Structure and optical properties of ZnO epilayers grown on oxygen- and hydrogen-plasma treated sapphire substrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy (denoted as samples A and B, respectively) have been investigated by various techniques. The crystal quality and structural properties of the surface for the ZnO epilayers were investigated by high-resolution X-ray diffraction and atomic force microscope. For investigating the optical properties of excitonic transition of ZnO, we carried out photoluminescence experiments as a function of temperature. The free exciton, bound exciton emission and their phonon replicas were investigated as a function of temperature from 10 to 300 K, and the intensity of excitonic PL peak emission from the sample A is found to be higher than that of sample B. From the results, we found that sample A has better crystal structure quality and optical properties as compared to sample B. The number of oxygen vacancies may be decreased in sample A, resulting in an enhancement of the crystal quality and a higher intensity of excitonic emission band as compared to sample B.
Kim, Jong-Gu;Jeong, Ju-Young;Ju, Jae-Hoon;Park, Sang-Hee;Cho, Young-Rae
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.23
no.4
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pp.87-92
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2016
The importance of heat dissipation for the electric device modules along the thickness direction is increasing. Two types of two-layered materials, metal-metal bonding and dielectric-metal bonding, have been fabricated by roll bonding process and a thermal diffusivity of the specimens was measured along the thickness direction. The thermal diffusivity of specimens with metal-metal bonding measured by light flash analysis (LFA) showed a same value independent on the direction of heat flow. However, the thermal diffusivity of specimens with dielectric-metal bonding showed a big difference of 17.5% when the direction of heat flow changed oppositely in the LFA process. The measured thermal diffusivity of specimens when the heat flows from metal to dielectric direction showed smaller value of 17.5% compared to the value when the heat flow from dielectric to metal direction. The difference in thermal diffusivity of specimens with dielectric-metal bonding dependence on direction of heat flow is due to the electron-phonon resistance that occurred transfer process of electron energy to phonon energy near the interface.
We have demonstrated structural evolution and optical properties of the Si-NWs on Si (111) substrates with synthesized nanoscale Au-Si islands by rapid thermal chemical vapor deposition(RTCVD). Au nano-islands (10-50nm in diameter) were employed as a liquid-droplet catalysis to grow Si-NWs via vapor-liquid-solid mechanism. Si-NWs were grown by a mixture gas of $SiH_4\;and\;H_2$ at pressures of $0.1{\sim}1.0$Torr and temperatures of $450{\sim}650^{\circ}C$. SEM measurements showed the formation of Si-NWs well-aligned vertically for Si (111) surfaces. The resulting NWs are 30-100nm in diameter and $0.4{\sim}12um$ in length depending on growth conditions. HR-TEM measurements indicated that Si-NWs are single crystals convered with about 3nm thick layers of amorphous oxide. In addition, optical properties of NWs were investigated by micro-Raman spectroscopy. The downshift and asymmetric broadening of the Si optical phonon peak with a shoulder at $480cm^{-1}$ were observed in Raman spectra of Si-NWs.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.25
no.5
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pp.182-187
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2015
The growth and characterization of micro sized AlGaN array structures selectively grown by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) on GaN stripes are reported. The shape of the AlGaN array structures depends on the size of exposed area for selective growth. The AlGaN array structures grown selectively on relatively large exposed area have regular shapes resembling those of the GaN stripes on the substrate, while samples selectively grown on relatively small exposed area have irregular shapes. The phonon frequency of the AlGaN array structures increases with increasing Al composition in the AlGaN structure. However, at relatively high Al composition (x = 0.28 in this research), the phonon frequency decreases slightly from the expected value not only because of large tensile strain associated with large differences between the lattice constants of the AlGaN structure and underlying GaN stripes but also changes of crystal facet direction during the selective growth.
The lattice vibration and crystal structure of alkaline earth metal-substituted $RuSr_{1.9}A_{0.1}GdCu_{2}O_{8}$ (A = Ca, Sr, and Ba) have been investigated with micro-Raman spectroscopy. The present $RuSr_{1.9}A_{0.1}GdCu_{2}O_{8}$ materials show not only several weak Raman peaks corresponding to the vibrations of $O_{Cu}$ and $O_{Ru}$ but also strong characteristic phonon lines related to $O_{Sr}$ vibration mode. A comparison between the frequency of $O_{Sr}$ vibration and the bond distances of (Ru$O_{Sr}$) and (Cu‒$O_{Sr}$) in the present ruthenocuprates reveals that the vibration energy of $O_{Sr}$ is mainly dependent on the bond distance of (Ru‒$O_{Sr}$). The peak splitting of the $O_{Sr}$ phonon lines was observed for the unsubstituted $RuSr_{1.9}A_{0.1}GdCu_{2}O_{8}$, suggesting the existence of two different (Ru‒$O_{Sr}$) bond distances. Such a peak splitting caused by the appearance of low-energy shoulder reflects the presence of internal charge transfer pathway from the $RuO_2$ plane to the superconductive $CuO_2$ one. After the substitution of Sr with Ca or Ba, the low-energy shoulder peak of $O_{Sr}$ vibration becomes suppressed, underscoring the depression of internal charge transfer between the $RuO_2$ and $CuO_2$ planes. The weakened role of $RuO_2$ layer as charge reservoir in the $RuSr_{1.9}A_{0.1}GdCu_{2}O_{8}$8 (A = Ca, Ba) would be responsible for the depression of $T_c$ upon the Ca/Ba substitution.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.22
no.3
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pp.13-19
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2021
This study examined the effects of stacking faults on the thermoelectric properties for n-type SiC semiconductors. Porous SiC semiconductors with 30~42 % porosity were fabricated by the heat treatment of pressed -SiC powder compacts at 1600~2100 ℃ for 20~120 min in an N2 atmosphere. XRD was performed to examine the stacking faults, lattice strain, and precise lattice parameters of the specimens. The porosity and surface area were analyzed, and SEM, TEM, and HRTEM were carried out to examine the microstructure. The electrical conductivity and the Seebeck coefficient were measured at 550~900 ℃ in an Ar atmosphere. The electrical conductivity increased with increasing heat treatment temperature and time, which might be due to an increase in carrier concentration and improvement in grain-to-grain connectivity. The Seebeck coefficients were negative due to nitrogen behaving as a donor, and their absolute values also increased with increasing heat treatment temperature and time. This might be due to a decrease in stacking fault density, i.e., a decrease in stacking fault density accompanied by grain growth and crystallite growth must have increased the phonon mean free path, enhancing the phonon-drag effect, leading to a larger Seebeck coefficient.
The sharp-line absorption spectrum of microcrystalline samples of cis-[Cr(cycb)$Cl_2$]Cl (cycb=rac-5,5,7,12,12,14-hexamethyl-1,4,8,11-tetraazacyclotetradecane) has been measured between 13000 and $16000 cm^{-1}$ at temperatures down to 5K. The 77K emission and excitation spectra, and 298 K infrared and visible absorption spectra have also been measured. The nine electronic bands due to spin-allowed and spin-forbidden transitions were assigned. Using the observed transitions, a ligand field analysis has been performed to probe the ligand field properties of coordinated atoms in the title chromium(III) complex. The zero-phonon line in the sharp-line absorption spectrum splits into two components by $240 cm^{-1}$ , and the $large ^2$$_E{g}$ splitting can be reproduced by the modem ligand field theory. It is confirmed that nitrogen atoms of the macrocyclic cycb ligand have a strong $\sigma$-donor character, but chloride ligand has weak $\sigma$- nd $\pi$-donor properties toward chromium(III) ion.n.
Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics
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v.5
no.1
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pp.1-5
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1968
GaAs single crystals were grown epitaxially from Ga solution with carrier concentrations in the range and electron mobilities between 7,500 and 9,300$\textrm{cm}^2$/v-sec. at 300$^{\circ}$K, and 50,000 and 95,000 $\textrm{cm}^2$/V-sec. at 77$^{\circ}$K. A comparison of the theoretical and experimental curves for the mobility vs. temperature indicates that the significant scattering mechanisms are ionized impurities and phonons in the temperature range of 77$^{\circ}$K to 439$^{\circ}$K. This indicates that the epitaxial layers do not contain other mobility limiting imperfections to a significant degree. Photoluminescence spectra of the. epitaxial layers did not show any emission due to deep lying imperfection leve1s.
The electronic structure of cis-$[Cr(cyclam)Cl_2]Cl$ has been investigated by the emission and excitation spectroscopy at 77K, and infrared and visible spectroscopy at room temperature. The ten electronic transitions due to spin-allowed and spin-forbidden are assigned. The zero-phonon line in the excitation spectrum splits into two components by $139\;cm^{-1}$, and it can be reproduced by modern ligand field theory. According to the results of ligand field analysis, we can confirm that nitrogen atoms of the cyclam ligand have a strong ${\sigma}$-donor character, but chloride ligand has weak ${\sigma}-$ and ${\pi}-$donor properties toward chromium(III) ion.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2012.08a
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pp.168-168
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2012
Al doped ZnO (AZO)는 태양전지, 평판 디스플레이, OELD 등 광전자 소자에 적용되는 투명전도막용 재료인 ITO의 대체 재료로서 최근에 가장 각광받고 있는 물질이다. 하지만, $2.5{\times}10^{-4}{\Omega}{\cdot}cm$의 낮은 비저항과 90% 이상의 투과도를 갖는 ITO의 비해 AZO의 특성은 아직 부족한 상황이다. 수십 년간 많은 연구자들에 의해 다양한 제조 방법과 공정 조건들로 전기적, 광학적 특성을 향상시키기 위한 노력들이 진행되어 왔다. 하지만 실리콘 반도체와는 달리 II-VI족 물질의 정확한 근본적인 원리는 아직 불분명한 상태이다. 지금까지 AZO의 특성 향상의 원인을 결정립 크기, 주상구조의 우선 방위, 결정성, Zn-O 구조내의 산소 결핍 등의 메커니즘으로 설명해 왔다. 하지만, 본 연구에서는 지금까지 제안된 상기 요인의 변화 없이 전기적, 광학적 특성을 향상시키는 것이 짧은 열처리만으로도 가능했다. AZO 박막의 전기적, 광학적 특성에 큰 영향을 미치는 보다 근본적인 원인은 도핑 효율이다. ZnO 내에 도핑된 Al의 양보다 실제로로 활성화된 Al의 비율을 올리는 것이 중요하다. 본 연구에서 구조적, 조성적 변화 없이 도핑효율을 8.9%에서 66.7%까지 증가시켰으며, 이동도는 박막 표면의 및 결정립계 사이의 과잉산소를 줄임으로서 optical phonon scattering 감소를 통하여 증가시킬 수 있고, 이러한 과잉산소의 감소는 deep level emission을 감소시킴으로서 투과도 증가에도 영향을 준다. 본 연구에서 짧은 열처리를 통해 구조적 변화 없이 도핑효율의 증가만으로 $4.8{\times}10^{-4}{\Omega}{\cdot}cm$의 비저항과 90%의 투과도를 갖는 AZO 박막을 제조하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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