$CHF_3/C_2F_6$ 반응성이온 건식식각에 의해 변형된 실리콘 표면의 열적 거동에 관한 연구
(Thermal behavior of modified silicon surface by $CHF_3/C_2F_6$ reactive ion etching)
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- 한국재료학회지
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- 제2권1호
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- pp.35-42
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- 1992