산업이 다양화.고도화됨에 따라 생산공정중에 불가피하게 발생되는 수많은 유해물질의 포집, 분석 방법에 대하여 우리실정에 알맞는 표준방법을 정함으로써 사업장 유해환경측정에 참고가 되고 나아가서 작업환경측정방법의 일원화를 도모하고자 노동부 국립노동과학연구소에서 수년간에 걸쳐 비교 연구하여 최근 보고한 바 있는 유해물질의 표준 실험 방법을 소개하고자 한다.
Recently, regulations on toxic compounds in aquatic environment have been strengthened in korea due to the increasing public awareness of the water quality. Typically, these regulations include introduction of emerging toxic compounds and stricter effluent limitations for the already regulated compounds. However, too strict regulations may cause excessive burden on the industry. Therefore it is also important to assess the economic impacts when the new effluent limitation guidelines are introduced. The estimation of the additional cost for the wastewater dischargers to meet the new guidelines are based on the selected treatment technology to handle the hazardous substances and the regulatory levels for effluent limitations. To explore the procedures for cost estimation in enforcing new effluent limitations, a case study was performed specially for 1,4-dichlorobenzene. The pollutants of concern are surveyed for different industrial categories and various treatment technologies. For a given pollutant, the general performances of the treatment technologies are surveyed and a representative technology is selected. For a given technology, the capital cost and annual Operation and Maintenance (O&M) cost was calculated. The calculation of baseline costs to operate ordinary treatment technologies is also important. The ratio between the cost for introducing new treatment process and the baseline cost required for conventional technology was used to evaluate the economic impact on the industry. For 1,4-dichlorobenzene, steam stripping and activated carbon processes were selected as the specific treatment technologies. The cost effects to the regulation of the compound were found to be 6.4% and 14.5% increase in capital cost and O&M cost, respectively, at the flow rate over $2,000m^3/d$ for the categories of synthetic resin and other plastics manufacturing industry. For the case of petrochemical basic compounds manufacturing industry, the cost increases were 5.8% and 12.4%, respectively. It was suggested that cost effect analysis to evaluate the economic impacts of new effluent limitations on the industry is crucial to establish more balanced and reasonable effluent limitations to manage the industrial wastewater containing emerging toxic compounds in the wastewater.
본 연구에서는 $1,000^{\circ}C$에서 24시간 열처리된 활성탄에서 다이옥신과 유사구조를 갖는 o-DCB(ortho-dichlorobenzene)의 등온흡착식을 실험을 통하여 구하였고, 분자모사를 통하여 예측하였다. 실험으로 분석된 활성탄의 분자식 및 작용기 비율을 바탕으로 초기 활성탄 기본구조를 설계한 후, COMPASS(condensed-phase optimized molecular potentials for atomistic simulation studies) force field를 이용하여 이 구조를 최적화하였다. 최적화된 활성탄 분자구조에서 공극률, 비표면적, 및 입자밀도의 모사결과는 실험값과 비교되었고, 이들에 대한 실험과 모사결과의 오차는 각각 7.62, 3.79, 2.80%를 보여주었다. 통계 열역학적 방법인 GCMC(Grand Canonical Monte Carlo) 기법을 이용하여, 최적화된 활성탄 구조에서 온도에 따른 o-DCB의 등온흡착 상수값을 예측하였으며, 이 모사결과는 실험값과 비교될 때, 3% 이하의 오차를 보였다. o-DCB의 흡착특성을 바탕으로 확인되어진 활성탄 구조에서 다이옥신의 일종인 2,3,7,8-TCDD(tetrachlorodibenzo-p-dioxin) 등온흡착상수, 흡착열, 그리고 기공확산계수를 최종적으로 구함으로서, 실험적으로 구하기 힘든 맹독성 잔류성 유기물질의 흡착특성을 분자모사기법을 통하여 예측하였다.
용액침전법에 의해 ZnO 및 $Zn_{0.95}Mn_{0.05}O$를 제조하였다. Mn이 5% 치환된 ZnO 시료는 순수한 ZnO의 띠 간격인 3.37 eV (380 nm 흡광)로부터 1.50 eV (800 nm 흡광)까지 띠 간격이 줄어들게 되어 자외선 영역 뿐 아니라 가시광선 전체 영역에서도 흡광이 발생하였다. 가시광선에서의 광촉매 활성에서도 $Zn_{0.95}Mn_{0.05}O$ 시료는 P-25보다도 더 높은 활성도를 나타냈다.
용액침전법에 의해 $TiO_2$ 및 $TiO_{2-x}N_x$를 제조하였다. $TiO_{2-x}N_x$ 시료는 순수한 $TiO_2$의 띠 간격인 3.20 eV (390 nm 흡광)로부터 1.77 eV (700 nm 흡광)까지 띠 간격이 줄어들게 되어 자외선 영역 뿐 아니라 가시광선 전체 영역에서도 흡광이 발생하였다. 가시광선에서의 광촉매 활성에서도 $TiO_{2-x}N_x$ 시료는 순수한 $TiO_2$ 및 P-25보다도 더 높은 활성도를 나타냈다.
In the present study, ROS detection of L5178Y cells that were treated with twenty test compounds in order to find out hydrogen peroxide ($H_2O_2$) induction for genotoxicity and carcinogenic toxicity. Twenty test compounds were consist of four classes, such as genotoxic carcinogens, genotoxic noncarcinogens, nongenotoxic carcinogens, and nongenotoxic noncarcinogens. Genotoxic carcinogens are 1,2-dibromoethane, glycidol, melphalan, diethylstilbestrol and urethane. Genotoxic noncarcinogens are 8-hydroxyquinoline, emodin, acetonitrile and diallylphthalate, L-ascorbic acid. Nongenotoxic carcinogens are methyl carbamate, O-nitrotoluene, 1,4-dioxane, tetrachloroethylene and 2,3,7,8-tetrachlorodibenzo-p-dioxin. And nongenotoxic noncarcinogens are D-mannitol, 1,2-dichlorobenzene, caprolactam, bisphenol A and chlorpheniramine maleate.
소각로 배가스 중의 유해물질중 다이옥신은 그 유해성이 알려지면서 심각한 사회문제로 대두되었다. 이러한 유해가스를 제거하기 위한 방법중의 하나인 활성탄의 분무 및 백필터의 여과 공정에 의한 유해물질 제거 효율을 조사하였다. 다이옥신은 그 독성이 강한 관계로 1,2-dichlorobenzene(o-DCB)을 전구물질로 사용하였으며, 공기 유량, 백필터 압력 손실, 백필터 운전온도, 활성탄 종류에 따른 o-DCB의 제거 효율을 조사하였다. 각 경우에 대한 실험 결과 소각로의 운전조건을 고려할 때 백필터에서의 운전온도 범위는 $140{\sim}170^{\circ}C$가 적합하며, 백필터에서의 압력손실은 백필터에 부착된 활성탄층에 의한 흡착성능을 고려할 때, $120mmH_2O$를 유지하는 것이 필요하였다. 활성탄과 규조토를 혼합하여 주입한 결과 활성탄과 동일량의 규조토를 투입할 시에는 90% 이상의 o-DCB를 제거할 수 있었고 또한 활성탄 투입량도 줄일 수 있었다.
Kim, Sung Hwan;Lim, Jin Woo;Yu, Jin;Kim, Jae Nyoung
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제34권10호
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pp.2915-2920
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2013
Convenient synthetic method for 4-arylethylpyrazoles and 4-styrylpyrazoles was developed using ${\alpha}$-alkenyl-${\alpha},{\beta}$-enones readily accessed from the Morita-Baylis-Hillman reaction. For the synthesis of 4-arylethylpyrazole, the reactions with arylhydrazines needed to be carried out in o-dichlorobenzene under $N_2$ balloon atmosphere. On the other hand, 4-styrylpyrazoles required the reactions in ethanol under $O_2$ balloon atmosphere.
본 논문에서 전계효과 트랜지스터 (field effect transistor; FET) 제작을 위한 표면 프로그램된 aminopropylethoxysilane(APTES)와 1-octadecyltrichlorosilane(OTS) 패턴을 이용하여 단일벽 탄소 나노튜브(single-walled carbon nanotube; SWCNT)를 실리콘 기판 위에 선택적으로 흡착시키는 공정방법을 제안하였다. 양성 표면 분자 패턴을 만들기 위해 형성된 APTES 패턴은 많은 양의 SWCNT의 흡착을 위해 제작되었고, OTS 만을 이용한 공정보다 효과적인 SWCNT 흡착이 가능하다. 산화막(silicon dioxide)이 형성된 실리콘 기판 위에 사진공정(photolithography process)을 이용하여 임의의 감광액(photoresist; PR) 패턴이 형성되었다. PR 패턴이 형성된 기판은 헥산 용매를 이용하여 1:500 (v/v)로 희석된 OTS 용액 속에 담가진다. OTS 박막이 표면 전체에 만들어지고, PR 패턴이 제거되는 과정에서 PR 위에 형성되었던 OTS 박막도 같이 제거되어, 선택적으로 형성된 OTS 박막 패턴을 얻을 수 있다. 이 기판은 다시 에탄올 용매를 이용하여 희석된 APTES 용액 속에 담가진다. APTES 박막은 OTS 박막 패턴이 없는 노출된 산화막 위에 형성된다. 마지막으로 이처럼 APTES와 OTS에 의해 표면 프로그램된 기판은 SWCNT가 분산된 다이클로로벤젠(dichlorobenzene) 용액 속에 담가진다. 결과적으로 SWCNT는 양 극성을 띠는(positive charged) APTES 박막 패턴 위에만 흡착된다. 반면 중성O TS 박막 패턴 위에는흡착되지 않는다. 이러한 표면 프로그램 방법을 사용하여 SWCNT는 원하는 영역에 자기 조립시킬 수 있다. 우리는 이 방법을 이용하여 소오스와 드레인 전극사이에 SWCNT가 멀티 채널로 구성된 다중채널 FET를 성공적으로 제작하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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