Fabrication or Si Diaphragm using Optimal Etching Condition of $N_2H_4-H_2O$ Solution
($N_2H_4-H_2O$ 용액의 최적 시작 조건을 이용한 Si diaphragm의 제작)
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- Proceedings of the KIEE Conference
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- 1989.07a
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- pp.295-298
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- 1989