• Title/Summary/Keyword: 순방향 전압

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I-V Characteristics of Lateral Anode Switched Thyristor(LAST) at Elevated Temperature (수평형 애노드-스위칭 사이리스터(LAST)의 전류-전압 온도 특성)

  • Ha, Min-Woo;Lee, You-Sang;Jun, Byung-Chul;Kim, Soo-Seong;Choi, Yearn-Ik;Han, Min-Koo
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2002.11a
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    • pp.99-101
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    • 2002
  • 개선된 FB-SOA 및 낮은 턴-오프 시간의 특성을 가지는 수평형 애노드-스위칭 사이리스터(LAST)의 고온에서의 전류-전압 특성을 연구하였다. LAST는 고온에서도 훌륭한 전류 포화 특성을 가져 개선된 FB-SOA의 특성을 보였다. 고온에서 LAST의 순방향 전압 강하는 감소되었다. 또한 LAST는 온도가 상승함에 따라 포화 전류가 감소하여. 병렬연결 동작 시에 전류 균형 특성을 기대할 수 있다.

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Fabrication and Characterization of 5000V class 4-inch Light Triggered Thyristor (4인치 광점호 Thyristor의 제조 및 특성 분석에 대한 연구)

  • Cho, Doohyung;Won, Jongil;Yoo, Seongwook;Ko, Sangchoon;Park, Jongmoon;Lee, Byungha;Bae, Youngseok;Koo, Insu;Park, Kunsik
    • Proceedings of the KIPE Conference
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    • 2019.07a
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    • pp.230-232
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    • 2019
  • Light Triggerd Thyristor (LTT)는 HVDC 및 산업용 스위치 등에 사용되는 대전력 반도체소자이다. 일반적인 Thyristor가 전기적 신호에 의해 trigger 되는 것과는 다르게 LTT는 광신호에 의해 동작하는 소자이다. 본 논문에서는 5,000V, 2,200A 급의 4인치 LTT 소자의 제작 및 전기적인 특성평가 결과를 기술하였다. 4인치 LTT의 구조적인 특징은 전면부 중앙에 광신호가 주입되는 수광부가 위치해 있으며 입력 전류 증폭을 위한 4-단계 증폭 게이트 (gate) 구조를 가지도록 설계하였다. $400{\Omega}{\cdot}cm$ 비저항을 갖는 1mm 두께의 n-형 실리콘 웨이퍼에 boron 이온주입과 열처리 공정으로 약 $30{\mu}m$ 깊이의 p-base를 형성하였으며, 고내압 저지를 위한 edge termination은 VLD (variable lateral doping) 기술을 적용하였다. 제작된 4인치 LTT는 6,500 V의 순방향 항복전압 ($V_{DRM}$) 특성을 나타내었으며, 100V의 어노드전압 ($V_A$)과 20 mA의 게이트전류 ($I_G$)에 의하여 thyristor가 trigger 됨을 확인하였다. 제작한 LTT 소자는 disk형 press-pack 패키지를 진행한 후, LTT의 수광부에 $10{\mu}s$, 50 mW의 900 nm 광 펄스를 조사하여 전류 특성을 평가하였다. LTT 패키지 샘플에 60 Hz 주파수의 광 펄스를 조사한 경우 2,460 A의 순방향 평균전류 ($I_T$)와 $336A/{\mu}s$의 반복전류상승기울기 (repetitive di/dt)에 안정적으로 동작함을 확인하였다. 또한, 펄스 전류 시험의 경우 61.6 kA의 최대 통전 전류 (ITSM, surge current)와 $1,050A/{\mu}s$의 펄스전류 상승 기울기 (di/dt of on-state pulse current)에도 LTT의 손상 없이 동작함을 확인하였다.

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1.2KV AlGaN/GaN Schottky Barrier Diode Employing As+ Ion Implantation on $SiO_2$ Passivation layer (항복전압 향상을 위해 As+ 이온을 주입한 AlGaN/GaN 쇼트키 장벽 다이오드)

  • Kim, Min-Ki;Lim, Ji-Yong;Choi, Young-Hwan;Kim, Young-Shil;Seok, O-Gyun;Han, Min-Koo
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2009.07a
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    • pp.1229_1230
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    • 2009
  • $SiO_2$ 패시베이션 층에 As+ 이온을 주입한 1.2 kV급 AlGaN/GaN 쇼트키 장벽 다이오드( Schottky Barrier Diode, SBD )를 제작하였다. 주입된 As+ 이온들은 역방향 바이어스에서 공핍 영역의 곡률을 변화 시켰고, 이로 인해 항복 전압이 증가하고 누설 전류가 감소하였다. 제안된 소자의 항복전압이 1204 V 이었고, 기존 소자의 항복전압은 604 V 이었다. 캐소드 전압이 100 V일 때 제안된 소자의 누설전류는 21.2 nA/mm 이었고, 같은 조건에서 제안된 소자는 $80.3{\mu}A/mm$ 이었다. 주입된 As+ 양이온은 이차원 전자 가스( Two-Dimensional Electron Gas, 2DEG )에 전자를 유도했고, 채널의 농도가 미세하게 증가하였다. 따라서 순방향 전류가 증가하였다.

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The study of 1700V TG-IGBT(Trench Gate Insulated Gate Bipolar Transistor)'s electrical characteristics using trench ion implantation (트렌치 ion implantation을 이용한 1700V급 TG-IGBT(Trench Gate Insulate Gated Bipolar Transistor)의 전기적 특성에 관한 연구)

  • Kyoung, Sin-Su;Kim, Young-Mok;Lee, Han-Sin;Sung, Man-Young
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2007.07a
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    • pp.1309-1310
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    • 2007
  • 본 논문에서는 IGBT 소자 중 온저항을 낮추고 집적성을 향상시키기 위해 고안된 트렌치 게이트 IGBT의 단점인 게이트 코너에서의 전계 집중현상을 완화하기 위해 P+ 베이스 영역에 트렌치 전극을 형성하고, 트렌치 바닥면에 P+ 층을 형성한 새로운 구조를 제안하고 TSUPREM과 MEDICI 시뮬레이션을 사용하여 전기적 특성을 분석하였다. 제안한 구조를 시뮬레이션한 결과 순방향 저지시에 15% 이상의 항복전압 향상을 보였으며, 이 때 온저항 특성과 문턱전압의 변화는 없었다. 전계 분포를 3차원적 시뮬레이션을 통해 트렌치 전극 바닥에 형성된 P+ 층에 의해 전계집중이 분산되는 전계분산 효과에 의해 항복전압을 향상시킴을 확인하였다. 전계분산 효과에 의한 항복전압향상은 트렌치 게이트의 코너와 트렌치 전극의 코너의 깊이가 같을수록 두 코너 사이의 거리가 가까울수록 커짐을 시뮬레이션을 통해 확인하였다. 제안 구조는 공정상 복잡성이 야기되지만 15%이상의 항복전압향상 효과는 소자 특성 개선에서 많은 응용이 기대된다.

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Design of DOT(Depleted Optical Thyristor) Oliver by using DLL (DLL을 이용한 DOT(Depleted Optical Thyristor) 구동 Driver 설계)

  • Choi Jin-Ho;Kim Kyung-Min;Choi Woon-Kyung;Choi Young-Wan
    • 한국정보통신설비학회:학술대회논문집
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    • 2004.08a
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    • pp.41-45
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    • 2004
  • 본 논문에서는 DLL(Delay Locked Loop)를 응용하여 광통신 시스템에 응용할 수 있는 완전공핍 광 싸이리스터(Depleted Optical Thyristor)의 구동 Driver를 설계하였다. 광스위칭 소자로 활용될 DOT를 구동시키기 위해서는 Thyristor의 구조 특성을 고려할 때 강한 역방향 전압 펄스와 함께 높은 순방향 전류 펄스의 특성을 가지는 파형이 필요하다. 구동 Driver의 제작 공정은 삼성 CMOS $0.35{\mu}m$, 1 poly, 4 metal 공정을 사용하였고 시뮬레이션 결과 500 MHz 대역에서 DOT를 구동하기 위한 전압, 전류 특성을 가지는 파형을 얻을 수 있었다.

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Polymer Phosphorescent Light-Emitting Devices Doped with Iridium Complex (이리듐 합성물 기반의 인광 고분자 발광 소자)

  • Kim, Sung-Jin
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.18 no.4
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    • pp.254-258
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    • 2009
  • We herein report on polymer phosphorescent light-emitting devices doped with iridium complex. The emitting layer of poly(N-vinylcabazole) and tris(2-phenylpyridine)iridium was fabricated by low speed dip-coating of 10, $20{\mu}m$/s. The devices showed stable current increasing leakage current at turn-on voltage. Compared to conventional spin-coating based organic light-emitting devices, the driving voltage by dip-coating observed lower values of 5.8 and 6.7 V at the luminance of 100 Cd/$cm^2$.

Characteristics of Redox Flow Battery Using the Soluble Lead Electrolyte (납이 용해된 전해액을 사용하는 레독스 플로우 전지의 특성)

  • An, Sang-Yong;Kim, Eung-Jin
    • Journal of the Korean Electrochemical Society
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    • v.14 no.4
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    • pp.214-218
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    • 2011
  • The electrochemical characteristics and performance of redox flow battery using the soluble lead has been evaluated. Cyclic voltammetry was performed on the materials to evaluate deposition and dissolution of lead and lead dioxide. In the negative region, a reduction peak is not observed, and on the reverse scan, on-set voltage is observed at -0.47 V(vs SCE). In the positive region, the distinct peak is observed on the forward and reverse scan. The charge/discharge experiments were carried out graphite electrode in the beaker cell. The charging(deposition) of lead occurs at around 0.5 V(vs SCE) and discharging(dissolution) of lead occur at around 0.25 V(vs SCE). The potential difference is about 0.25 V. The charging(deposition) of dioxide lead is at 1.77 V(vs SCE) and discharging(dissolution) is at around 0.95 V(vs SCE) during first cycle. On subsequent cycles, the charging of dioxide lead starts at below 1.5 V(vs SCE), after a period the voltage increase to 1.7 V(vs SCE). The voltage of discharging is stable at around 1.0 V(vs SCE).

Characterization of Reverse Leakage Current Mechanism of Shallow Junction and Extraction of Silicidation Induced Schottky Contact Area for 0.15 ${\mu}{\textrm}{m}$ CMOS Technology Utilizing Cobalt Silicide (코발트 실리사이드 접합을 사용하는 0.15${\mu}{\textrm}{m}$ CMOS Technology에서 얕은 접합에서의 누설 전류 특성 분석과 실리사이드에 의해 발생된 Schottky Contact 면적의 유도)

  • 강근구;장명준;이원창;이희덕
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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    • v.39 no.10
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    • pp.25-34
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    • 2002
  • In this paper, silicidation induced Schottky contact area was obtained using the current voltage(I-V) characteristics of shallow cobalt silicided p+-n and n+-p junctions. In reverse bias region, Poole-Frenkel barrier lowering influenced predominantly the reverse leakage current, masking thereby the effect of Schottky contact formation. However, Schottky contact was conclusively shown to be the root cause of the modified I-V behavior of n+-p junction in the forward bias region. The increase of leakage current in silicided n+-p diodes is consistent with the formation of Schottky contact via cobalt slicide penetrating into the p-substrate or near to the junction area and generating trap sites. The increase of reverse leakage current is proven to be attributed to the penetration of silicide into depletion region in case of the perimeter intensive n+-p junction. In case of the area intensive n+-p junction, the silicide penetrated near to the depletion region. There is no formation of Schottky contact in case of the p+-n junction where no increase in the leakage current is monitored. The Schottky contact amounting to less than 0.01% of the total junction was extracted by simultaneous characterization of forward and reverse characteristics of silicided n+-p diode.

Optical Properties of Vertical Cavity Laser - Depleted Optical Thyristor for Low Threshold Current (낮은 문턱 전류를 위한 Vertical Cavity Laser - Depleted Optical Thyristor 의 레이징 특성에 관한 연구)

  • Choi Woon-Kyung;Choi Young-Wan
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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    • v.43 no.7 s.349
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    • pp.1-6
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    • 2006
  • We show for the first time the optical properties of the selectively oxidized vertical cavity laser (VCL) - depleted optical thyristor (DOT), which has not only a low threshold current, but also a high sensitivity to the optical input light. In order to analyze their switching characteristics, nonlinear s-shaped current-voltage characteristics are calculated and the reverse full-depletion voltages (Vneg's) are obtained as function of semiconductor parameters by using a finite difference method (FDM). The selectively oxidized PnpN VCL-DOT clearly shows the nonlinear s-shaped current-voltage and lasing characteristics. A switching voltage of 5.24 V, a holding voltage of 1.50 V, a spectral response at 854.5 nm, and a very low threshold current of 0.65 mA is measured, making these devices attractive for optical processing applications.

Dual Anode LIGBT on SOI Subskates (이중 애노드 구조의 SOI LIGBT)

  • Choi, S.P.;Jeon, B.C.;Han, M.K.;Choi, Y.I.
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2001.11a
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    • pp.81-83
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    • 2001
  • 새로이 제안한 이중 애노드 LIGBT(Dual Anode LIGBT)는 빠른 스위칭을 위한 기존의 단락 애노드 구조를 캐소드의 양쪽에 위치시킴으로써 단락 애노드 구조가 갖는 부성저항영역을 효과적으로 제거했다. 뿐만 아니라 순방향전압강하 또한 기존의 분리된 단락 애노드 LIGBT (Seperate Shorted Anode LIGBT)에 비해 30%의 개선 효과를 갖는다.

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