 MgO(200)피크만 관찰되었고 RF 파워 5OW에서 제작한 박막이 가장 양호한 결정성을 나타내었고 이 때 I-V측정결과 $\pm$ 1.5 MV/$cm^2$에서 $10^{-7}$A/$cm^2$이하의 양호한 누설전류특성을 나타내었고 C-V 측정결과 히스테리시스가 거의없는 양호한 인터페이스 특성을 보여주었고 비유전율은 약 8.4였다.

• 한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집
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• 한국반도체및디스플레이장비학회 2002년도 추계학술대회 발표 논문집
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• pp.34-46
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• 2002

Si-O-C-H films with a low dielectric constant were deposited on a p-type Si(100) substrate using a mixture gases of the bis-trimethylsilyl-methane (BTMSM) and oxygen by an inductively coupled plasma chemical vapor deposition (ICPCYD). High density plasma of about $~10^{12}\textrm{cm}^{-3}$ is obtained at low pressure (<400 mTorr) with rf power of about 300W in ICPCVD where the BTMSM and $O_2$ gases are fully dissociated. Fourier transform infrared (FTIR) spectra and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) spectra show that the film has $Si-CH_3$ and OH-related bonds. The void within films is formed due to $Si-CH_3$ and OH-related bonds after annealing at $500^{\circ}C$ for the as-deposition samples. The lowest relative dielectric constant of annealed film at $500^{\circ}C$ is about 2.1.

• JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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• 제11권2호
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• pp.80-87
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• 2011

Low temperature hole transport characteristics of gate-all-around p-channel metal oxide semiconductor (PMOS) type silicon nanowire field-effect-transistors with the radius of 5 nm and lengths of 44-46 nm are presented. They show coexisting two single hole states randomly switching between each other. Analysis of Coulomb diamonds of these two switching states reveals a variety of electrostatic effects which is originated by the potential of a single hole captured in the trap near the nanowire.

• 한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집
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• 한국반도체및디스플레이장비학회 2004년도 춘계학술대회 발표 논문집
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• pp.174-178
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• 2004

본 논문에서는 P-type (100)Si 기판위에 RF magnetron sputtering법으로 완충층용 MgO 박막을 $500\AA$ 증착한 후 제작된 MgO/Si 기판위에 BST 박막을 증착하였다. 증착 시 기판온도는 $400^{\circ}C$ 작업가스 $AR:O_2:=80:20$, 작업진공 10mtorr에서 RF 파워를 25W, 50W, 75W로 변화하면서 증착하여 최적의 RF 파워조건을 확립하였다. XRD 측정결과 25W에서 증착된 BST 박막은 배향성이 보이지 않는 비정질 형태로 성장되었고 50W에서 증착된 박막의 결정특성이 가장 양호하였다. I-V측정결과 모든 샘플에서 $\pm150KV/cm$에서 $10^{-7}A/\textrm{cm}^2$이하의 양호한 누설전류특성을 나타내었고 C-V측정 결과 역시 50W에서 증착된 BST 박막의 비유전율이 약 305로서 가장 우수한 특성을 보여주었다.

• 반도체디스플레이기술학회지
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• 제21권3호
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• pp.98-100
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• 2022

This paper presents a new blockchain based donation platform combined with a type of gaming application. The proposed donation platform is similar to existing play-to-earn (P2E), but it has different characteristics such as non-liquidated token and direct transfer to a celebrity donation organization. Moreover, it has advantages like a robustness for counterfeiting and falsification as well as enhanced donating experience.

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제47권10호
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• pp.14-22
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• 2010

기존의 n-type metal-oxide-semiconductor field effect transistor(NMOSFET)은 $n^+/p^{(+)}/n^+$ type의 이온 주입을 통하여 소스/채널/드레인 영역을 형성하게 된다. 30 nm 이하의 채널 길이를 갖는 초미세 소자를 제작함에 있어서 설계한 유효 채널 길이를 정확하게 얻기 위해서는 주입된 이온들을 완전히 activation하여 전류 수준을 향상시키면서도 diffusion을 최소화하기 위해 낮은 thermal budget을 갖도록 공정을 설계해야 한다. 실제 공정에서의 process margin을 완화할 수 있도록 오히려 p-type 채널을 형성하져 않으면서도 기존의 NMOSFET의 동작을 온전히 구현할 수 있는 junctionless(JL) MOSFET이 연구중이다. 본 논문에서는 3차원 소자 시뮬레이션을 통하여 silicon nanowire(SNW) 구조에 접목시킨 JL MOSFET을 최적 설계하고 그러한 조건의 소자에 대하여 conductance, maximum oscillation frequency($f_{max}$), current gain cut-off frequency($f_T$) 등의 기본적인 고주파 특성을 분석한다. 채널 길이는 30 nm이며 설계 변수는 채널 도핑 농도와 채널 SNW의 반지름이다. 최적 설계된 JL SNW NMOSFET에 대하여 동작 조건($V_{GS}$ = $V_{DS}$ = 1.0 V)에서 각각 367.5 GHz, 602.5 GHz의 $f_T$, $f_{max}$를 얻을 수 있었다.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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• pp.276-279
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• 2008

Air stable n-type organic field effect transistors (OFETs) based on CB60B are realized using a perfluoropolymer as the gate dielectric layer. The devices showed the field-effect mobility of $0.05\;cm^2P/V\;s$ in ambient air. Replacing the gate dielectric material by $SiO_2$ resulted in no transistor action in ambient air. Perfluorinated gate dielectric layer reduces interface traps significantly for the n-type semiconductor even in ambient air.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2011년도 제41회 하계 정기 학술대회 초록집
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• pp.67-67
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• 2011

Compound semiconductor/CNTs composites have shown considerably improved efficiency improvement in photovoltaic devices, which is often attributed to two different factors. One is the formation of efficient electronic energy cascade structures. The other effect of CNTs on the performance of photovoltaic devices is the decrement of interfacial resistance. The interfacial resistances at n-type/ p-type materials and/or n-type materials/TCO electrode are reduced by an outstanding electrical property of CNTs. In addition to the effects of CNTs, we report the third reason for increment of efficiency in photovoltaic devices by CNT's well-known electrical field enhancement effects. The improved ${\beta}$ values in reverse-FE currents of CIGS electrode with SWNTs layers indicate the enhancement of electrical field in photovoltaic devices, which implies the acceleration of the electron transfer rate in the cell. Due to the formation of an efficient electronic energy cascade structure and the decrease of the interfacial resistance as well as the improvement of the electrical field in the photovoltaic devices, the power conversion efficiency of electrochemically deposited superstrate-type CIGS solar cells was increased 24.3% in the presence of SWNTs and showed 10.40% conversion efficiency.