유도 결합형 Cl$_2$ 계 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구
(A study of the GaN etch properties using inductively coupled Cl$_2$ -based plasmas)
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- 한국표면공학회지
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- 제32권2호
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- pp.83-92
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- 1999