급속열처리에 의한 $TiN/TiSi_2$ 이중구조막 혈성에 대한 Ti-Si 계면의 얇은 산화막의 영향
(Effects of the thin $SiO_2$ film on the formation of $TiN/TiSi_2$ bilayer formed by rapid thermal annealing)
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- 대한전기학회:학술대회논문집
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- 대한전기학회 1994년도 하계학술대회 논문집 C
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- pp.1223-1225
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- 1994