• 제목/요약/키워드: Scan mask

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효율적인 화소기반 스캔마스크를 이용한 블록라벨기반 이진연결요소 라벨링 (Block Label-based Binary Connected-component Labeling using an efficient pixel-based scan mask)

  • 김교일
    • 디지털융복합연구
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    • 제11권4호
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    • pp.259-266
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    • 2013
  • 패턴인식 등에서 널리 이용되는 이진연결요소 라벨링은 오래전부터 연구되어온 영상처리분야의 기본적인 처리방법이다. 연결요소 라벨링에 대한 현재의 연구는 이중스캔을 이용한 방법이 주류를 이루고 있는데 최근 일차스캔시 인근 화소 여러 개를 한 번에 블록단위로 처리하는 것이 가장 성능이 뛰어난 것으로 보고되고 있다. 본 논문에서도 블록단위의 라벨링 방법을 이용하였지만 기존의 방법들보다 더 성능이 개선된 방법을 제시하고 있다. 제안된 방법은 블록단위의 라벨과 새로운 화소기반의 스캔마스크를 사용했는데 실험결과 현재까지 발표된 가장 빠른 라벨링 방법보다도 더 우수한 성능을 보이는 것으로 나타났다.

디지털 스캔 이미지의 보간방법에 관한 연구 (A study on the Interpolation method of Digital scan image)

  • 이성형;조가람;구철희
    • 한국인쇄학회지
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    • 제16권3호
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    • pp.81-95
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    • 1998
  • If a image doesn't include sufficient data of output size and resolution, we will scan again the image. Interpolation generates a new pixel by methematical average of processing. In the interpolation method, there are nearest neighbor interpolation, bilinear interpolation and bicubic interpolation etc. This study was carried out for the purpose of researching compatible method to digital scan image caused by only different interpolation methods. Nearest neighbor interpolation show superior effect in the drawing image. Bilinear interpolation show reduction in detail and contrast. Bicubic interpolation show superior effect in the digital photo image USM(Unsharp Mask) application after extension by interpolation show better than extension by interpolation after USM(unsharp mask) application.

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Tracking and Deflection Coil Design for Vertical Colour Selection

  • Wesenbeeck, R. Van;Skoric, B.;Ijzerman, W.;Krijn, M.;Engelaar, P.
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2003년도 International Meeting on Information Display
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    • pp.130-133
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    • 2003
  • Vertical Colour Selection (VCS) is an option for slim CRTs with increased sharpness and brightness. The direction of self-convergence of the DY is changed to vertical in order to obtain better spot uniformity, but the line scan direction remains horizontal. Hence, no video conversion is needed, contrary to transposed scan. In this paper we address two issues: First, there is a high risk of moire, since the scan lines and the phosphor stripes are parallel. We propose a feedback mechanism guiding the electron beams towards the middle of the mask slots. As positive side effects, the brightness is improved and the shadow mask can be made of a cheap type of steel. Secondly, VCS deflection coils have to satisfy different requirements than coils in ordinary CRTs. We discuss the design rules for self-convergent VCS coils and present simulation results.

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Dual Select Diode AMLCDs;A Path Towards Scalable Two Mask Array Designs

  • Boer, Willem Den;Smith, G. Scott
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2004년도 Asia Display / IMID 04
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    • pp.383-388
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    • 2004
  • In this paper an alternative Active Matrix LCD technology is described with scalable, low cost processing. The Dual Select Diode AMLCD requires 60% lower capital investment in the array process than a-Si TFT arrays and results in 20% lower cost LCD modules. Development at several AMLCD manufacturers is in progress.

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Development of a Inspection System for the Metal Mask Using a Vision System

  • Choi, Kyung-jin;Park, Chong-Kug;Lee, Yong-Hyun;Park, Se-Seung
    • 제어로봇시스템학회:학술대회논문집
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    • 제어로봇시스템학회 2001년도 ICCAS
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    • pp.140.2-140
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    • 2001
  • In this paper, we develop the system which inspects the metal mask using area scan camera and belu type xy-table and introduce its inspection algorithm. Thes whole area of the metal mask is divides into several inspection block and the sixe of a inspection block is decided by FOV(Field of View). To compare with the camera image of each block, the reference image is made by gerber file. The ratation angle of the metal mask is calculated through the linear equation that is substituted two end points of horizontal boundary of a specific hole in a camera image for. To calculate the position error caused by belt type xy-table, hough-transform using the distances among the holes in two images os used. The center of the reference image is moved as much as the calculated position error to be coincide with the camera image ...

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위상천이 네트워크를 사용한 X-마스크 기법 (An X-masking Scheme for Logic Built-In Self-Test Using a Phase-Shifting Network)

  • 송동섭;강성호
    • 대한전자공학회논문지SD
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    • 제44권2호
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    • pp.127-138
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    • 2007
  • 본 논문에서는 최대길이 의사무작위 이진 시퀀스(m-시퀀스)의 쉬프트-덧셈 특성에 근거한 위상천이를 이용하여 회로 출력에 나타나는 X-값을 효과적으로 마스크 함으로써 내장된 자체 테스트를 실현할 수 있는 기법을 제안한다. 이 기법은 패턴생성기인 LFSR의 출력을 적절하게 위상천이 하여 마스크 패턴을 생성할 수 있는 위상천이 네트워크를 이용한다. 테스트 절차 동안에 각 스캔 체인에 인가되는 마스크 패턴의 위상 천이 수는 재구성 가능하다. LFSR의 출력을 적절하게 위상 천이하여 모든 스캔 체인 마스크 패턴을 생성할 수 있는 위상천이 네트워크 합성 알고리즘을 제안한다. 본 논문에서 제안하는 X-마스크 회로는 각 스캔 체인 마스크 패턴을 생성할 수 있는 후보 위상천이 수가 많기 때문에 하드웨어 오버헤드를 효과적으로 감축할 수 있다. 실험을 통하여 제안된 위상천이를 이용한 X-마스크 회로는 기존의 연구 결과보다 훨씬 적은 저장공간과 하드웨어 오버헤드를 필요로 함을 증명한다.

블록기반 라벨과 화소기반 스캔마스크를 이용한 이진 연결요소 라벨링 (Binary Connected-component Labeling with Block-based Labels and a Pixel-based Scan Mask)

  • 김교일
    • 전자공학회논문지
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    • 제50권5호
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    • pp.287-294
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    • 2013
  • 이진 연결요소 라벨링은 영상처리와 컴퓨터비전 등의 영역에 널리 사용되는 기법 중의 하나이다. 지금까지 여러 가지 방법의 라벨링기법이 연구되어 왔는데 그 중에서 이중스캔 방법이 가장 효과가 있는 것으로 나타나고 있다. 이중스캔 방법에서는 전통적으로 화소단위로 스캐닝을 하면서 순차적으로 라벨링하는 방법을 사용했는데 최근에는 C. Grana et. al. 및 L. He et. al. 등이 제안한 복수의 인접화소를 묶은 블록을 기반으로 라벨링하는 방법이 가장 효율적인 것으로 인정받고 있다. 본 논문에서는 화소기반의 스캔마스크를 사용하면서 라벨링은 Grana의 블록을 기반으로 하는 새로운 라벨링 방법을 제안하고 있다. 실제 사용하는 영상들에 대해 실험한 결과 영상의 종류에 따라 제안된 방법이 현재 가장 효율이 좋은 He의 방법에 비해 평균 3.9%에서 22.4%까지 성능의 향상이 있는 것으로 나타났다.

Metal Mask 검사시스템 (Inspection System for The Metal Mask)

  • 최경진;이용현;박종국
    • 전자공학회논문지SC
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    • 제40권2호
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    • pp.1-9
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    • 2003
  • 본 논문에서는 ASC(Area Scan Camera)를 이용한 비젼시스템과 belt type xy-table을 사용하여 metal mask의 홀 생성유무 검사시스템을 개발하고, 적용할 수 있는 알고리즘을 소개한다. Metal mask의 전체 영역을 일정한 크기의 검사영역으로 분할한다. 각각의 검사영역의 크기는 ASC의 FOV(Field of View)와 동일하다. 이때 belt type xy-table에서 발생하는 위치오차를 고려하여 일정영역을 중첩하여 분할한다. 검사블록에 대한 카메라이미지는 gerber 파일을 이용하여 생성한 기준이미지와 비교된다. 검사장치에 장착된 metal mask의 회전각도를 계산하기 위하여 존재하는 가장 큰 홀에 대한 카메라이미지를 획득하고, 홀의 수평 에지를 추출한 후 직선의 방정식을 이용한다. Belt type xy-table의 backslash와 같은 기계적 결함에 의해 기준 이미지와 카메라이미지에 존재하는 홀 사이에는 위치오차가 존재한다. 두 이미지를 일치시키기 위해 각 이미지에 존재하는 홀의 무게중심점을 이용한 HT(Hough-Transform)을 사용하여 위치오차정보를 추출하고, 기준이미지의 중심점을 이동시킨다. 각각의 이미지에 존재하는 홀에 대한 무게중심점, 면적, 가로길이, 세로길이 등의 정보를 레이블링을 통하여 구한다. 두 이미지에 존재하는 홀의 무게중심점과 면적을 이용하여 홀의 생성 유무를 판단한다. 그리고 실제로 시스템을 제작하여 위 알고리즘을 적용한다.

이미지 정합을 이용한 COG 불량 검출 (The Faulty Detection of COG Using Image Subtraction)

  • 주기세
    • 해양환경안전학회:학술대회논문집
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    • 해양환경안전학회 2005년도 추계학술대회지
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    • pp.203-208
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    • 2005
  • 수 마이크로 단위로 계측되는 반도체 COG의 정밀도를 높이기 위해서 라인스캔 카메라로 영상을 획득한다. 하지만 불량 검출은 스캔속도와 조명조건에 매우 민감하다. 본 논문에서는 불량이 없는 COG 영상과 입력영상을 정합하여 불량 검출의 정확성을 높이기 위한 방법에 대하여 제안하였다. 두 이미지를 정합시키는 방법으로 영역분할 템플릿 매칭 방법을 사용하였으며 그라디언트 마스크와 AND 연산하여 최종 결과 영상을 획득하였다. 제안된 방법은 다른 이미지 정합 법에 대하여 커다란 성능향상을 보임을 일련의 실험들을 통하여 보여준다.

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극자외선 리소그래피용 마스크의 결함 검출 (Defect Inspection of Extreme Ultra-Violet Lithography Mask)

  • 이문석
    • 대한전자공학회논문지SD
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    • 제43권8호
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    • pp.1-5
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    • 2006
  • 본 논문은 극자외선 리소그래피용 마스크의 결함을 극자외선을 이용하여 검출하는 방법과 기존의 가시광선을 이용하여 결함을 검출해 내는 시스템과 비교하고, 인위적으로 만들어진 결함을 이용하여 극자외선이 결함에 조사되었을 때의 반사되는 패턴을 분석하였다. 포커스된 극자외선을 래스터 스캔 방식으로 조사하면서 반사되는 극자외선의 세기를 비교함으로서 결함을 발견해 내는 시스템을 구축하였고, 이를 이용하여 기존의 가시광선을 이용하는 결함 검출 장비와 상관 실험을 진행하여 반사된 빛의 세기로 예측한 결함의 크기가 두 검출 방법 사이에 강한 상관관계를 가짐을 확인하였다. 또한, 인광판을 이용하여 극자외선이 결함에 조사되어 반사되는 패턴을 영상화하여 크기별, 결함의 종류별로 다른 프린지 패턴을 가지는 것을 확인하였다.