• 제목/요약/키워드: pnp transistor

검색결과 28건 처리시간 0.019초

기동 전류를 개선한 수직 PNP 트랜지스터의 특성에 관한 연구 (A Study on the Characteristics of the Vertical PNP transistor that improves the starting current)

  • 이정환
    • 한국산업정보학회논문지
    • /
    • 제21권1호
    • /
    • pp.1-6
    • /
    • 2016
  • 본 논문에서는 기생 트랜지스터를 억제하여 대기 전류를 낮춰 기동전류를 개선한 수직 PNP 트랜지스터의 특성을 소개한다. 기생 효과를 억제하기 위해, 회로 변경 없이 "DN+ 링크"를 사용하여 기생 PNP 트랜지스터를 억제 시킨 수직 PNP 트랜지스터를 설계하였으며, 표준 IC 프로세서를 이용한 LDO 레귤레이터를 제작했다. 제작된 기생 PNP 트랜지스터의 hFE 가 기존의 18에서 0.9로 감소하였다. 개선된 "DN+ 링크" 구조 수직 PNP 트랜지스터로 제작된 LDO 레귤레이터의 기동 전류는 기존의 기동 전류 90mA에서 32mA 로 감소되었다. 이로 인해 대기상태에서 저 소비전력을 구현한 LDO 레귤레이터를 개발하였다.

베이스 영역의 불순물 분포를 고려한 집적회로용 BJT의 역포화전류 모델링 (The Modeling of the Transistor Saturation Current of the BJT for Integrated Circuits Considering the Base)

  • 이은구;김태한;김철성
    • 대한전자공학회논문지SD
    • /
    • 제40권4호
    • /
    • pp.13-20
    • /
    • 2003
  • 반도체 소자이론에 근거한 집적회로용 BJT의 역포화 전류 모델을 제시한다. 공정 조건으로부터 베이스 영역의 불순물 분포를 구하는 방법과 원형 에미터 구조를 갖는 Lateral PNP BJT와 Vertical NPN BJT의 베이스 Gummel Number를 정교하게 계산하는 방법을 제시한다. 제안된 방법의 타당성을 검증하기 위해 20V와 30V 공정을 기반으로 제작한 NPN BJT와 PNP BJT의 역포화 전류를 실측치와 비교한 결과, NPN BJT는 6.7%의 평균상대오차를 보이고 있으며 PNP BJT는 6.0%의 평균 상태오차를 보인다.

병합트랜지스터를 이용한 고속, 고집적 ISL의 설계 (Design of a high speed and high intergrated ISL(Intergrated Schottky Logic) using a merged transistor)

  • 장창덕;이용재
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국해양정보통신학회 1999년도 춘계종합학술대회
    • /
    • pp.415-419
    • /
    • 1999
  • Many bipolar logic circuit of conventional occurred problem of speed delay according to deep saturation state of vertical NPN Transistor. In order to remove minority carries of the base region at changing signal in conventional bipolar logic circuit, we made transistor which is composed of NPN transistor shortened buried layer under the Base region, PNP transistor which is merged in base, epi layer and substrate. Also the Ring-Oscillator for measuring transmission time-delay per gate was designed as well. The structure of Gate consists of the vertical NPN Transistor, substrate and Merged PNP Transistor. In the result, we fount that tarriers which are coming into intrinsic Base from Emitter and the portion of edge are relatively a lot, so those make Base currents a lot and Gain is low with a few of collector currents because of cutting the buried layer of collector of conventional junction area. Merged PNP Transistor's currents are low because Base width is wide and the difference of Emitter's density and Base's density is small. we get amplitude of logic voltage of 200mv, the minimum of transmission delay-time of 211nS, and the minimum of transmission delay-time per gate of 7.26nS in AC characteristic output of Ring-Oscillator connected Gate.

  • PDF

집적회로용 PNP BJT의 베이스 Gummel Number 계산 방법에 관한 연구 (A study on the method of the calculation of the base Gummel number of the PNP BJT for integrated circuits)

  • 이은구;이동렬;김태한;김철성
    • 대한전기학회:학술대회논문집
    • /
    • 대한전기학회 2002년도 추계학술대회 논문집 전기물성,응용부문
    • /
    • pp.141-144
    • /
    • 2002
  • The method of the analysis of the base Gummel number of the PNP BJT(Bipolar Junction Transistor) for integrated circuits based upon the semiconductor physics is proposed and the method of calculating the doping profile of the base region using process conditions is presented. The transistor saturation current obtained from the proposed method of PNP BJT using 20V and 30V process shows an averaged relative error of 6.7% compared with the measured data.

  • PDF

PNP 게이트를 가지는 폴리 실리콘 박막 트랜지스터의 전기적 특성 (Electrical characteristics of polysilicon thin film transistors with PNP gate)

  • 민병혁;박철민;한민구
    • 전자공학회논문지A
    • /
    • 제33A권3호
    • /
    • pp.96-106
    • /
    • 1996
  • One of the major problems for poly-Si TFTs is the large off state leakage current. LDD (lightly doped drain) and offset gated structures have been employed in order to reduce the leakage current. However, these structures also redcue the oN current significantly due to the extra series resistance caussed by the LDD or offset region. It is desirable to have a device which would have the properties of the offset gated structure in the OFF state, while behaving like a fully gated device in the oN state. Therefore, we propose a new thin film transistor with pnp junction gate which reduce the leakage curretn during the OFF state without sacrificing the ON current during the ON state.

  • PDF

ISL 트랜지스터의 특성 파라메터 추출 (The Characteristics Parameter extract of ISL ( Intergrated Schottky Logic ) Transistor)

  • 장창덕;이정석;이용재
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국전기전자재료학회 1998년도 추계학술대회 논문집
    • /
    • pp.5-8
    • /
    • 1998
  • 기존의 바이폴라 논리회로에서 신호변환시 베이스 영역의 소수 캐리어를 빨리 제거 하기 위해서, 베이스 부분의 매몰충을 줄여서 npn트랜지스터의 베이스와 에피충과 기판사이에 병합 pnp 트랜지스터를 생성한 트랜지스터와 게이트 당 전달 지연 시간을 측정하기 위한 링-발진기를 설계, 제작하였다. 게이트의 구조는 수직 npn 트랜지스터와 기판과 병합 pnp 트랜지스터이다. 소자 시뮬레이션의 자료를 얻기 위하여 수직 npn 트랜지스터와 병합 pnp 트랜지스터의 전류-전압 특성을 분석하여 특성 파라미터를 추출하였다. 결과로서 npn 트랜지스터의 에미터의 면적이 기존의 접합넓이에 비해서 상당히 적기 때문에 에미터에서 진성베이스로 유입되는 캐리어와 가장자리 부분으로 유입되는 캐리어가 상대적으로 많기 때문에 이 많은 양은 결국 베이스의 전류가 많이 형성되며, 또 콜렉터의 매몰층이 거의 반으로 줄었기 때문에 콜렉터 전류가 적게 형성되어 이득이 낮아진다. 병합 pnp 트랜지스터는 베이스폭이 크고 농도 분포에서 에미터의 농도와 베이스의 농도 차이가 적기 때문에 전류 이득이 낮아졌다. 게이트를 연결하여 링-발진기를 제작하여 측정한 AC특성의 출력은 정현파로 논리전압의 진폭은 200mV, 최소 전달 지연시간은 211nS이며, 게이트당 최소 전달지연 시간은 7.26nS의 개선된 속도 특성을 얻었다.

  • PDF

PIN 다이오드 - PNP 트랜지스터 결합모델에 의한 1,700 V급 NPT 트랜치 IGBT의 해석에 관한 연구 (A Study on the 1,700 V Rated NPT Trench IGBT Analysis by PIN Diode - PNP Transistor Model)

  • 이종석;경신수;강이구;성만영
    • 한국전기전자재료학회논문지
    • /
    • 제21권10호
    • /
    • pp.889-895
    • /
    • 2008
  • This paper presents a comprehensive mathematical analysis and simulation of trench IGBT with the help of PIN-PNP combinational model. Since trench IGBT is characteristically influenced by PIN diode, it may be almost impossible to analyze the trench IGBT using PNP-MOS modeling methods, even PIN-MOS techniques which neglect the hole current components coming into p-base region. A new PIN-PNP complementary cooperational model is developed in order to make up the drawbacks of existing models. It would allow us to make qualitative analysis as well as simulation about switching and on-state characteristics of 1,700 V trench IGBT. Moreover, if we improve the PIN diode effects through the optimization of trench structure, trench IGBT is expected to be one of the most promising devices in the not only high-voltage but also high speed switching device field.

ISL 트랜지스터의 전기적 특성 (The Electrical Characteristics of ISL ( Intergrated Schottky Logic ) Transistor)

  • 장창덕;이정석;이용재
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국해양정보통신학회 1998년도 추계종합학술대회
    • /
    • pp.151-154
    • /
    • 1998
  • 기존의 바이폴라 논리회로에서 신호변환시 베이스 영역의 소수 캐리어를 빨리 제거하기 위해서, 베이스 부분의 매몰층을 줄여서 npn트랜지스터의 베이스와 에피층과 기판사이에 병합 pnp 트랜지스터를 생성한 트랜지스터와 게이트 당 전달 지연 시간을 측정하기 위한 링-발진기를 설계, 제작하였다. 게이트의 구조는 수직 npn 트랜지스터와 기판과 병합 pnp 트랜지스터이다. 결과로서 npn 트랜지스터의 에미터의 면적이 기존의 접합넓이에 비해서 상당히 적기 때문에 에미터에서 진성베이스로 유입되는 캐리어와 가장자리 부분으로 유입되는 캐리어가 상대적으로 많기 때문에 이 많은 양은 결국 베이스의 전류가 많이 헝성되며, 또 콜렉터의 매몰층이 거의 반으로 줄었기 때문에 콜렉터 전류가 적게 형성되어 이득이 낮아진다. 병합 pnp 트랜지스터는 베이스폭이 크고 농도 분포에서 에미터의 농도와 베이스의 농도 차이가 적기 때문에 전류 이득이 낮아졌다. 게이트를 연결하여 링-발진기를 제작하여 측정한 AC특성의 출력은 정현파로 논리전압의 진폭은 200mV, 최소 전달 지연시간은 211nS이며, 게이트당 최소 전달지연 시간은 7.26nS의 개선된 속도 특성을 얻었다.

  • PDF

Turn-off time improvement by fast neutron irradiation on pnp Si Bipolar Junction Transistor

  • Ahn, Sung Ho;Sun, Gwang Min;Baek, Hani
    • Nuclear Engineering and Technology
    • /
    • 제54권2호
    • /
    • pp.501-506
    • /
    • 2022
  • Long turn-off time limits high frequency operation of Bipolar Junction Transistors (BJTs). Turn-off time decreases with increases in the recombination rate of minority carriers at switching transients. Fast neutron irradiation on a Si BJT incurs lattice damages owing to the displacement of silicon atoms. The lattice damages increase the recombination rate of injected holes with electrons, and decrease the hole lifetime in the base region of pnp Si BJT. Fast neutrons generated from a beryllium target with 30 MeV protons by an MC-50 cyclotron were irradiated onto pnp Si BJTs in experiment. The experimental results show that the turn-off time, including the storage time and fall time, decreases with increases in fast neutron fluence. Additionally, it is confirmed that the base current increases, and the collector current and base-to-collector current amplification ratio decrease due to fast neutron irradiation.

속도 향상을 위한 병합트랜지스터를 이용한 ISL의 설계 (Design of ISL(Intergrated Schottky Logic) for improvement speed using merged transistor)

  • 장창덕;백도현;이정석;이용재
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국전기전자재료학회 1999년도 춘계학술대회 논문집
    • /
    • pp.21-25
    • /
    • 1999
  • In order to remove minority carries of the base region at changing signal in conventional bipolar logic circuit, we made transistor which is composed of NPN transistor shortened buried layer under the Base region, PNP transistor which is merged in base, epi layer and substrate. Also the Ring-Oscillator for measuring transmission time-delay per gate was designed as well. In the result, we get amplitude of logic voltage of 200mV, the minimum of transmission delay-time of 211nS, and the minimum of transmission delay-time per gate of 7.26ns in AC characteristic output of Ring-Oscillator connected Gate.

  • PDF