• 제목/요약/키워드: R.F.-magnetron sputtering

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R.F. Magnetron Sputtering을 이용한 리튬이차전지 정극용 ${LiMn_2}{O_4}$의 제조 및 특성 (Fabrication and Characterization of ${LiMn_2}{O_4}$ Cathode for Lithium Rechargeable Battery by R.F.Magnetron Sputtering)

  • 우태욱;손영국
    • 한국세라믹학회지
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    • 제37권6호
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    • pp.552-558
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    • 2000
  • LiMn2O4 thin fiolm cathodes for Li-ion secondary battery were fabricated by r.f. magnetron sputtering technique. As-deposited films were amorphous. A spinel structure could not be obtained LiMn2O4 films by in-situ thermal annealing. After post thermal annealing over $700^{\circ}C$ in oxygen atmosphere, LiMn2O4 films prepared above 100 W r.f. power could be crystallized into a spinel structure. The electrochemical property of the LiMn2O4 film cathodes was tested in a Li/1 M LiClO4 in PC/LiMn2O4 cell. From cyclic voltammetry at scan rate of 2mV/sec of 2.5~4.5V, LiMn2O4 electrode prepared by post annealing at 75$0^{\circ}C$ showed good initial capacity. LiMn2O4 electrode prepared by post annealing at 80$0^{\circ}C$ showed the best crycling performance.

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R.F Magnetron Sputtering법으로 제조한 TiO2 박막의 특성 (Characteristics of TiO2 Thin Films Fabricated by R.E, Magnetron Sputtering)

  • 추용호;최대규
    • 한국재료학회지
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    • 제14권11호
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    • pp.821-827
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    • 2004
  • Titanium oxide thin films were prepared on Si(100) substrates by R.F. magnetron reactive sputtering at $30\sim200watt$ R.F power range, and annealed at $600^{\circ}C\sim800^{\circ}C$ for 1 hour. The properties of $TiO_2$ thin films were analyzed using x-ray, ${\alpha}-step$, ellipsometer, scanning electron microscopy, and FT-IR spectrometer. Upon in-situ depositions, the initial phase of $TiO_2$ thin film showed non-crystalline phase at R.F. power $30\sim100$ watt. The crosssection of $TiO_2$ thin films were sbserved to be the columnar structure. With the increasing R.F power and annealing temperature, the grain size, crystallinity, refractive index, and void size of titanium oxides showed a tended to increase. The FT-IR transmittance spectra of titanium oxide thin films have the obsorption band of Ti-O bond, Si-O bond, Si-O-Ti bond and O-H bond. With the increase of R.F. power and annealing temperature, these films have the stronger bond structures. It is considered that such a phenomena is due to phase transition and good crystallinity

R.F. Magnetron Sputtering 법을 이용한 SnO2 박막 센서의 제조 및 알콜 감도 특성 (Fabrication of the SnO2 thin-film gas sensors using an R.F. magnetron sputtering method and their alcohol gas-sensing characterization)

  • 박상현;강주현;유광수
    • 센서학회지
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    • 제14권2호
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    • pp.63-68
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    • 2005
  • The nano-grained Pd or Pt-doped $SnO_{2}$ thin films were deposited on the alumina substrate at ambient temperature or $300^{\circ}C$ by using an R.F. magnetron sputtering system and then annealed at $650^{\cir}C$ for 1 hour or 4 hours in air. The crystallinity and microstructure of the annealed films were analyzed. A grain size of the thin films was 30 nm to 50 nm. As a result of gas sensitivity measurements to an alcohol vapor of $36^{\circ}C$, the 2 wt.% Pt-doped $SnO_{2}$ thin-film sensor deposited at $300^{\circ}C$ and annealed at $650^{\circ}C$ for 4 hours showed the highest sensitivity.

R.F. Magnetron Sputtering을 이용한 리튬이차전지 부극용 Sn1-xSixO2의 제조 및 특성 (Fabrication and Characterization of Sn1-xSixO2 Anode for Lithium Secondary Battery by R.F. Magnetron Sputtering Method)

  • 이상헌;박건태;손영국
    • 한국세라믹학회지
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    • 제39권4호
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    • pp.394-400
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    • 2002
  • 리튬 이차전지용 부극재료로 미량의 실리콘이 첨가된 주석산화물 박막을 R.F. magnetron sputtering법을 이용하여 제조하였다. 실리콘의 첨가로 인해 주석의 산화상태를 감소시켜서 첫 번째 충방전 동안 비가역성을 감소시키는 전기 화학적 결과를 얻을 수 있었다. 주석 산화물 박막의 결정 배향성은 기판온도가 올라감에 따라서 (110),(101),(211) 면들이 성장하였다. 합성된 박막은 기판온도가 $300^{\circ}C$이고 $Ar:O_2$의 비가 7:3일때, 700mAh/g의 에너지 밀도를 가지며 가장 좋은 가역성능을 보여주었다.

R.F. Magnetron Sputtering법을 이용한 ITO 박막 오존 가스센서의 제조 및 특성 (The Fabrication of ITO Thin-film O3 Gas Sensors Using R.F. Magnetron Sputtering Method and their Characterization)

  • 권정범;정경근;이동수;하조웅;유광수
    • 한국세라믹학회지
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    • 제39권9호
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    • pp.840-845
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    • 2002
  • 오존 가스센서는 저가이고 휴대 및 사용이 간편하며 감도가 높고 우수한 선택성을 지닌 반도체식 가스센서가 대안으로 부각되고 있다. 본 연구에서는 R.F. magnetron sputtering법을 이용하여 ITO($In_2O_3 95%,\;SnO_2$ 5%) 박막을 알루미나 기판위에 증착시켰다. 증착시 기판온도는 300$^{\circ}C$와 500$^{\circ}C$였고, 시편의 일부를 공기중 500$^{\circ}C$에서 4시간 동안 열처리하였다. ITO 가스 감지막은 열처리 전${\cdot}$후 모두 결정을 형성하였다. 오존 가스에 대한 감도측정 결과, 300$^{\circ}C$에서 증착한 다음 열처리한 센서에서 가장 높은 감도(1 ppm이하 감지 가능)를 나타내었다. 작동온도가 높을수록 감도는 줄어들었지만 빠른 응답 특성과 안정성을 가졌다.