Lee, Dong Bok;Kim, Min Jung;Yadav, Poonam;Xiao, Xiao
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.51
no.6
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pp.354-359
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2018
NaCl-induced hot corrosion behavior of ASTM T22 (Fe-2.25Cr-1Mo), T91 (Fe-9Cr-1Mo), T92 (Fe-9Cr-1.8W-0.5Mo), 347HFG (Fe-18-Cr-11Ni), and 310H (Fe-25Cr-19Ni) steels was studied after spraying NaCl on the surface. During corrosion at $600-800^{\circ}C$ for 50-100 h, thick, non-adherent, fragile, somewhat porous oxide scales formed. All the alloys corroded fast with large weight gains owing to fast scaling and destruction of protective oxide scales. Corrosion rates increased progressively as the corrosion temperature and time increased. Corrosion resistance increased in the order of T22, T91, T92, 347HFG, and 310H, suggesting that the alloying elements of Cr, Ni, and W beneficially improved the corrosion resistance of steels. Basically, Fe oxidized to $Fe_2O_3$, and Cr oxidized to $Cr_2O_3$, some of which further reacted with FeO to form $FeCr_2O_4$ or with NiO to form $NiCr_2O_4$.
Ryu B. H.;Yoon S. P.;Han J;Nam S. W.;lim T.-H.;Hong S.-A.
New & Renewable Energy
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v.1
no.1
s.1
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pp.64-71
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2005
The stability of alumina-coated NiO cathodes was studied in $Li_{0.62}/K_{0.38}$ molten carbonate electrolyte. Alumina was effectively coated on the porous Ni plate using galvanostatic pulse plating method. The deposition mechanism of alumina was governed by the concentration of hydroixde ions near the working electrode, which was controlled by the temperature of bath solution. Alumina-coated NiO cathodes were formed to $A1_2O_3-NiO$ solid solution by the oxidation process and their Ni solubilities were were than that of NiO up to the immersion time of 100h. However, their Ni solubilities increased and were similar to that of the bare NiO cathode after 100h. It was because aluminum into the solid solution was segregated to $\alpha-LiAlO_2$ on the NiO and its Product did not Play a role of the Physical barrier against NiO dissolution.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.34
no.3
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pp.206-214
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2001
The purpose of this study is to determine the effects of Ni on precipitate formation in a Ni added galvanizing bath, which has various Ni content from 0.03wt.% to 0.5wt.%. The addition of hi in the Ni containing galvanizing bath resulted in the formation of Al-Ni intermetallic compounds such as $Al_3$$Ni_2$ and $Al_2$Ni, which make up most of the top precipitates. At 0.07wt.%Ni, Al-Ni intermetallic compound formed sensitively with small amount of Al addition. By analysing the reaction thickness of galvanized steel, it was found that Ni addition in a Zn-0.18w1.%Al bath tended to suppress the formation of Fe-Zn intermetallic compounds but the formation of these compounds increased with increasing Ni concentration above 0.1wt.%.
Exchange coupled $NiFe/TbCo/Sio_{2}$ thin films for magnetoresistive heads were sputter deposited using RF diode sputtering method, and their magnetic characteristics were measured. TbCo films were deposited using a composite target, which is composed of Tb chips epoxied on a Co target. NiFe($400\AA$)/TbCo($1500\AA$)/$SiO_{2}$($500\AA$) films were deposited using a TbCo target having 30 % of Tb area ratio, which showed 25 Oe of the exchange field without substrate bias and 12 Oe with -55 V of substrate bias. The effective in-plane coercivities of the three layer films fabricated with less than -55 V of substrate bias were approximately proportional to the perpendicular coercivities of the TbCo layer only. The films fabricated with a Theo target of 28 % area ratio showed the same trend. However, the exchange field decreased to 4 Oe without the substrate bias and 7 Oe with -55 V of substrate bias. In the films fabricated with 1000 W of power and the target of 36 % area ratio exhibited 100 Oe of exchange field and 3 Oe of coercivity. As the thickness of NiFe layer increased, the exchange field decreased.
This study was carried out to investigate the precipitation behavior of the ${\chi}$ phase and the impact toughness of 25%Cr-7%Ni-2%Mo-4%W super duplex stainless steel. The ${\chi}$ phase was precipitated in the early stage of aging, and with the increasing aging time. However, after reaching a maximum value, the number decreased as a result of the gradual transformation of the ${\chi}$ phase into the ${\sigma}$-phase. It was proved that the ${\chi}$ phase was an intermetallic compound, which represented a lower nickel concentration, higher chromium and molybdenum concentrations, and very higher tungsten concentration compared to the matrix phases. It also showed higher molybdenum and tungsten concentrations than the ${\sigma}$ phase. The decomposition of the ferrite phase into the ${\gamma}_2$ and ${\sigma}$ phases was retarded by W substitution for Mo. Thus, the number of ${\chi}$ phases increased. The impact value was decreased by the substitution of W for Mo. The impact toughness rapidly decreased with time when the ${\chi}$ phase began to precipitate in the initial stage of aging. The impact toughness was, therefore, greatly influenced for the precipitation of the ${\chi}$ phase.
As an alternative to the W plug used in MOSFETs, a Cu plug with a NiSi contact using Ta / TaN as a diffusion barrier is currently being considered. Conventionally, Ni was first deposited and then NiSi was formed, followed by the barrier and Cu deposition. In this study, Ti was employed as a barrier material and simultaneous formation of the NiSi contact and Cu plug / Ti barrier was attempted. Cu(100 nm) / Ti / Ni(20 nm) with varying Ti thicknesses were deposited on a Si substrate and annealed at $4000^{\circ}C$ for 30 min. For comparison, Cu/Ti/NiSi thin films were also formed by the conventional method. Optical Microscopy (OM), Scanning Probe Microscopy (SPM), X-Ray Diffractometry (XRD), and Auger Electron Microscopy (AES) analysis were performed to characterize the inter-diffusion properties. For a Ti interlayer thicker than 50 nm, the NiSi formation was incomplete, although Cu diffusion was inhibited by the Ti barrier. For a Ti thickness of 20 nm and less, an almost stoichiometric NiSi contact along with the Cu plug and Ti barrier layers was formed. The results were comparable to that formed by the conventional method and showed that this alternative process has potential as a formation process for the Cu plug/Ti barrier/NiSi contact system.
Reduction behavior of stainless steelmaking dust by microwave heating process was investigated using coke and charcoal as reducing agents. Pellet dust and stanless steelmaking dust pelletized with reducing agent were reduced by the heating upto $1000^{\circ}C$ in microwave oven. The results showed that charcoal and coke seemed effective in the reduction of metals from stainless steelmaking dust by microwave heating and charocal was found to be better than coke. Degree of reduction seemed similar with the power of 500W and 700W in microwave oven. Dusts were rapidly reduced within 20 minutes. Reducing degree decreased in the order of Fe>Ni>Cr.
RF 마그네트론 스퍼터링법으로 제작된 퍼멀로이(NiFe) 박막에 대하여 투입전력, 아르곤 압력, 바이어스 전압등의 스퍼터링 조건이 퍼멀로이 박막의 자기특성에 미치는 영향을 조사하였다. 투입전력에 따른 보자력의 변화는 300~400W에서 낮은 값을 지녔으며 아르곤 압력에 따른 변화는 1~5mTorr에서 낮은 값을 나타내었다. 스퍼터링 조건에 따른 최소의 보자력값은 400 W, 5mTorr 와 300 W, 2mTorr에서 각각 0.10 Oe를 나타내었고 최대의 투자율값은 400 W, 5mTorr에서 2800(1 MHz)을 나타내었다. 또한 저압의 스 퍼터링 압력에서 바이아스를 가할 경우 보자력은 이에 비례해서 오히려 증가하였다. 박막의 Ni 함량의 변화는 아르곤 압력이 증가함에 따라 점차적으로 감소하나 2~10mTorr 범위에서는 다시 증가하는 경향을 보였다. 내부응력은 아르곤 압력이 증가함에 따라 압축응력에서 인장응력으로 변하였으며 5mTorr에서 내 부응력이 거의 사라졌다.
Kim, Yong-Joo;Lee, Hyuck-Hee;Zheng, Zhen Nu;Lee, Soon-W.
Bulletin of the Korean Chemical Society
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v.32
no.9
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pp.3239-3244
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2011
Dinuclear Ni(II)-thiophene halides, which contain linear bridging thienylenes, trans,trans-[$(PR_3)_2$(X)Ni-Y-Ni(X)$(PR_3)_2$] {X = Cl, Br; $H_2Y$ = 5,5'-dichloro-2,2'-bithiophene ($H_2bth$); $H_2tth$ = 5,5"-dichloro-2,2':5',2''-terthiophene ($H_2tth$)} were prepared by the oxidative addition of dihalobithiophene ($H_2bth$) or dihaloterthiophene ($H_2tth$) to [$Ni(COD)_2$] in the presence of tertiary phosphines. Subsequent reactions of $NaN_3$ with the dinuclear Ni(II)-thiophene chlorides gave the corresponding Ni(II)-azido complexes, trans,trans-[$(PR_3)_2(N_3)$Ni-Y-Ni$(N_3)(PR_3)_2$], whose reactivity toward trimethylsilyl pseudohalides such as trimethylsilyl isothiocyanates and cyanides was investigated. In addition, the reaction of trans-[$BrNi(PEt_3)_2-C_4H_2S-C_4H_2S$-CHO], a thienyl Ni(II) complex containing a terminal aldehyde group, with phosphonium ylide was examined.
Reel-to-reel deposition of $Y_2O_3$ has been performed on Ni-5%W metal substrates using the RF-sputtering method. The epitaxial orientation of $Y_2O_3$ buffer layers to the base bi-axially textured substrate was well identified using ${\theta}-2{\theta}$, out-of-plane ($\omega$), and in-plane ($\phi$) scans in X-ray diffraction analysis. The optimization of $Y_2O_3$ seed layers in reel-to-reel fashion were investigated varying the deposition temperature, sputtering power, and pressure for its significant roles for the following buffer stacks and superconducting layers. $Y_2O_3$ were all grown epitaxially on bi-axially textured metal substrates at 380 watts and 5 mTorr in the temperature range of $600-740^{\circ}C$ with higher $Y_2O_3$ (400) intensities at ${\sim}710^{\circ}C$. It was found that the $\Delta\omega$ values were $1-2^{\circ}$ lower but the $\Delta\phi$ values were above $1^{\circ}$ higher than that of Ni-W substrates. As the sputtering power increased from 340 to 380 watts, $\Delta\omega$ and $\Delta\phi$ values showed decreased tendency. Even in the small window of deposition pressure of 3-7 mTorr, the $Y_2O_3$ (400) intensities increased and $\Delta\omega$ and $\Delta\phi$ values were reduced as sputtering pressure increased.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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