고밀도 $Cl_2$ /Ar 플라즈마를 이용한 $YMnO_3$ 박막의 식각 특성에 관한 연구
(A Study on the Etching Characteristics of $YMnO_3$ Thin Films in High Density $Cl_2$ /Ar Plasma)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2000년도 추계학술대회 논문집
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- pp.21-24
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- 2000