• 제목/요약/키워드: rf-Glow Discharge

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KSTAR 제1벽 세정을 위한 방전세정 시스템 설계 (Design of the discharge cleaning system for KSTAR vacuum vessel)

  • 정승호;인상렬
    • 한국진공학회지
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    • 제16권5호
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    • pp.383-387
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    • 2007
  • 본 논문에서는 KSTAR 토카막 진공용기의 세정을 위한 방전세정 시스템의 설계에 대해 기술하였다. 먼저 방전세정효율에 영향을 주는 매개변수들에 대해 논의하였으며. 실제 설계에서 직류방전 보다 낮은 압력에서 방전이 시작되고 유지되며 따라서 세정효율이 높은 RG 방전(RF-assisted DC glow discharge) 방법을 채택하였다. 그리고 방전세정의 균일성을 위해 두 개의 방전 전극을 진공용기의 진단포트(A,I-port)에 설치하였다. 설계된 방전세정 시스템은 KSTAR 진공용기 내벽 세정뿐만 아니라 제1벽의 연료재순환(fuel recycling)이나 보론화 처리(boronization)등의 연구에도 응용될 수 있다.

저기압하의 아르곤 가스의 RF 글로우 방전특성 (RF Glow Discharge Characteristics of Argon at Low Gas Pressure)

  • 곽동주;김두환;박정후
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1995년도 하계학술대회 논문집 C
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    • pp.1382-1384
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    • 1995
  • In order to study the structure of RF glow discharge driven at 13.56MHz in argon, the discharge voltage, current and phase shift between them will be measured over a wide range of discharge parameters(gas pressure between 1mTorr and 50mTorr with discharge power between 20mW and 200W). In this paper, the dc glow discharge characteristics and plasma parameters of both FTS and CPMS systems are studied experimentally. It is found that for CPMS system discharge is stablized under wider ranges of magnetic field and pressure than for FTS system. The plasma density and electron temperature of the plasma for these two systems are in the range of $10^{10}{\sim}7{\times}10^{11}[cm^{-3}]$ and $3.5{\sim}6.5$[eV], respectively.

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고주파 글로우 방전을 이용한 GRIMM형 방전원의 특성 및 방출/흡광분석법 연구 (Characterization and Emission/Absorption Study of a Grimm-type Glow discharge source in the application of high frequency Glow Discharge)

  • 서정기;우진춘
    • 분석과학
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    • 제7권2호
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    • pp.155-164
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    • 1994
  • 전형적인 Grimm형 방전관을 제작하고 고주파 방전에 의한 금속 및 세라믹시료 분석에 적용하였다. 금속 알루미늄과 알루미나에 대해 방출 스펙트럼을 관찰하였고 방전에 미치는 고주파의 전력과 알곤 기체의 압력에 대한 영향을 관찰하였으며, 시료와 접촉된 전극에 나타나는 DC-bias voltage를 확인하였다. 또한 SEM 사진을 관찰함으로써 rf-sputtering에 의한 알루미나 표면의 미세구조를 확인하였다. 저합금강(BAS 404-405) 중의 망간성분과 황동시료(NIST 1108-1117) 중의 아연성분에 대해 검량곡선을 작성한 결과 양호한 직선성을 보여 주었다.

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1,2차 모델링을 이용한 Ar RF 플라즈마의 응답 특성 (The Properties of Ar RF Plasma Using 1- and 2-dimensional Model)

  • 박용섭;정해덕
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제14권8호
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    • pp.622-628
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    • 2001
  • We developed 1- and 2-dimensional fluid model for the analysis of a capacitively coupled Ar RF(Radio Frequency) glow discharge. This discharge is in pure Ar gas at the pressure 100[mTorr], frequency 13.56[MHz] and voltage amplitude 120[V}. This model is based on the equations of continuity and electron energy conservation coupled with Poison equation. 2-dimensional model is simulated on the condition of GEC(Gaseous Electronic Conference cell). The geometry of the discharge chamber and the electrodes used in the model is cylindrically simmetric; tow cylinders for the electrodes are surrounded by the grounded chamber. It is shown that 1-dimensional model is very useful on the understanding of RF glow discharge property and of the movement of charged particles. 2-dimensional model predicts off-axis maximum structure as in the experiments and has the results in qualitatively and quantitatively good agreement with the experiments. Effects of dc self-bias voltage, guard ring and reactor geometry is discussed.

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원자흡수법에 의한 Gas-Jet Assisted RF 글로우방전 시스템의 특성 연구 (Fundamental Studies of Gas-jet Assisted Radio Frequency Glow Discharge Atomic Absorption Spectrometry)

  • 최성규;김효진
    • 분석과학
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    • 제8권1호
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    • pp.69-77
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    • 1995
  • 원자흡수용 gas-jet assisted RF 글로우 방전시스템을 제작하고 시료손실량과 원자흡광도에 미치는 실험변수들에 관한 연구를 수행하였다. 시료손실량과 흡광도는 방전전력, 압력 및 가스흐름에 큰 영향을 받았다. 원자흡광도와 시료손실량을 가스흐름이 600ml/min로 증가할 때 까지 계속 증가하였으며, 방전 압력은 3mbar에서 최대 흡광도를 나타내었다. 방전전력이 증가할수록 시료손실량과 흡광도는 증가하였으나 시스템의 안정도에 영향을 미치는 관계로 적당한 값의 선택이 필요하였다. 스테인리스 스틸 시료 중의 Ni과 황동시료 중의 Cr의 검량선을 작성한 결과 양호한 직선성이 얻어졌다.

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RF/DC 방전을 이용한 고 진공용SUS 용기세정에 관한 연구 (A study on the RE/DC discharge cleaning for high vacuum SUS chamber)

  • 김정형;임종연;서인용;정광화
    • 한국진공학회지
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    • 제10권3호
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    • pp.298-302
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    • 2001
  • 초청정을 요구하는 진공용기의 내벽세정을 위한 RF 및 DC 방전세정장치를 제작하여 여러 가지 방전조건에 따라 세정효과를 조사하였다. Baking없이 방전세정만을 수행하였을 때는 baking만 진행했을 때와 비슷한 세정효과를 나타내었으며 세정후의 탈기체율은 반으로 줄어들었다. Baking과 방전세정을 동시에 진행하면 세정효과가 매우 증대되어 세정후의 탈기체율이 1/20으로 감소하였다. Baking과 방전세정을 동시에 수행 시 여러 방전조건에 따른 세정효과를 조사하였는데 이온이 진공용기 내벽에 부딪히며 세정을 할 때 이온에너지와 이온밀도가 중요한 역할을 하는 것으로 보였다. 진공용기를 세정함에 있어 RF방전세정이 DC 방전세정보다 효과적이라는 결과를 얻었다.

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Plasma 부하를 갖는 System에서의 Automatching 회로

  • 황기웅;김원규;이석현
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1985년도 하계학술회의논문집
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    • pp.224-227
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    • 1985
  • During operation of an RF glow discharge system, it can be observed that the reflected power tends to increase in small value, due to changes in the impedance of the system. This problem can be relieved by adding an automatic impedance matching circuit to the system. This paper presents a detailed method of automatically matching the input impedance of a 50 ohm transmission line to an RF glow discharge system at 13.56 MHZ.

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평판형 전극계의 RF 글로우 방전특성 및 TiN 박막특성 (RF Glow Discharge and TiN Thin Film Characteristics in a Plane Electrode System)

  • 곽동주;김두환;김희제;박정후
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1996년도 하계학술대회 논문집 C
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    • pp.1838-1840
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    • 1996
  • In order to study the relationship between the physical properties of glow discharge plasma and the physical behavior of TiN thin film, electrical characteristics of RF discharge plasma driven at 13.56MHz in a parallel-plate electrode system were measured. Plasma parameters, such as electron density and temperature, are also studied since they may be considered as one of the very important factors deciding the physical properties of TiN thin film under given conditions of applied biasd voltage and pressure. The TiN thin film were fabricated over a wide range of discharge conditions, and some of the general relationships between the measured plasma parameters and the properties of TiN thin film were discussed.

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Molecular Emission Spectrometric Detection of Low Level Sulfur Using Hollow Cathode Glow Discharge

  • Koo, Il-Gyo;Lee, Woong-Moo
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제25권1호
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    • pp.73-78
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    • 2004
  • A highly sensitive detecting method has been developed for determining part per billion of sulfur in $H_2S$/Ar plasma. The method is based on the excitation of Ar/$H_2S\;or\;Ar/H_2S/O_2$ mixture in hollow cathode glow discharge sustained by radiofrequency (RF) or 60 Hz AC power and the spectroscopic measurement of the intensity of emission lines from electronically excited $S_2^*\;or\;SO_2^*$ species, respectively. The RF or AC power needed for the excitation did not exceed 30 W at a gas pressure maintained at several mbar. The emission intensity from the $SO_2^*$ species showed excellent linear response to the sulfur concentration ranging from 5 ppbv, which correspond to S/N = 5, to 500 ppbv. But the intensity from the $S_2^*$ species showed a linear response to the $H_2S$ only at low flow rate under 20 sccm (mL/min) of the sample gas. Separate experiments using $SO_2$ gas as the source of sulfur demonstrated that the presence of $O_2$ in the argon plasma is essential for obtaining prominent $SO_2^*$ emission lines.

Radio frequency gas-jet boosted 글로우 방전 원자 방출 분광법을 이용한 전도성 및 비 전도성의 다층 두께 분석에 관한 연구 (The Studies of Conductive and Non-Conductive Multi-Layer Depth Analysis by Radio Frequency Gas-Jet Boosted Glow Discharge Atomic Emission Spectrometry)

  • 조원보;이성훈;정종필;최우창;스튜어드 보든;김규환;김경미;김효진;정성욱;이중주
    • 분석과학
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    • 제15권3호
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    • pp.236-242
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    • 2002
  • RF 글로우 방전 원자 방출 분광법을 사용하여 다층 도금강판 두께분석을 하였다. 일반적으로 gas jet boosted 글로우 방전은 플라스마 안정성과 스퍼터링 효율이 우수하여 기존의 두께 분석법에서 측정이 어려운 다층 두께분석이 가능하며, RF를 사용하여 비전도성 실리콘-수지계열의 다층 도금강판 두께분석이 가능하였다. RF gas-jet boosted 글로우 방전은 방전전원과 가스 흐름량 그리고 방전압력에 의해 스퍼터링을 조절할 수 있다. 그래서 스퍼터링 효율에 의해 다층 도금된 강판의 경우 소재에 따라 서로 다른 조건에서 측정할 수가 있었다. 본 연구에서 두께 $20{\mu}m$의 아연층을 가진 아연 도금강판의 두께 및 조성을 분석하기 위해서 최적조건에 대한 연구를 하였고, 두 가지 기준물질로 구성된 수지 도금강판을 이용해서 검량선을 측정하였다. 본 연구에 최적조건 및 검량을 하기 위해서 아연합금 도금강판 및 실리콘-수지 도금강판은 포항 산업 과학 기술원(RIST)에서 제공하였다.