Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제11권3호
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pp.93-105
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2010
Complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) technology scaling has been a main key for continuous progress in silicon-based semiconductor industry over the past three decades. However, as the technology scaling enters nanometer regime, CMOS devices are facing many serious problems such as increased leakage currents, difficulty on increase of on-current, large parameter variations, low reliability and yield, increase in manufacturing cost, and etc. To sustain the historical improvements, various innovations in CMOS materials and device structures have been researched and introduced. In parallel with those researches, various new nanoelectronic devices, so called "Beyond CMOS Devices," are actively being investigated and researched to supplement or possibly replace ultimately scaled conventional CMOS devices. While those nanoelectronic devices offer ultra-high density system integration, they are still in a premature stage having many critical issues such as high variations and deteriorated reliability. The practical realization of those promising technologies requires extensive researches from device to system architecture level. In this paper, the current researches and challenges on nanoelectronics are reviewed and critical tasks are summarized from device level to circuit design/CAD domain to better prepare for the forthcoming technologies.
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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제7권2호
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pp.120-131
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2007
A comprehensive short channel analytical model has been proposed for High Electron Mobility Transistor (HEMT) to obtain higher cut-off frequency maintaining the reliability of the device. The model has been proposed to consider generalized doping variation in the directions perpendicular to and along the channel. The effect of field plates and different gate-insulator geometry (T-gate, etc) have been considered by dividing the area between gate and the high band gap semiconductor into different regions along the channel having different insulator and metal combinations of different thicknesses and work function with the possibility that metal is in direct contact with the high band gap semiconductor. The variation obtained by gate-insulator geometry and field plates in the field and channel potential can be produced by varying doping concentration, metal work-function and gate-stack structures along the channel. The results so obtained for normal device structure have been compared with previous proposed model and numerical method (finite difference method) to prove the validity of the model.
Purpose: The purpose of this study was to investigate the effect of grinding process and thickness on the fracture strength of silicon die used for semiconductor substrate. Method: Silicon wafers with different thickness from $200{\mu}m$ to $50{\mu}m$ were prepared by chemical mechanical polishing (CMP) and dicing before grinding (DBG) process, respectively. Fracture load was measured by point load test for 50 silicon dies per each wafer. Results: Fracture strength at the center area was lower than that at the edge area of the wafer fabricated by DBG process, while random distribution of the fracture strength was observed for the CMPed wafer. Average fracture strength of DBGed specimens was higher than that of the CMPed ones for the same thickness of wafer. Conclusion: DBG process can be more helpful for lowering fracture probability during the semiconductor fabrication process than CMP process.
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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제16권2호
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pp.191-197
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2016
In this paper, we investigated the hotcarrier injection (HCI) mechanism, one of the most important reliability issues, in 10 nm node Input/Output (I/O) bulk FinFET. The FinFET has much intensive HCI damage in Fin-bottom region, while the HCI damage for planar device has relatively uniform behavior. The local damage behavior in the FinFET is due to the geometrical characteristics. Also, the HCI is significantly affected by doping profile, which could change the worst HCI bias condition. This work suggested comprehensive understanding of HCI mechanisms and the guideline of doping profile in 10 nm node I/O bulk FinFET.
A remote monitoring system of the semiconductor equipment is used to monitor or control operations of the equipment. Most of the conventional monitoring systems are based on the client-server model with the general purpose PC. Basically, it implies the difficulties in the system reliability and cost down due to its size and complexity. To overcome these difficulties, we suggest an embedded web server which is based on the low-cost microprocessor. It is designed for the monitoring or controlling a dedicated equipment only. To evaluate the feasibility of the suggested embedded web server, we have implemented a test-board with ATMega103 and programmed the basic modules using the AVR-GCC. Finally, we have tested its operations on the MS Explorer 6.0 environment.
We studied the dielectric properties and voltage dependence on slice XLPE sheet from 22 kV and 154 kV power cables. Interface structures are XLPE/semiconductor and XLPE/water/semiconductor capacitance and tan6 of 22 kV, 154 kV were 52/42 pF and $7.4\times{10}/^{-4}, 2.15\times{10}^{-4}$, respectively in these results, the trend was increased with the increase of temperature the tan$\delta$ of XLPE/semiconductive layer and XLPE/water/ semiconductive layer were increased as compared with that of XLPE Temperature reliability of tan$\delta$ was small.
This paper addresses an on-line scheduling method for track systems in semiconductor fabrication. A track system is a clustered equipment performing photolithography process in semiconductor fabrication. Trends toward high automation and flexibility in the track systems accelerate the necessity of the intelligent controller that can guarantee reliability and optimize productivity of the track systems. This paper proposes an-efficient on-line scheduling method that can avoid deadlock inherent to track systems and optimize the productivity. We employ two procedures for the on-line scheduling. First, we define potential deadlock set to apply deadlock avoidance policy efficiently. After introducing the potential deadlock set, we propose a deadlock avoidance policy using an on-line Gantt chart, which can generate optimal near-optimal schedule without deadlock. The proposed on-line scheduling method is shown to be efficient in handling deadlock inherent to the track systems through simulation.
Modern technology depends on the reliability of extremely high technology equipments. In the production of semiconductor wafer, optical and electron microscopes, ion-beam, laser device must maintain their alignments within a nanometer. This equipment requires a vibration free environment to provide its proper function. Especially, lithography and inspection devices, which have sub-nanometer class high accuracy and resolution, have come to necessity for producing more improved giga and tera class semiconductor wafers. This high technology equipments require very strict environmental vibration standard, vibration criteria, in proportion to the accuracy of the manufacturing, inspecting devices. This paper deals with the structural dynamic design in high class semiconductor factory in order to be satisfied more strict vibration criteria for high sensitive equipment.
The number of joint disease patients is increasing every year. Currently, the most CPM(Continuous Passive Motion) equipment uses expensive imported equipment, and one CPM equipment is designed to be used only in one joint, medical personnel or hospitals who are the main users of the medical equipment need to have several types of CPMs for joint rehabilitation. To solve this problem, this paper designed a multifunctional joint medical equipment that enables rehabilitation of knee, shoulder, and elbow joints in one CPM equipment and includes general, intensive, and adaptive exercise functions for effective treatment according to the patient's condition. The patient's condition was diagnosed using a load cell and a current sensor. In this paper, effective rehabilitation methods were presented and high reliability and precision of medical equipment was confirmed through experiments using potentiometer, encoder, and PI controller.
Cyclic measurement system using relay circuit for organic light emitting diode (OLED) was demonstrated. The OLED characterization such as current-voltage, impedance, and capacitance-voltage is performed in sequence, repetitively and automatically under full control of the personnel computer (PC) without changing the connection of cables. Owing to in situ degradation by cyclic measurement, the time dependence of the data can give good information on the reliability factor of the OLED devices. Therefore, both performance and reliability of the OLEDs can be evaluated, with no manual operation during the entire process.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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