We have analyzed influence of potential rise in negative bus, which caused by decrease of power feeding line insulation, upon protecting method of DC ground protection device which detecting potential rise between negative bus and ground in order to detect ground fault in the rubber wheel system. For this purpose, we proposed negative potential equation between negative bus and ground and calculated negative potential according to system condition changes by estimating power feeding line insulation changes in steel wheel system and rubber wheel system, and equalizing DC power feeding system when ground fault occurred. Also, in order to estimate negative potential of real system, we modeled the rubber wheel system, and simulated normal status, grounding fault occurrence and power feeding line insulation changes. In normal status, negative potential did not rise significantly regardless of vehicle operation. When ground fault occurred, negative potential rose up over 300V regardless of fault resistance. However, we also observed that negative potential rose when power feeding line insulation dropped down under $1M{\Omega}$. In conclusion, our result shows that in case of rubber wheel system unlike steel wheel system, relay will be prevented maloperation and insulation status observation can be ensured when ground over voltage relay will be set 200V ~ 300V.
저온 플라스마 공정을 이용하여 알루미늄 표면에 묻은 윤활유를 세정하였다. 아르곤이 혼합된 산소 플라스마를 사용하였으며, 아르곤의 혼합비, 방전전력, negative DC potential 등의 공정변수를 변화시키면서 실험을 수행하였다. 저온 플라스마 세정 후 케이스의 표면을 FTIR과 EDX를 사용하여 분석한 결과 순수 윤활유의 경우 대부분이 20 min 안에 제거되었다. 제거효율은 저온 플라스마 공정조건에 따라 크게 달라졌으며, 산소에 아르곤이 약 30% 혼합된 기체를 사용하여 케이스에 -500 V 이상의 negative DC potential을 걸어주고 300 W로 처리할 때 가장 높은 효율을 보였다. 하지만, 무기물이 함유된 윤활유의 경우에는 어떤 조건에서도 60% 이상의 제거효율을 얻을 수 없었다.
Nowadays, in metropolitan railroad, DC feeding system is being generally applied. In order to reduce damages of electro-chemical corrosion caused by stray current and leakage current, in DC feeding system, rail is used as negative-polarity return conductor for traction load current. However, it has problem of rail potential increase and there are no adequate measures to prevent it in domestic. In this paper, we presented fundamental theory and related standards about rail potential increase. And then, we analyzed field testing data and simulated a variety of operations by using PSCAD/EMTDC as an analysis program of power system. In addition, voltage control device is suggested to prevent accidents caused by rail potential increase.
Nowadays, in metropolitan railroad, DC feeding system is being generally applied. In order to reduce damage of electro-chemical corrosion caused by stray current and leakage current, in DC feeding system, rail is used as negative-polarity return conductor for traction load current. However, it has problem of rail potential increase and there are no adequate measures to prevent it in domestic. The rise of rail potential leads to damage for human and equipments. To solve the problems, this paper presents fundamental theory and related standards about rail potential increase. And then, we analyzed field testing data and simulated a variety of operations by using PSCAD/EMTDC as an analysis program of power system. In addition, this paper suggests rail potential limit device and addresses how to the device. To verify the effect, simulation of DC feeding system before and after the application of the device is carried out in various cases.
The spatial potential distribution of electron cyclotron resonance plasma is measured as a function of tehsubstrate DC bias by Langmuir probe method. It is observed that the substrate DC bias changes the slope of the plasma potential near the subsrate, resulting in changes in flux and energy of the impinging ions across plasma $_strate boundary along themagnetric field. The effect of the substrate DC bias on the low-temperature silicon homoepitaxy (below $560^{\circ}C$) is examine dby in situ reflection high energy electron diffraction (RHEED), cross-section transmission electron microscopy (XTEM),plan-view TEM and high resolution transmision electron microscopy(HRTEM). While the polycrystalline silicon layers are grow withnegative substrate biases, the single crystaline silicon layers are grown with negative substrate biases, the singel crystalline silicon layers are grown with positive substrate biases. As the substrate bias changes form negative to positive values, the growth rate decreases. It is concluded that the control of the ion energy during plasma deposition is very important in silicon epitaxy at low temperatures below $560^{\circ}C$ by UHV-ECRCVD.VD.
The effect of external DC electric field on atmospheric corrosion behavior of zinc under a thin electrolyte layer (TEL) was investigated by measuring open circuit potential (OCP), cathodic polarization curve, and electrochemical impedance spectroscopy (EIS). Results of OCP vs. time curves indicated that the application of external DC electric field resulted in a negative shift of OCP of zinc. Results of cathodic polarization curves measurement and EIS measurement showed that the reduction current of oxygen increased while charge transfer resistance ($R_{ct}$) decreased under the external DC electric field. Variation of OCP negative shift, reduction current of oxygen, and $R_{ct}$ increase with increasing of external DC electric field strength as well as the effect of external DC electric field on double-layer structure in the electrode/electrolyte interface and ions distribution in thin electrolyte layer were analyzed. All results showed that the external DC electric field could accelerate the corrosion of zinc under a thin electrolyte layer.
본 논문은 직류 전기철도 급전시스템에서 레일전위와 누설전류의 분석 기법을 제시하였다. 일반적으로 직류 전기철도 급전시스템에서는 운행용 레일을 귀로 전류(부극성)의 도체로 사용하고 있으므로 레일전위가 발생하고, 특히 차량 운행용 레일과 대지사이의 저항이 작은 경우에는 대지로 흐르는 누설전류가 문제가 된다. 이 레일전위 및 누설전류는 레일 주변에 설치된 지하 매설물에 영향을 미치며, 인체의 안전과도 관련이 있다. 이에 따라 직류 전기철도 급전시스템에서 레일전위와 누설전류를 억제하는 것은 전기철도 주변 환경 및 안전 측면에서 중요한 문제이다. 이상과 같은 관점에서, 직류 전기철도 급전시스템에 대하여 단독급전 및 병렬급전 상황에서 레일전위와 누설전류를 계산할 수 있는 알고리즘을 제안하였으며, 또한 열차주행시뮬레이션(TPS)과 연동하여 열차주행에 따라 부하전류가 변동되는 상황에서 레일전위와 누설전류를 정량적으로 분석할 수 있도록 하였다. 제안한 알고리즘을 이용하여 시뮬레이션 프로그램을 개발하였고, 직류전기철도 급전시스템에 대하여 사례 연구를 수행하였다.
급전시뮬레이션과 함께 수행될 수 있는 '레일 전위 상승 분석을 위한 컴퓨터 알고리즘'이 제안되었다. 본 알고리즘에서 레일전위상승 분석은 2 단계로 진행된다. 첫 단계에서는 급전시스템의 조류해석을 수행하여 차량 및 변전소에서의 인젝션(injection) 전류를 구한다. 두 번째 단계에서는 급전시스템의 등가회로에서 변전소 및 차량을 전류 소스로 대치하고 레일의 대지로의 누설 저항이 삽입된 등가회로를 다시 구성한다. 새로 구성된 등가회로를 해석하여 변전소 및 차량 위치에서의 레일 전위를 구한다. 알고리즘의 타당성을 분석하기 위하여 컴퓨터 프로그램을 작성하여 레일전위상승을 구하였고 동일한 시스템을 대상으로 MatLab 사의 Simulink/SymPowerSystems 소프트웨어를 이용하여 레일전위를 구하였다. 2가지 방법에 의한 결과를 상호 비교 분석한 결과는 그 오차가 허용범위 내에 있음을 보여주었다. 본 알고리즘은 급전시뮬레이션과 연동하여 수행될 수 있는 장점을 가지고 있다.
We investigate in this paper the radiated electromagnetic waves together with the discharge characteristics of Trichel pulse of negative DC corona discharge in air in pin-to-plate and wire-to-plate configurations. The feature of the current pulse and the frequency spectrum of the electromagnetic radiations were measured under various pressures and gas gaps. The results show that the repetition frequency and the amplitude of Trichel pulse current depend on the discharge conditions, but the rising time of the pulse relates only to the radius of needle or wire and keeps constant even if the other conditions (including the discharge current, the gas gap and the gas pressure) change. There exists the characterized spectrum of electromagnetic waves from negative corona discharge in Trichel pulse regime. These characterized radiations do not change their frequency at a given cathode geometry even if the averaged current, the gas gap or the air pressure changes, but the amplitude of radiations changes accordingly. The characterized electromagnetic radiations from Trichel pulse corona relate to the formation or the rising edge of current pulse. It confirms that the characterized radiations from Trichel pulse supply information of discharge system and provide a potential method for detecting charged targets.
A Sputter ion Plating(SIP) system with a r.f. coil electrode and the Facing Target Sputter(FTS) source was designed for high-quality thin film formation. The rf discharge was combined with DC facing target sputtering in order to enhance ionization degree of a sputtered atoms. The energy of ions incident on the substrate depended on the health potential of DC biased substrate. The mean impact ion energy increased with negative bias voltage and rf power. The adhesive force of the TiN film formed was in the range of 30$\sim$50N, and markedly influenced by substrate bias voltage.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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