FPD (flat panel display)의 능동구동 (active matrix) 방식의 플렉시블 디스플레이를 위해 PES의 플라스틱 기판위에 극저온 다결정 실리콘 박막 트랜지스터를 제작하였다. 상온에서도 박막의 증착이 가능한 RF 마크네트론 스퍼터링과 양질의 다결정 실리콘 박막을 얻을 수 있다고 알려진 XeCl 엑시머 레이져 열처리를 이용하였으며 모든 공정이 150$^{\circ}C$ 이하의 극저온에서 이루어졌다. 플라스틱 기판에 형성한 실리콘 박막 트랜지스터는 344 $mJ/cm^2$ 의 에너지 밀도에서 결정화 하였을 때 이동도 63.64$cm^2/V$ 로 기판에 회로를 집적할 수 있기에 충분한 특성을 얻을 수 있었다.
We have grown large area BSTO($(Ba_{1-x}Sr_x)TiO_3$) thin films (x=0.4) on 2 inch diameter MgO (001) single crystal substrates using a pulse laser deposition(PLD) system. Substrate temperature and oxygen pressure in the deposition chamber, and the laser optics for ablating a target have been controlled to obtain the uniform thickness and preferred orientation of the films. Results of x-ray diffraction and rocking curve analysis revealed that the BSTO films were grown on MgO substrates with a preferred orientation (002), and the full width half maximum of the rocking curve was measured to be 0.86 degree at optimum condition. Roughness of the films have been measured to be $3.42{\AA}$ rms by using atomic force microscopy. We have successfully deposited the large area BSTO thin films of $4000{\AA}$ thickness on 50 mm diameter MgO substrates.
Oxide TFT (thin film transistor) active channel layer에 대한 저온 열처리 공정은 투명하고 flexibility을 기반으로하는 display 산업과 AMOLED (active matrix organic light emitting diode) 분야 등 다양한 분야에서 필요로 하는 기술로서 많은 연구가 이루어지고 있다. 과거 active layer는 ALD (atomic layer deposition), CVD (chemical vapor deposition), pulse laser deposition, radio frequency-dc (RF-dc) magnetron sputtering 등과 같은 고가의 진공 장비를 이용하여 증착 되어져 왔으나 현재에는 진공 장비 없이 spin-coating 후 열처리 하는 저가의 공정이 주로 연구되어 지고 있다. Flexible 기판들은 일반적인 OTFT (oxide thin films Transistor)에 적용되는 열처리 온도로 공정 진행시 열에 의한 기판의 손상이 발생한다. Flexible substrate의 열에 의한 기판 손상을 막기 위해 저온 열처리 공정이 연구되고 있지만 기존 열처리와 비교하여 소자의 특성 저하가 동반 되었다. 본 연구에서는 Si 기판위에 SiO2 (100)를 절연층으로 증착하고 그 위에 IZO (indium zinc oxide) solution을 spin-coating 한뒤 $250^{\circ}C$ 이하의 온도에서 열처리하였다. 저온 공정으로 인하여 소자의 특성 저하가 동반 되었으므로 소자의 저하된 특성 복원하고자 post-treatment로 고가의 진공장비가 필요 없고 roll-to roll system 적용이 수월한 remote-type의 APP (atmospheric pressure plasma) 처리를 하였다. Post-treatment로 APP를 이용하여 $250^{\circ}C$ 이하에서 소자에 적용 가능한 on/off ratio를 얻을 수 있었다.
ZnO thin films prepared by PLD method exhibit an excellent optical property, but may have some problems such as incomplete surface roughness and crystallinity. In this study, undoped ZnO buffer layers were deposited on (0001) sapphire substrates by ultra high vacuum pulse laser deposition (UHV-PLD) and molecular beam epitaxy (MBE) methods, respectively. After post annealing of ZnO buffer layer, undoped ZnO thin films were deposited under different oxygen pressure ($35{\sim}350$ mtorr) conditions. The Arsenic-doped (1, 3 wt%) ZnO thin layers were deposited on the buffer layer of undoped ZnO by UHV-PLD method. The optical property of the ZnO thin films was analyzed by photoluminescence (PL) measurement. The ${\theta}-2{\theta}$ XRD analysis exhibited a strong (002)-peak, which indicates c-axis preferred orientation. Field emission-scanning electron microscope (FE-SEM) revealed that microstructures of the ZnO thin films were varied by oxygen partial pressure, Arsenic doping concentration, and deposition method of the undoped ZnO buffer layer. The denser and smoother films were obtained when employing MBE-buffer layer under lower oxygen partial pressure. It was also found that higher Arsenic concentration gave the enhanced growing of columnar structure of the ZnO thin films.
LIFT(Laser-Induced-Forward-Transfer) 공정은 선택적으로 마이크로 크기의 물질을 이동시키는데 사용할 수 있는 레이저 공정이다. 본 연구에서 이 공정은 전자부품의 마이크로 시스템 패키징을 위한 솔더볼의 적층을 위해 적용되었다. 레이저 펄스에 의해 국부적으로 녹은 솔더 페이스트는 단단한 기저부분에 이동적층되었다. 솔더 크림층을 지닌 박판유리플레이트가 도우너 필름으로 사용되었고 1070nm 파장의 IR 레이저 펄스를 조사하여 리셉터에 마이크로 솔더를 이동적층하였다. 물질 및 에너지 평형 방정식 등이 솔더 페이스 드롭의 모양과 온도 분포를 분석하기 위해 적용되었다. 실제 실험에서 얻어진 이동적층된 솔더 범프는 30~40 ${\mu}m$ 의 직경과 50 ${\mu}m$ 의 두께를 가진 것으로 측정되었다. 본 공정의 한계 및 적용에 대해서도 논의한다.
In order to investigate the healing effect on inflammation and bone regeneration of low power density laser radiation in dogs, experimental periodontitis was made in dog mandibular 3rd, 4th premolars. All teeth were classified with four groups of two experimental group and control groups. The second group were irradiated on periodontitis site and the first group were control. The fourth group were irradiated on periodontitis site flap operation and the third group were flap control. Experimental groups were irradiated with GaAs low power density laser of pulse wave and continuous wave of 904nm every day by five days respectively and then control group and experimental groups were evaluated by histo-pathological study. The results were as follows : 1. Experimental periodontits site of dog were irradiated with GaAs low power laser results in reducing of pseudoepitheliomatous proliferation and inflammation at light microscope. 2. After irradiation with low power density laser, experimental groups were revealed that PDL forming activity were increased and newly formed collagen deposition were observed. 3. Low power density lsaer irradiation on experimental periodontits site after flap operation showed that decreasing of inflammation, reducing of osteoclast activity. Capillary proliferation, reduction of pseudoepitheliomatous proliferation. 4. After irradiation with low power density laser on flap experimental site, experimental groups were revealed that newly formed collagen in periodontal ligament and alveolar bone were detected on MT staining.
Organic light entitling diode panel was fabricated using pulsed laser deposition (PLD) method Nd-YAG laser with Q-Switched and 355 nm pulse was used for the PLD. While TPD(N,N'-Di-[naphthaleny]-N, N'-diphenyl-benzidine) was used as a HTL(Hole transport layer), $Alq_3$(8-Hydroxyquinoline, Aluminum Salt) was used as EML/ETL(Emitting Layer/Electron Transport Layer) Organic pellet was fabricated and employed for the PLD method. The absorbances of the organic films were investigated and the measured absorbance values of TPD and $Alq_3$ films was 362 nm and 399 nm, respectively. The turn-on voltage of the OLED panel was 7.5 V and its luminance was $90\;cd/m^2$
lTO(Indium-Tin-Oxide) was used as anode material for OLED. Characteristics of ITO have great effect on efficiency of OLEDS(Organic light emitting diodes). ITO surface was treated by Nd:YAG laser in order to improve its chemical properties, wettability, adhesive property and to remove the surface contaminants while maintaining its original function. In this study, main purpose was to improve the efficiency of OLEDs by the ITO surface treatment: ITO surface was treated using a Nd:YAG(${\lambda}=266nm$, pulse) with a fixed power of 0.06[w] and various stage scanning velocities. Surface morphology of the ITO was investigated by AFM. Test OLEDs with surface treated ITO were fabricated by deposition of TPD (HTL), Ald3 (ETL/TML) and Al (cathode) thin films. Device performance of the OLEDs such as V-I-L was investigated using Source Measurement Unit (SMU: Keithly. Model 2400) and Luminance Measurement (TOPCON. BM-8).
본 논문에서는 폴리머(Polymer)기판에서의 레이저의 조사밀도와 기판의 온도 변화에 따라서 성장하는 ZnO박막의 구조적 특성을 알아보기위해 펄스 레이저 증착 법으로 PMMA(Polymethly Methacrylate)기판상에 ZnO박막을 형성하였다. 레이저의 조사 밀도는 2 J/$cm^2$에서 3 J/$cm^2$까지 기판의 온도는 상온에서부터 $50^{\circ}C$까지 변화시켰고 박막의 구조적 특성을 X-선 회절법(XRD)과 주사 전자 현미경(SEM)으로 관찰하였다.
ZnO nanostructures have a lot of interest for decades due to its varied applications such as light-emitting devices, power generators, solar cells, and sensing devices etc. To get the high performance of these devices, the factors of nanostructure geometry, spacing, and alignment are important. So, Patterning of vertically- aligned ZnO nanowires are currently attractive. However, many of ZnO nanowire or nanorod fabrication methods are needs high temperature, such vapor phase transport process, metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD), metal-organic vapor phase epitaxy, thermal evaporation, pulse laser deposition and thermal chemical vapor deposition. While hydrothermal process has great advantages-low temperature (less than $100^{\circ}C$), simple steps, short time consuming, without catalyst, and relatively ease to control than as mentioned various methods. In this work, we investigate the dependence of ZnO nanowire alignment and morphology on si substrate using of nanosphere template with various precursor concentration and components via hydrothermal process. The brief experimental scheme is as follow. First synthesized ZnO seed solution was spun coated on to cleaned Si substrate, and then annealed $350^{\circ}C$ for 1h in the furnace. Second, 200nm sized close-packed nanospheres were formed on the seed layer-coated substrate by using of gas-liquid-solid interfacial self-assembly method and drying in vaccum desicator for about a day to enhance the adhesion between seed layer and nanospheres. After that, zinc oxide nanowires were synthesized using a low temperature hydrothermal method based on alkali solution. The specimens were immersed upside down in the autoclave bath to prevent some precipitates which formed and covered on the surface. The hydrothermal conditions such as growth temperature, growth time, solution concentration, and additives are variously performed to optimize the morphologies of nanowire. To characterize the crystal structure of seed layer and nanowires, morphology, and optical properties, X-ray diffraction (XRD), field emission scanning electron microscopy (FE-SEM), Raman spectroscopy, and photoluminescence (PL) studies were investigated.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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