Epitaxial Growth of CoSi2 Layer on (100)Si Substrate using CoNx Interlayer deposited by Reactive Sputtering (반응성 스퍼터링법으로 증착된 CoNx 중간층을 이용한 (100)Si 기판 위에서의 에피택셜 CoSi2 성장 연구)
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- Korean Journal of Materials Research
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- v.16 no.1
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- pp.30-36
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- 2006