한국고분자학회 2006년도 IUPAC International Symposium on Advanced Polymers for Emerging Technologies
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pp.81-82
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2006
In this study, the applications of the block copolymer thin films are introduced. For this purpose, we first obtained cylindrical nanodomains in polystyrene-block-poly(methyl methacrylate) copolymer perpendicularly oriented to a substrate. Then, nanoporous templates were prepared after removing the PMMA nanodomains by UV treatment. By using electropolymerization, high density nanowire arrays of conducting polymer of poly(pyrrole) and poly( 3-hexyl thiopene) were obtained and their electric properties were measured. Also, these nanoporous thin films were found to be very useful for the separation of human Rhinovirus type 14 (HRV 14), major pathogen of a common cold in humans, from the buffer solution.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제16권2호
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pp.95-98
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2015
Organic polymer dielectric thin films of styrene and vinyl acetate were prepared by the plasma polymerization deposition technique and applied for the fabrication of an organic thin film transistor device. The structural properties of the plasma polymerized thin films were characterized by Fourier-transform infrared spectroscopy, X-ray diffraction, atomic force microscopy, and contact angle measurement. Investigation of the electrical properties of the plasma polymerized thin films was carried out by capacitance-voltage and current-voltage measurements. The organic thin film transistor device with gate dielectric of the plasma polymerized thin film revealed a low operation voltage of −10V and a low threshold voltage of −3V. It was confirmed that plasma polymerized thin films of styrene and vinyl acetate could be applied to functional organic thin film transistor devices as the gate dielectric.
In this study, PEDOT thin films polymerized with Iron(III)tosylate ($Fe(PTS)_3$) and grown on atomically smooth and highly dense 3-aminopropyltriethoxysilane self-assembled monolayer (APS-SAM) surfaces by VPP method have been investigated. PEDOT thin films were synthesized on APS self-assembled $SiO_2$ wafer surface at two different concentrations (20 wt% and 40 wt%) and growth time (3 and 30 minutes), and then their sheet resistance were measured and compared. PEDOT thin films grown with 20 wt% $Fe(PTS)_3$ oxidant are highly conductive when compared with the film grown with 40 wt% $Fe(PTS)_3$, as ascertained by the measured sheet resistance values down to 0.06 ${\Omega}/cm$. It clearly suggests that 20 wt% is more effective oxidant concentration for VPP than 40 wt% even though the film grown with 40 wt% oxidant has better quality than the film with 20 wt% $Fe(PTS)_3$ does.
Kim, M.C.;S.H. Cho;J.H. Boo;Lee, S.B.;J.G. Han;B.Y. Hong;S.H. Yang
한국표면공학회:학술대회논문집
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한국표면공학회 2001년도 춘계학술발표회 초록집
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pp.72-72
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2001
Plasma polymerized thin films have been deposited on Si(lOO) substrates at $25-400^{\circ}C$ using thiophene ($C_4H_4S$) precursor by plasma assisted chemical vapor deposition (PACVD) method for low-dielectric device application. In order to compare physical properties of the as-grown thin films, the effects of the plasma power, gas flow ratio and deposition temperature on the dielectric constant and thermal stability were mainly studied. XRD and TED studies revealed that the as-grown thin films have highly oriented amorphous polymer structure. XPS data showed that the polymerized thin films that grown under different RF power and deposition temperature as well as different gas ratio of $Ar:H_2$ have different stoichiometric ratio of C and S compared with that of monomer, indicating a formation of mixture polymers. Moreover, we also realized that oxygen free and thermally stable polymer thin films could be grown at even $400^{\circ}C$. The results of SEM, AFM and TEM showed that the polymer films with smooth surface and sharp interface could be grown under various deposition conditions. From the electrical property measurements such as I-V and C-V characteristics, the minimum dielectric constant and the best leakage current were obtained to be about 3.22 and $10-11{\;}A/\textrm{cm}^2$, respectively.
본 연구에서는 폴리머 애자의 자가세정 코팅을 위한 소재로써 $TiO_2$ 박막을 실리콘과 유리, 폴리머애자 기판위에 증착하였다. $TiO_2$ 박막은 $TiO_2$ 세라믹 타겟이 부착된 RF 마그네트론 스퍼터링 장치를 이용하여 증착하였다. $TiO_2$ 박막은 스퍼터링의 다양한 공정조건 중 RF 파워의 크기에 따라 100 nm의 두께로 증착하였다. RF 파워에 따라 증착되어진 $TiO_2$ 박막의 접촉각, 표면거칠기등 표면 특성을 확인하였으며, UV-visible등 광학적 특성을 고찰하여, 구조적 특성과의 관계를 고찰하였다.
Spatially resolved, quantitative, non-destructive analysis using synchrotron x-ray reflectivity (XR) with subnano-scale resolution was successfully performed on the nanoporous organosilicate thin films for low dielectric applications. The structural information of porous thin films, which were prepared with polymethylsilsesquioxane and thermally labile 4-armed, star-shaped poly(ε-caprolactone) (PCL) composites, were characterized in terms of the laterally averaged electron density profile along with a film thickness as well as a total thickness. The thermal process used in this work caused to efficiently undergo sacrificial thermal degradation, generating closed nanopores in the film. The resultant nanoporous films became homogeneous, well-defined structure with a thin skin layer and low surface roughness. The average electron density of the calcined film reduced with increase of the initial porogen loading, and finally leaded to corresponding porosity ranged from 0 to 22.8% over the porogen loading range of 0-30 wt%. In addition to XR analysis, the surface and the inner structures of films are investigated and discussed with atomic force and scanning electron microscopy images.
한국정보디스플레이학회 2009년도 9th International Meeting on Information Display
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pp.537-539
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2009
We report the improvement in adhesion of IZO thin films through oxygen ($O_2$) plasma treatment of organic polymer film. In conclusion, the $O_2$ plasma treatment of an organic polymer film was accomplished with improving ca. 1.8 times in adhesion than that of the only general etch treatment on the same organic polymer film.
In this paper, we investigated the surface properties of polymer insulators to improve electrical insulation performance. First, after washing the polymer insulator in various ways, its contact angle was increased, thereby improving the hydrophobic properties and electrical insulation properties. In addition, TiO2 thin films, which have been used as a photocatalytic material and have been applied to the polymer insulator surface of to enhance the surface and electrical insulating properties. For the sputtering method, the contact angle after coating the TiO2 thin film increased with increasing RF power, but it was lower compared to that before coating, indicating that the hydrophobic properties of the surface were slightly deteriorated. Consequently, the electrical properties of the polymer-insulating material were maintained or improved after the TiO2 thin-film coating.
Kim, Jae-Kyoung;Kim, Jung-Min;Yoon, Tae-Sik;Lee, Hyun-Ho;Jeon, D.;Kim, Yong-Sang
Journal of Electrical Engineering and Technology
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제4권1호
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pp.118-122
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2009
Organic thin film transistors with a pentacene active layer and various polymer gate insulators were fabricated and their performances were investigated. Characteristics of pentacene thin film transistors on different polymer substrates were investigated using an atomic force microscope (AFM) and x-ray diffraction (XRD). The pentacene thin films were deposited by thermal evaporation on the gate insulators of various polymers. Hexamethyldisilazane (HMDS), polyvinyl acetate (PVA) and polymethyl methacrylate (PMMA) were fabricated as the gate insulator where a pentacene layer was deposited at 40, 55, 70, 85, 100 oC. Pentacene thin films on PMMA showed the largest grain size and least trap concentration. In addition, pentacene TFTs of top-contact geometry are compared with PMMA and $SiO_2$ as gate insulators, respectively. We also fabricated pentacene TFT with Poly (3, 4-ethylenedioxythiophene)-Polysturene Sulfonate (PEDOT:PSS) electrode by inkjet printing method. The physical and electrical characteristics of each gate insulator were tested and analyzed by AFM and I-V measurement. It was found that the performance of TFT was mainly determined by morphology of pentacene rather than the physical or chemical structure of the polymer gate insulator
Journal of information and communication convergence engineering
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제5권3호
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pp.219-222
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2007
Highly conductive and transparent aluminum doped ZnO thin films (AZO) films have been prepared by r.f. magnetron sputtering processes on poly carbonate (PC) and onto glass as reference. In addition, the electrical, optical properties of the films prepared at various sputtering powers were investigated. The XRD measurements revealed that all of the obtained films were polycrystalline with the hexagonal structure and had a preferred orientation with the c-axis perpendicular to the substrate. The ZnO:Al films were increasingly dark gray colored as the sputter power increased, resulting in the loss of transmittance. High quality films with the resistivity as low as $9.7{\times}10^{-4}\;{\Omega}-cm$ and transmittance over 90% have been obtained by suitably controlling the r.f. power.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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