In this study, we show that by anodization of Nb in NaF electrolytes microcone niobium oxide layers can be formed under a range of experimental conditions. It is found that a single NaF electrolyte leads to the formation of microcones. At 1 M NaF, 40 V, 1 h, well-ordered microcones were generated on Nb discs. XRD results show that the initially formed anodic oxide is amorphous, but an amorphous to crystalline transition occurs during anodization. For the formation of favorable microcones, it is considered that proper parameters such as electrolyte concentration, voltage, anodizing time are necessary according to the kind of electrolytes.
Niobium nitride (NbN) superconducting thin films with the thickness of 100 and 400 nm have been deposited on the surfaces of silicon oxide/silicon substrates using a sputtering method. Their superconducting properties have been evaluated in terms of the transition temperature, critical magnetic field, and critical current density. In addition, the NbN films were patterned in a line with a width of $10{\mu}m$ by a reactive ion etching (RIE) process for their characterization. This study proves the applicability of the standard complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) process in the fabrication of superconducting thin films without considerable degradation of superconducting properties.
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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v.17
no.2
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pp.245-251
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2017
Niobium doped zirconium oxide (Nb-Zr-O:NZO) thin films were fabricated on Si substrates by a sol-gel technique with an annealing temperatures of $500{\sim}1000^{\circ}C$ in air ($N_2:O_2=3:1$) for 20 minutes. It was found that the NZO film is based on tetragonal $ZrO_2$ polycrystalline structure with the Nb 5+ ion state and there is almost no diffusion of Nb or Zr to Si substrate. The relative dielectric constant for the NZO film with the Nb composition of 30 mol% and annealed at $800^{\circ}C$ was around 40. The root mean roughness was 1.02 nm. In addition, the leakage current of NZO films was as low as $10^{-6}A/cm^2$ at 4.4 V.
The thermomechanically treated $Ti-45.4\%Al-4.8\%Nb(at\%)$ alloy was oxidized between 800 and $1000^{\circ}C$ in air, and the oxidation characteristics were studied. The dissolution of Nb in the oxide scale was observed from the TEM study. The Pt marker test revealed that the oxidation process was controlled by the outward diffusion of Ti ions and the inward diffusion of oxygen ions. During oxidation, the evaporation of Nb-oxides was found to occur to a small amount. Niobium tended to pile-up at the lower part of the oxide scale, which consisted primarily of an outer $TiO_2$ layer, and an intermediate $Al_{2}O_{3}-rich$ layer, and an inner mixed layer of ($TiO_{2}+Al_{2}O_{3}$).
Park, Gum-Jae;Kalpana, D.;Thapa, Arjun Kumar;Nakamura, Hiroyoshi;Lee, Yun-Sung;Yoshio, Masaki
Bulletin of the Korean Chemical Society
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v.30
no.4
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pp.817-820
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2009
To meet the high current load requirement from the high energy density realized by metal oxide and high power density graphite, we propose a novel hybrid supercapacitor consisting of Nb2O5 and KS6 graphite in 1.0 M LiPF6-EC:DEC (1:2). This new system exhibits a sloping voltage profile from 2.7 to 3.5 V during charging and presents a high operating voltage plateau between 1.5 and 3.5 V during discharging. The cell was tested at a current density of 100 mA/g with a cut-off voltage between 3.0 and 1.0 V. This novel energy storage system delivers the highest initial discharge capacity of 55 mAh/g and exhibits a good cycle performance.
Tang, Zhen-Chen;Yu, Ding-Hua;Sun, Peng;Li, Heng;Huang, He
Bulletin of the Korean Chemical Society
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v.31
no.12
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pp.3679-3683
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2010
Niobium oxide ($Nb_2O_5$) and phosphated $Nb_2O_5$ were synthesized and used as catalysts for sorbitol dehydration to isosorbide. The characterization results of $N_2$ adsorption, XRD and $NH_3$-TPD revealed that the phosphoric acid modification could well prevent the crystallization of $Nb_2O_5$. And the amorphous phosphated $Nb_2O_5$ catalysts kept the relatively large surface area and stable acidity at high calcination temperature. The catalytic results showed that the selectivity to isosorbide could be dramatically enhanced over phosphated $Nb_2O_5$. The excellent catalytic performance with 100.0% sorbitol conversion and 62.5% isosorbide selectivity were obtained over the 0.8P/NBO-400 catalyst. Comparing with $Nb_2O_5$ catalysts, phosphated $Nb_2O_5$ catalysts regenerated through a simple calcination process showed no significant activity loss after recycling three runs.
Sputter-deposited Nb-Al-Cr alloys. $3-5{\mu}m$ thick, have been prepared on quartz substrates as oxidation-and sulfidation-resistant materials at high temperatures. The oxidation or the alloys in the $Ar-O_2$ atmosphere of an oxygen partial pressure of 20 kPa follows approximately the parabolic rate law, thus being diffusion controlled. Their oxidation rates are almost the same as or even lower than those ofthc typical chromia-forming alloys. The multi-lavered oxide scales are formed on the ternary alloys. The outermost layer is composed of $Cr_2O_3$, which is"mainly responsible for the high oxidation'resistance of these alloys. In contrast to sputter-deposited Cr-Nb binary alloys reported previously, the inner layer is not porous. TEM observation as well as EDX analysis indicates that the innermost layer is a mixture of $Al_2O_3$ and niobium oxide. The dispersion of $Al_2O_3$ in niobium oxide may be attributable to the prevention of the formation of the porous oxide layer. The sulfidation rates of the present ternary alloys arc higher than those of the sputter-deposited Nb-AI binary alloys, but still several orders of magnitude lower than those of conventional high temperature alloys. Two-layered sulfide scales are formed, consisting of an outer $Al_2S_3$ layer containing chromium and an inner layer composed of $NbS_2$ and a small amount of $Cr_2S_3$. The presence of $Cr_2S_3$ in the inner protective $NbS_2$ layer may be attributed to the increase in the sulfidation rates.
Alloys of $Ti46\%Al-2\%Mo-2\%Nb$ were oxidized between 800 and $1000^{\circ}C$ in air, and their oxidation characteristics were studied. The alloys displayed good oxidation resistance due mainly to the beneficial effects of Mo and Nb. The oxide scales formed consisted primarily of an outer $TiO_2$ layer, an intermediate $Al_{2}O_3-rich$ layer, and an inner mixed layer of ($TiO_{2}+Al_{2}O_3$). Molybdenum and niobium dissolved in the scale effectively improved oxidation resistance. They were mainly distributed in the inner mixed layer of ($TiO_{2}+Al_{2}O_3$).
The effect of Nb on interfacial bonding characteristics of Ni-Cr alloy for porcelain fused to metal crown (PFM) has been studied in order to investigate oxide layer. A specimens of Ni-Cr alloy, which is 0.8mm in thickness, within the porcelain furnace of 1,000$^{\circ}C$ with four tests such as air, vacuum, air for 5 minutes and vacuum for 5 minutes in order to examine an oxide behavior of alloy surface generated by the adding of Nb to be controlled at a rate of 0, 1, 3 and 5. Oxide film was observed form of the fired specimens with scanning electron microscope (SEM), and at the same time it measured Electron Probe Micro Analyzer (EPMA). The result of this study were as follows: 1. Cr oxide film and Nb oxide film were observed from the surface of specimen to be controlled at a rate of Nb 1%. 2. Nb oxide film was observed from the interface of specimens to be controlled at a rate of Nb 1% and 3%. 3. The stability of oxide films that treated in air were more stable than treated under vacuum.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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