We studied about the manufacture of the drain-source contacts for OTFTs(organic thin-film transistors) by using screen printing method. The conductive fillers used Ag and carbon black. The conductive contacts with $100{\mu}m$ of channel length were screen printed on a silicon dioxide gate dielectric layer and, the pentacene semiconductor was deposited via vacuum deposition. As a result of studying various conductive pastes, we could obtain the OTFTs which exhibited field-effect behavior over arrange of drain-source and gate voltages, similar to devices employing deposited Au contacts. By using screen-printing with conductive paste, the contacts are processed at low temperature, thereby facilitating their integration with heat sensitive substrates.
한국정보디스플레이학회 2009년도 9th International Meeting on Information Display
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pp.312-314
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2009
We have fabricated pentacene based organic thin film transistors (OTFTs) with formulated poly[4-vinylphenol] (PVP) gate dielectrics. The gate dielectrics is composed of PVP, poly[melamine-coformaldehyde] (PMF) and photo-initiator [1-phenyl-2-hydroxy-2-methylpropane-1-one, Darocur1173]. By adding small amount (1 %) of photo-initiator, the cross-linking temperature is lowered to $115^{\circ}C$, which is lower than general thermal curing reaction temperature of cross-linked PVP (> $180^{\circ}C$). The hysteresis and the leakage current of the OTFTs are also decreased by adding the PMF and the photoinitiator in PVP gate dielectrics.
폴리아닐린(polyaniline, PANI) 전도성 고분자 용액을 camphorsulfonic acid(CSA)로 도핑하여 제조하였고 FTIR을 이용하여 고분자 중합 및 도핑유무를 확인하였다. 제조된 폴리아닐린을 스핀 코팅하여 유기박막 트랜지스터의 게이트 전극으로 사용하였으며, 열처리 온도변화에 따른 전기 전도도 변화를 4-probe measurement로 확인하였다. 또한 표면 특성을 이해하기 위해 atomic force microscope(AFM)와 optical microscope를 이용하였다. 폴리아닐린 게이트전극을 활용하여 얻은 유기박막 트랜지스터의 소자성능은 최고 이동도가 0.15 $cm^2$/Vs, 전류점멸비가 $2.4{\times}10^6$임을 확인하였다. 고분자 전극의 소지특성을 비교분석하기 위해, 같은 구조의 Au 전극소자를 제작하였다. Au 금속전극소자와 유사한 성능을 보인 폴리아닐렌 게이트 전극 소자는 플렉서블 유기박막 트랜지스터 전극으로 충분히 사용될 수 있다.
In this paper, it was demonstrated that the organic thin film transistors with the organic gate insulators were fabricated by vapor deposition polymerization (VDP) processing. The configuration of OTFTs was a staggered-inverted top-contact structure and gate dielectric layer was deposited with 0.45 ${\mu}m$ thickness. In order to form polyimide as a gate insulator, VDP process was also introduced instead of spin-coating process. Polyimide film was respectively co-deposited with different materials. One was from a 4,4'-oxydiphthalic anhydride (ODPA) and 4, 4'-oxydianiline (ODA) and the other was from 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride (6FDA) and ODA. And it was also cured at 150 $^{\circ}C$ for 1 hour followed by 200 $^{\circ}C$ for 1 hour. Electrical characteristics of the organic thin-film transistors were detailed comparisons between the ODPA-ODA and the 6FDA-ODA which were used as gate insulator.
한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권2호
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pp.1539-1542
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2007
We have synthesized novel organic passivation materials to protect organic thin film transistors (OTFTs) from $H_2O$ and $O_2$ using polyvinyl alcohol (PVA)/layered silicate (SWN) nano composite system. Up to 3 wt% of layered silicate to PVA, very homogeneous nanocomposite solution was prepared.
한국정보디스플레이학회 2003년도 International Meeting on Information Display
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pp.299-304
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2003
We discuss several key technologies of liquid crystal displays (LCDs) that share common features of all organic displays (AODs). An overview of the morphological effects associated with molecular ordering at interfaces on the Crystallinity and the carrier mobility in organic thin film transistors (OTFTs) is given from the viewpoint of the alignment mechanism for LCDs. Recent progress of improving the carrier mobility in the OTFTs is also reviewed.
The surface states of gate dielectrics affect device performance severely in Pentacene OTFTs. We have fabricated organic thin-film transistors (OTFTs) using pentacene as an active layer with chemically modified $SiO_2$ gate dielectrics. The effects of the surface treatment of $SiO_2$ on the electric characteristics of OTFTS were investigated. The surface of $SiO_2$ gate dielectric was treated by normal wet cleaning process, $O_2-plasma$ treatment, hexamethyldisilazane (HMDS), and octadecyltrichlorosilane (OTS) treatment. After the surface treatments, the contact angles and surface free energies were measured in order to analyze the surface state changes. In the electrical measurements, typical I-V characteristics of TFTs were observed. The field effect mobility, $\mu$, was calculated to be $0.29\;cm^2V^{-1}s^{-1}$ for OTS treated sample while those for the HMDS, $O_2$ plasma treated, and wet-cleaned samples were 0.16, 0.1, and $0.04\;cm^2V^{-1}s^{-1}$, respectively.
Performances of organic thin film transistors (OTFTs) can be detrimentally affected by the state of the gate dielectric. Because of the bad stability of polymers, OTFTs with polymer gate dielectrics often provide abnormal characteristics. In this study, we report the condensation effect of the polymer gate dielectric layer. For the observations of the effect of the condensation, the spin-coated polymer layers with various deposition conditions were fabricated and left under low vacuum condition for several days. It is observed that the thickness of polymer layer and the electrical characteristic of OTFTs vary with the condensation time.
Kim, Dong-Woo;Kim, Doo-Hyun;Kim, Keon-Soo;Kim, Hyoung-Jin;Choi, Hong;Lee, Dong-Hyeok;Hong, Mun-Pyo
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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한국정보디스플레이학회 2009년도 9th International Meeting on Information Display
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pp.566-567
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2009
We have examined the silicon nitride ($SiN_x$) as gate insulator with the ammonia ($NH_3$) plamsa treatment for the soluble derivatives of polythiophene as p-type channel materials of organic thin film transistors (OTFTs). Fabrications of the jetting-processed OTFTs with $SiN_x$ as gate insulator by $NH_3$ plasma treatment can be similar to performance of OTFTs with silicon dioxide ($SiO_2$) insulator.
The indium tin oxide (ITO) films were deposited on CR39 substrate using DC magnetron sputtering. The ITO thin films deposited at room temperature because CR39 substrate its glass-transition temperature is $130^{\circ}C$. The ITO thin films used bottom and top electrode and for organic thin film transparent transistors (OTFTs). The ITO thin film electrodes electrical properties and optical transparency properties in the visible wavelength range (300-800 nm) strongly dependent on volume of oxygen percent. For the optimum resistivity and transparency of the ITO thin film electrode achieved with a 75 W plasma power, 10 % volume of oxygen and a 27 nm/min deposition rate. Above 85 % transparency in the visible wavelength range (300-800 nm) measured without post annealing process and a low resistivity value $9.83{\times}10^{-4}{\Omega}cm$ was measured thickness of 300 nm. All fabrication process of ITO thin films did not exceed $80^{\circ}C$.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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