The ZnO thin films doped with Ga and Ge (GZO:Ge) were prepared on glass substrate using RF sputtering system. Structural, morphological and optical properties of the films deposited in different temperatures were studied. Proportion of the element of using target was 97 wt% ZnO, 2.5 wt% Ga and 0.5 wt% Ge with 99.99% highly purity. Structural properties of the samples deposited in different temperatures with 200 w RF power were investigated by field emission scanning electron microscopy, FE-SEM images and x-ray diffraction XRD analysis. Atomic force microscopy, AFM images were able to show the grain scales and surface roughness of each film rather clearly than SEM images. it was showed that increasing temperature have better surface smoothness by FE-SEM and AFM images. Transmittance study using UV-Vis spectrometer showed that all the samples have highly transparent in visible region (300~800 nm). In addition, it can be able to calculate bandgap energy from absorbance data obtained with transmittance. The hall resistivity, mobility, and optical band gap energy are influenced by the temperature.
In case of preparation of ITO thin film for using top electrode of Top-emitting Organic Light Emitting Diodes(TOLEDs), the ITO thin film should be prepared at room temperature and low oxygen gas flow condition in order to reduced the damage of organic layer due to the bombardment of highly energetic particles such as negative oxygen ions which accrued from the plasma. In this study, the ITO thin film with high optical transmittance and low resistivity prepared as a function of oxygen gas (0 ${\~}$ 0.8 sccm) and Ar gas was fixed at 20 sccm by the Facing Targets Sputtering (FTS) method. The electrical and optical properties of ITO thin films were measured by Hall effect measurement, UV/VIS spectrometer, respectively In the results, we obtained the ITO thin film with lowest resistivity($3{\times}10^{-4} {\Omega}{\cdot} cm$) at oxygen gas flow 0.2 sccm and optical transmittance over $80\%$ at oxygen gas flow over 0.2 sccm.
The structural, optical, and electrical properties of Ga-doped ZnO (GZO) thin films on glass substrates grown by radio-frequency(RF) magnetron sputtering were investigated. The flow ratio of Ar was varied as a deposition parameter for growing high-quality GZO thin films. The structural properties and surface morphologies of GZO were characterized by the X-ray diffraction. To analyze the optical properties of GZO, the optical absorbance was measured in the wavelength range of 300-1100 nm by using UV-VIS spectrophotometer. The optical transmittance, absorption coefficient, and optical bandgap energy of GZO thin films were calculated from the measured data. The crystallinity of GZO thin films is improved and the bandgap energy increases from 3.08 to 3.23eV with the increasing Ar flow ratio from 10 to 100 sccm. The average transmittance of the films is over 88% in the visible range. The lowest resistivity of the GZO is $6.215{\times}10^{-4}{\Omega}{\cdot}cm$ and the hall mobility increases with the increasing Ar flow ratio. We can optimize the characteristics of GZO as a transparent electrode for thin film solar cells by controlling Ar flow ratio during deposition process.
To prepare the transparent electrode for electronic devices such as flat panel or flexible displays, solar cells, and touch panels; tin doped $In_2O_3$ (ITO) films with low resistivity and a high transparency were fabricated using a facing target sputtering (FTS) system at the various oxygen gas flow rate. The carrier concentration and mobility of ITO films were measured by Hall Effect measurement. And the transmittance was measured using the UV-VIS spectrometer. As a result, we can obtain the ITO thin films prepared at 10% oxygen gas flow ratio, thickness 150 nm with transmittance 85% and resistivity $8.1{\times}10^{-4}{\Omega}cm$ and surface roughness 5.01 nm.
Aluminum doped zinc oxide (AZO) films were deposited on non-alkali glass substrate by DC magnetron sputtering with 3 types of AZO targets (doped with 1.0 wt%, 2.0 wt%, 3.0 wt% $Al_2O_3$). Electrical, optical properties and microstructure of AZO films have been investigated by Hall effect measurements, UV/VIS/NIR spectrophotometer, and XRD, respectively. Crystallinity of AZO films increased with increasing substrate temperature ($T_s$) and doping ratio of Al. Resistivity and optical transmittance in visible light were $8.8{\times}10^{-4}{\Omega}cm$ and above 85%, respectively, for the AZO film deposited using AZO target (doped with 3.0 wt% $Al_2O_3$) at $T_s$ of $300^{\circ}C$. On the other hand, transmittance of AZO films in near-infrared region decreased with increasing $T_s$ and doping ratio of Al, which could be attributed to the increase of carrier density.
Using sol-gel processing method, thin films of lathanum modified lead titanate(PLT) on Corning 7059 glass were prepared. A differential thermal analysis (DTA/TG) curve of gel powder and infrared spectra (FT-IR) of the films were measured to estimate residual organices in them. The heat-treated films were characterized by X-ray diffraction(XRD). Microstructures of the films were observed by a scanning electron microscope (SEM). Optical properties of the films were determined by a UV-VIS spectrophotometer. The waveguiding properties and optical attenuation were measured with the end coupling method and the cut back method. Effects of the drying conditions on the transmittance and the propagation loss of the films were investigated. Experimemtal results showed that the content of residual organics in the film decreased as the drying temperature of the film increased. As the La content of the film increased, the grain size decreased and the transmittance increased. The transmittances of the films increased with the increasing of the drying temperature. The propagation losses in the film decreased as the drying temperature increased.
For application of transparent bulletproof materials, the SLS(soda-lime-silicate) glass was heated by 2-step crystallization. The DTA curve for SLS glass revealed the nucleation and crystal growth temperature at about $575^{\circ}C$ and $675^{\circ}C$, respectively. The crystallized glass was heated at various conditions(temperature, time). As a result, the maximum nucleation and crystal growth rates were $3.8\times10^5/mm^3{\cdot}hr$ at $575^{\circ}C$ and 20.58nm/min at $680^{\circ}C$, respectively. The bending strength, fracture toughness and vickers hardness were 451.7MPa, $0.9388MPa{\cdot}m^{1/2}$, and $693.9H_v$ which were 201%, 31%, and 22% higher than parent glass, respectively. Surface image and transmittance of crystallized SLS glass were analyzed by optical microscopy and UV/VIS/NIR spectrophotometer. Transmittance of crystallized SLS glass at visible-range(200~800nm) was not changed.
In order to prevent heat loss that occurs through the glass, low-emissivity (Low-E) coating methods with good insulating properties and high transmittance were used. InGaZnO/Ag/InGaZnO (IGZO/Ag/IGZO) multilayer thin films have been deposited on XG glass substrate by RF magnetron sputtering. Depending on the different thickness of Ag in multilayer films, the structural and optical properties of Low-E multilayer films were analyzed. By XRD analysis results, the multilayer thin films were observed to be amorphous structure regardless of Ag thickness. According to the AFM results, surface morphology of the multilayer films was observed and compared. Using UV-VIS spectroscopy, low emissivity property has been observed clearly with the transmittance of higher than 85% at visible range and lower than 30% at IR range.
Kim, G.W.;Sung, C.H.;Seo, Y.J.;Park, K.Y.;Heo, S.N.;Lee, S.H.;Koo, B.H.
Journal of Ceramic Processing Research
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제13권spc2호
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pp.394-397
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2012
In this work, we studied the influence of the dopant elements concentration on the properties of SnO2 thin films deposited by pulsed laser deposition. X-ray diffraction (XRD), field emission scanning electron microscopy (FE-SEM), Hall effect measurement and UV-Vis studies were performed to characterize the deposited films. XRD results showed that the films had polycrystalline nature with tetragonal rutile structure. FE-SEM micrographs revealed that the as deposited films composed of dense microstructures with uniform grain size distribution. All the films show n-type conduction and the best transparent conductive oxide (TCO) performance was obtained on 6 wt% Sb2O5 doped SnO2 film prepared at pO2 of 60mtorr and Ts of 500 ℃. Its resitivity, optical transmittance, figure of merit are 7.8 × 10-4 Ω cm, 85% and 1.2 × 10-2 Ω-1, respectively.
Purpose: To know the transmittance of light when wearing shading goggles and to protect eyes from blue light emitted from dental scanner when using CAD/CAM works or inducing polymerization reactions of dental resin with curing unit and infrared light occurred when melting Dental precious metal and non-precious metal alloys. Methods: By measuring and comparing the average transmittances of blue light, visible light and infrared ight by using UV-Vis Spectrophotometer analysis measuring instrument, I compared 3 GREEN Color Goggles worn when casting Dental precious metal and non-precious metal alloys, and compared each of YELLOW, ORANGE Color Goggles worn when using Dental CAD/CAM scanners and Light Curing(LED) the Dental resin. Results: In blue light range, YELLOW Color Goggles are more effective than ORANGE Color Goggles. In infrared light range, No.12 Goggles are more effective than No.10 and No.11 Goggles. Conclusion: When wearing blue light shading goggles to avoid harmful blue light occurred in using dental scanner and curing light, and when wearing infrared light shading goggles to avoid harmful infrared light during casting, to avoid the Side Effects like transmittance rate of blue light and infrared light goggles becomes too high to block appropriate amount of harmful light or too low that causing lower image clarity.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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