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Partially Homomorphic Encryption HW accelerator (부분적 동형암호 HW 가속기 설계에 관한 연구)

  • Nam, Kevin;Chang, Jiwon;Cho, Myunghyun;Bang, Inyoung;Paek, Yunheung
    • Proceedings of the Korea Information Processing Society Conference
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    • 2020.05a
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    • pp.268-271
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    • 2020
  • 최근 동형암호에 대한 관심이 높아진 가운데, 이를 활용한 Cloud Computing 서비스를 구축하기 위한 시도가 이어지고 있다. 기존 동형암호 HW에 대한 연구는 수학적 기능 구현 자체에 중점을 두고 있다. 본 논문에서는 동형암호 CNN inference 모델 설계 과정에서 HW 구현 한계점과 bottleneck들을 수학적 기법이 아닌 HW 특징을 이용해서 극복하는 과정을 서술하였다.

Effect of Electromagnetic Stirring on Microstructure Evolution in Solidification of a Near-Eutectic Al-Si Alloy

  • Guo, Qing-Tao;Sim, Jae-Gi;Jang, Young-Soo;Choi, Byoung-Hee;Lee, Moon-Hyoung;Hong, Chun-Pyo
    • Journal of Korea Foundry Society
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    • v.28 no.5
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    • pp.226-230
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    • 2008
  • 본 논문에서는 공정조성 부근의 Al-Si 합금의 미세구조에 미치는 전자기교반(EMS)의 영향에 대하여 연구하였다. 초정 a 상의 형상에 미치는 전자기교반의 세기의 영향을 조사하기 위하여 각각 교반장치에 60, 80,및 120V의 전압을 가하여 미세조직을 관찰하였다. 60V 이하의 전압이 인가되었을 때 전자기교반의 효과가 나타나지 않은 반면에, 80V 이상의 전압으로 5초 이상 인가되었을 때 구상화된 초정 a 상을 얻을 수 있었다. 인가된 전압이 120V일 때 초정 a 상은 보다 균일한 분포를 가지며 구상화 되었다. 전자기교반의 세기와 함께 교반시간의 영향을 확인하기 위하여 교반시간을 증가시키면서 미세조직을 관찰하였다. 또한 초정 a 상의 형상에 미치는 주조변수의 영향에 대해서도 실험하였다.

Organic complementary inverter and ring oscillator on a flexible substrate

  • Kim, Min-Gyu;Cho, Hyun-Duck;Kwak, Jeong-Hun;Kang, Chan-Mo;Park, Myeong-Jin;Lee, Chang-Hee
    • Journal of Information Display
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    • v.12 no.1
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    • pp.1-4
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    • 2011
  • A complementary inverter was fabricated using pentacene and N-N -dioctyl-3,4,9,10-perylene tetracarboxylic diimide-C (PTCDI-C8) for p- and n-type transistors on a poly(ether sulfone) substrate, respectively. The mobilities of the p- and n-type transistors were 0.056 and 0.013 $cm^2$/Vs, respectively. The inverter, which was composed of p- and n-type transistors, showed a gain of 48.6 when $V_{DD}$ = -40V and at the maximum noise margin of $V_{DD}$/2. A ring oscillator was also fabricated by cascading five inverters. The five-stage ring oscillator showed the maximum output frequency of 10 kHz when $V_{DD}$ = -170 V.

Recognition Of Chinese Named-Entity Using Support Vector Machine (SVM을 이용한 중국어 개체명 식별)

  • Jin, Feng;Na, Seung-Hoon;Kang, In-Su;Li, Jin-Ji;Kim, Dong-Il;Lee, Jong-Hyeok
    • Proceedings of the Korean Information Science Society Conference
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    • 2004.04b
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    • pp.934-936
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    • 2004
  • 본문에서는 최근 들어 각광을 받고 있는 패턴인식 방법론인 Support Vector Machine을 이용하여 중국어 개체명을 식별하는 방법을 제안하고자 한다. SVM(support vector machine)은 입력 자질이 많을 경우에도 안정적인 성능을 나타내고 보편적으로 적용할 수 있는 모델을 개발할 수 있는 장점이 있다. 실험에서 어휘. 품사, 의미부류 등 많은 수의 자질을 이용하였다. 실험결과는 본문에서 제안한 방법이 튜닝을 거치지 않아도 좋은 성능을 나타낼 수 있고, 수행 속도도 만족스럽다는 것을 보여주었다.

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A PVT-compensated 2.2 to 3.0 GHz Digitally Controlled Oscillator for All-Digital PLL

  • Kavala, Anil;Bae, Woorham;Kim, Sungwoo;Hong, Gi-Moon;Chi, Hankyu;Kim, Suhwan;Jeong, Deog-Kyoon
    • JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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    • v.14 no.4
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    • pp.484-494
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    • 2014
  • We describe a digitally controlled oscillator (DCO) which compensates the frequency variations for process, voltage, and temperature (PVT) variations with an accuracy of ${\pm}2.6%$ at 2.5 GHz. The DCO includes an 8 phase current-controlled ring oscillator, a digitally controlled current source (DCCS), a process and temperature (PT)-counteracting voltage regulator, and a bias current generator. The DCO operates at a center frequency of 2.5 GHz with a wide tuning range of 2.2 GHz to 3.0 GHz. At 2.8 GHz, the DCO achieves a phase noise of -112 dBc/Hz at 10 MHz offset. When it is implemented in an all-digital phase-locked loop (ADPLL), the ADPLL exhibits an RMS jitter of 8.9 ps and a peak to peak jitter of 77.5 ps. The proposed DCO and ADPLL are fabricated in 65 nm CMOS technology with supply voltages of 2.5 V and 1.0 V, respectively.

Automatic Back-Transliteration with Word Origin Information (어원 정보를 이용한 외래어의 자동 원어 복원)

  • Lee, Sang-Yool;Kang, In-Su;Na, Seung-Hoon;Lee, Jong-Hyeok
    • Annual Conference on Human and Language Technology
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    • 2003.10d
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    • pp.54-60
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    • 2003
  • 음차 표기된 외래어로부터 원어를 복원하는 문제는 원어의 발음정보를 이용한 통계적인 방법을 많이 사용한다. 하지만 지금까지의 연구들은 대부분 영어단어만을 그 대상으로 하였기 때문에 '도쿄(Tokyo)', '하인리히(Hinrich)'와 같이 어원이 영어가 아닌 단어들의 복원에는 좋은 결과를 보여주지 못했다. 이러한 문제를 해결하기 위하여 한글로 표기된 외래어의 어원을 판단할 수 있는 방법을 찾아내고, 이 방법을 통해 외래어를 어원별로 분리하여 학습모델을 구축함으로써 다양한 어원을 가진 외래어들의 복원 정확률을 높이고자 하였다. 위의 방식으로 구현된 시스템은 영어, 일본어, 중국어, 프랑스어의, 서로 다른 4개의 어원을 가진 데이터의 복원 실험에서 기존의 방식에 비해 13%의 성능 향상을 보였다.

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Verb Clustering for Defining Relations between Ontology Classes of Technical Terms Using EM Algorithm (EM 알고리즘을 이용한 전문용어 온톨로지 클래스간 관계 정의를 위한 동사 클러스터링)

  • Jin, Meixun;Nam, Sang-Hyob;Lee, Yong-Hoon;Lee, Jong-Hyeok
    • Annual Conference on Human and Language Technology
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    • 2007.10a
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    • pp.233-240
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    • 2007
  • 온톨로지 구축에서 클래스간 관계 설정은 중요한 부분이다. 본 논문에서는 클래스간 상 하위 관계 외의 관계 설정을 위한 클래스간 관계 자동 정의를 목적으로 의존구문분석의 (주어, 용언) (목적어, 용언) 쌍들을 추출하고, 이렇게 추출된 데이터를 이용하여 용언들을 클러스터링 하는 방법을 제안한다. 도메인 전문 코퍼스 데이터 희귀성 문제를 해결하고자, 웹검색을 결합한 방식을 선택하여 도메인 온톨로지 구축 클래스간 관계 자동 설정에 대한 방법론을 제시한다.

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The Effects of Corner Transistors in STI-isolated SOI MOSFETs

  • Cho, Seong-Jae;Kim, Tae-Hun;Park, Il-Han;Jeong, Yong-Sang;Lee, Jong-Duk;Shin, Hyung-Cheol;Park, Byung-Gook
    • Proceedings of the IEEK Conference
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    • 2005.11a
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    • pp.615-618
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    • 2005
  • In this work, the effects of corner transistors in SOI MOSFETs were investigated. We fabricated SOI MOSFETs with various widths and a fixed length and characterized them. The SOI thickness was $4000{\AA}$ and the buried oxide(BOX) thickness was $4000{\AA}$. The isolation of active region was simply done by silicon etching and TEOS sidewall formation. Several undesirable characteristics have been reported for LOCOS isolation in fabrication on SOI wafers so far. Although we used an STI-like process instead of LOCOS, there were still a couple of abnormal phenomena such as kinks and double humps in drain current. Above all, we investigated the location of the parasitic transistors and found that they were at the corners of the SOI in width direction by high-resolution SEM inspection. It turned out that their characteristics are strongly dependent on the channel width. We made a contact pad through which we can control the body potential and figured out the dependency of operation on the body potential. The double humps became more prominent as the body bias went more negative until the full depletion of the channel where the threshold voltage shift did not occur any more. Through these works, we could get insights on the process that can reduce the effects of corner transistors in SOI MOSFETs, and several possible solutions are suggested at the end.

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Spin-polarized Current Switching of Co/Cu/Py Pac-man type II Spin-valve

  • Lyle, Andrew;Hong, Yang-Ki;Choi, Byoung-Chul;Abo, Gavin;Bae, Seok;Jalli, Jeevan;Lee, Jae-Jin;Park, Mun-Hyoun;Syslo, Ryan
    • Journal of Magnetics
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    • v.15 no.3
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    • pp.103-107
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    • 2010
  • We investigated spin-polarized current switching of Pac-man type II (PM-II) nanoelements in Pac-man shaped nanoscale spin-valves (Co/Cu/Py) using micromagnetic simulations. The effects of slot angle and antiferromagnetic (AFM) layer were simulated to obtain optimum switching in less than 2 ns. At a critical slot angle of $105^{\circ}$, the lowest current density for anti-parallel to parallel (AP-P) switching was observed due to no vortex or antivortex formation during the magnetic reversal process. All other slot angles for AP-P formed a vortex or antivortex during the magnetization reversal process. Additionally, a vortex or anti-vortex formed for all slot angles for parallel to anti-parallel (P-AP) switching. The addition of an AFM layer caused the current density to decrease significantly for AP-P and P-AP at slot angles less than $90^{\circ}$. However, at slot angles greater than $90^{\circ}$, the current density tended to decrease by less amounts or actually increased slightly as shape anisotropy became more dominant. This allowed ultra-fast switching with 5.05 and $5.65{\times}10^8\;A/cm^2$ current densities for AP-P and P-AP, respectively, at a slot angle of $105^{\circ}$.

VT-Modulation of Planar Tunnel Field-Effect Transistors with Ground-Plane under Ultrathin Body and Bottom Oxide

  • Sun, Min-Chul;Kim, Hyun Woo;Kim, Hyungjin;Kim, Sang Wan;Kim, Garam;Lee, Jong-Ho;Shin, Hyungcheol;Park, Byung-Gook
    • JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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    • v.14 no.2
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    • pp.139-145
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    • 2014
  • Control of threshold voltage ($V_T$) by ground-plane (GP) technique for planar tunnel field-effect transistor (TFET) is studied for the first time using TCAD simulation method. Although GP technique appears to be similarly useful for the TFET as for the metal-oxide-semiconductor field-effect transistor (MOSFET), some unique behaviors such as the small controllability under weak ground doping and dependence on the dopant polarity are also observed. For $V_T$-modulation larger than 100 mV, heavy ground doping over $1{\times}10^{20}cm^{-3}$ or back biasing scheme is preferred in case of TFETs. Polarity dependence is explained with a mechanism similar to the punch-through of MOSFETs. In spite of some minor differences, this result shows that both MOSFETs and TFETs can share common $V_T$-control scheme when these devices are co-integrated.