Cd2+ 이온으로 이온 교환된 제올라이트 A를 진공 탈수한 후 브롬을 흡착한 두개의 결정구조를 단결정 X-선 회절법으로 해석하였다. 이들 결정은 21℃에서 입방공간군 Pm3m을 사용하여 해석하고 정산(정산)하였다. 두 결정은 Cd(NO3)a와 Cd(OOCCH3)a의 물분율이 1 : 1이고 전체농도가 0.05M 되도록 만든 혼합용액을 이용하여 흐름법으로 이온교환하여 제조하였다. 첫번째 결정은 450℃에서 2 ×10-6 Torr의 진공하에서 2일간 탈수하였고, 두번째 결정은 650℃에서 2 ×10-sTorr 의 진공하에서 2일간 탈수하였다. 두 결정을 24℃에서 약 160Torr의 브롬증기로 반응시켰다. Fullmatrix 최소자승법 정산에서 첫번째 결정(a=12. 250(1) A)과 두번째 결정(a=12.204(2) k)의 마지막 오차인자는 I>3e(I)인 212개의 독립반사를 사용하여 Rl=0.075, R2=0.079이며 128개의 독립반사를 사용하여 Rl=0.089, R2=0.078까지 각각 정산하였다. 두 결정에서 단위세포당 6개의 Cd2+ 이온은 6-링 산소와 결합하면서 결정학적으로 서로 다른 2개의 3회 회전축상에 위치하고 있었다. 4.5개의 Cd2+이온은 Brs 혹은 Br3-의 이온과 착물을 형성하기 위해서 0(3)의 (111)평면에서 큰 동공쪽으로 약 0.441 차 들어가 있었다. 나머지 1.5개의 Cd2+이온은 0(3)의 (111)평면에서 Sodalite동공 깊숙히 약 0.678 입 들어간 자리에 위치하였다. 단위세포당 약 1.5개의 Brs-와 1.5 개의 Br3-이온이 흡착되었다. Brs-이온결합은 2 개의 Cd2+이온과 골조 산소이온과 착물을 이룸으로써 안정화되었다. Br3-이온은 한 개의 Cd2+이온 과 골조 산소이온과 결합하고 있었다. 생성된 Br3 -와 Brs-는 브롬 분자가 잔류하는 물분자와 반응하여 다음과 같이 생성할 수 있다.
본 논문은 역행 통로(backward path)를 가진 수정된 Neocognitron 을 한글 음절 인식을 위해 적용한 결과에 관한 것이다. Fukushima의 논문에서 Neocognitron이 $19{\times}19$ 크기의 필기체 숫자를 인식할 수있다고 논술하였다. 본 논문에서는 스캐너 또는 마우스를 이용하여 필기체 한글 문자 또는 그 일부의 $61{\times}61$ 영상을 입력하였다. 수정된 Neocognitron은 3쌍의 Us, Uc층으로 구성되어있다. 본 신경회로망에서 마지막 인식층인 Uc층은 $5{\times}5$ 크기의 세포로 된 24개의 명(plane)으로 구성되어 있는데, 각각의 세포들은 동시에 주의력(attention)을 받아들이느 자소(grapheme)의 존재와 입력층에서의 상대적 위치를 구별할 수 있다. 본 신경회로망은 10개의 단모음 자소, 14개의 단자음 자소와 그들의 공간적 특징을 가지고 학습시켰다. 쉽게 학습되지 않는 패턴들은 여러번 학습시켰다. 왜곡, 잡음, 크기변화, 변형, 회전 등을 갖는 개개의 자소를 분류할 수 있도록 학습된 신경망을 한글 음절의 인식을 위해 사용하였으며, 음절자내의 영상 분할 작업을 위해 선택적 주의력 기법을 사용하였다. 입력문자에 대한 초기 표본 실험에서 본 모형은 필기체 한글 음절자의 시험패턴중 79%를 정확하게 인식하였다. 이 연구결과는 Neocognitron이 입력 영상을 인식가능한 부분으로 분할함으로써 큰크기의 분자 집합을 갖는 필기체 문자를 인식할수 있는 강력한 모형임을 시사해준다. 똑같은 접근 방법이 구조나 자소가 아주 복잡한 한자의 인식에도 적용될 수 있다고 본다. 그러나, 모의실험에서 처리시간에 있어 매우 심한 병목현상을 보여 주었다. 모형의 실질적인 사용을 위해서는 신경칩으로서의 구현이 선결되어야 할 것이다. 또, 복모음, 복자음으로 구성된 한글 음절자 인식을 위하여 모형에 대한 더 깊은 연구가 수행되어질 필요가 있다. 두개의 단자모사이의 이웃지역을 정확히 인식하는 것은 이렇나 작업을 위해 매우 중요한 일이 될 것이다.
목적: 전방십자인대 단일 다발 재건술에서 경경골 터널과 전내측 삽입구를 이용한 대퇴골 터널의 기울기를 방사선학적으로 비교하였다. 대상 및 방법: 2006년 1월부터 2009년 12월까지 시행한 전방십자인대 재건술 132예 중 단일 다발 재건술의 대퇴골 터널 형성에 경경골 술기를 이용한 30예와 전내측 삽입구를 이용한 재건술 20예를 전후방, 과간 절흔상 및 측면 방사선 사진을 통해 관상면 및 시상면에서의 골 터널 기울기를 측정하였다. 결과: 관상면에서 대퇴 터널이 대퇴과간 관절면의 연결선과 이루는 각도는 경경골 술기의 경우 평균 $71^{\circ}$ (범위: $65^{\circ}{\sim}77^{\circ}$), 전내측 접근법은 평균 $51^{\circ}$ (범위: $39^{\circ}{\sim}60^{\circ}$)였으며 두 군간의 유의한 차이를 보였다(P<0.05). 관상면에서 경골 터널이 관절면과 이루는 각은 경경골 술기에서 평균 $55.7^{\circ}$ (범위: $49^{\circ}{\sim}68^{\circ}$), 전내측 접근법은 평균 $52.1^{\circ}$ (범위: $37^{\circ}{\sim}58^{\circ}$)를 보였다. 시상면상경골 터널이 관절면과 이루는 각은 경경골 술기에서 $62.6^{\circ}{\pm}5.4$, 전내측 접근법은 $60.1^{\circ}{\pm}2.7$로 유사한 값을 보였고, 대퇴 터널이 대퇴 후방 피질골의 연장선과 이루는 각은 경경골 술기에서 $22.7^{\circ}{\pm}7.8$, 전내측 접근법은 $30.2^{\circ}{\pm}6.9$로 통계적으로 유의하였다(P<0.05). 결론: 전방십자인대 단일 다발 재건술에서 전내측 삽입구를 이용한 대퇴터널 형성은 경경골 술기에 비해 관상면에서 보다 수평적이었고 후방 피질골로 부터의 기울기 증가를 보였다.
본 연구에서는 층상규산염광물 중 삼팔면체 운모족에 속하는 흑운모-1Μ 시료를 대상으로 중성자분말회절분석을 수행하였다. 분말회절분석기의 저온 및 고온 시료장치를 이용하여 -263$^{\circ}C$, 상온, 30$0^{\circ}C$, $600^{\circ}C$, 90$0^{\circ}C$의 온도조건에서 중성자 회절자료를 취득하였으며 Rietveld법으로 구조분석을 실시하였다. 정밀화 지수 $R_{b}$는 5.06%-11.9%, S(Goodness of fitness)는 2.97~3.94로 수렴되었다. -263$^{\circ}C$부터 $600^{\circ}C$까지는 단위포상수 a, b, c가 온도의 증가에 따라서 팽창되는 경향을 뚜렷하게 관찰할 수 있었으며 90$0^{\circ}C$에서는 a와 b의 경우 오히려 감소하는 결과를 보여주었다. -263$^{\circ}C$~$600^{\circ}C$ 온도구간에서 c축의 팽창성은 a, b 축의 팽창성에 비하여 상대적으로 더 크며 이는 단위포의 부피증가가 이 온도 범위에서는 c축의 팽창에 의해 주도됨을 지시한다. 90$0^{\circ}C$에서 보이는 경향의 불일치성은 이 온도에서 탈수산기화-산화반응이 우세하게 발생함으로서 팔면체 구조내 $Fe^{2+}$ 이 $Fe^{3+}$ 로 산화되어 양이온 반경이 변화되었기 때문으로 해석된다. 저온조건(-263$^{\circ}C$)에서 결정된 수소원자의 위치는 O4자리로부터 0.9103$\AA$ 떨어져서 (x/a=0.138, y/b=0.5, z/c=0.305)의 위치에 존재하는 것으로 계산되었다. 각 온도조건에 대하여 사면체회전각($\alpha$*, 팔면체판 두께($t_{oct}$), M-O간 거리는 단위포축 팽창성 결과와 마찬가지로 90$0^{\circ}C$의 고온조건을 제외하고는 일반적으로 온도가 증가함에 따라서 $\alpha$*, $t_{oct}$, M-O간 거리가 증가하는 경향을 보이지만 그경향이 상대적으로 덜 분명하며, 온도변화에 따른 팔면체 형태변화의 경향은 보이지 않았는데, 이는 금운모 등과 달리 M1, M2 팔면체에는 Fe와 Mg가 치환되어 분포하고 있기 때문으로 해석된다.다.
본 연구에서는 유수저항과 해저 마찰력을 동시에 받는 저층 트롤그물의 예망저항을 정도 높게 표현해낼 목적으로, 전보에서 구한 유수저항만을 받을 때의 저항식에 해저 마찰력의 영향을 추가하고, 지금까지 행해진 실험 결과들을 수집하여 분석하였다. 그 결과, 벽 면적이 $S(m^2)$ 되는 저층 트롤그물이 예망속도 $\nu(m/sec)$에서 받는 예망저항 R(kg)은 그물 입구의 단면적을 $S_m\;(m^2)$, 흐름에 수직인 평면에 대한 그물의 총 투영면적을 $S_n\;(m^2)$, 자루그물 앞끝의 완성 둘레를 B(m)라 할 때 $$R=4.5(\frac{S_n}{S_m})^{1.2}S\;v^{-1.8}+20(Bv)^{1.1}$$으로 주어졌다. 그러나, 실용적으로는 윗 식보다 $R=kS\nu^2$의 형태로 표시하는 것이 더욱 편리하다고 볼 수 있기 때문에, 실험 결과들을 이 식에 적용하여 저항계수 $k(kg{\cdot}sec^2/m^4)$를 여러 가지 측면에서 검토해 본 결과, k는 근사적으로딜만의 함수로 표시할 수 있다는 것을 알 수 있었으며, 그물의 완성 전장을 L (m)이라 할 때 $S{\propto}BL$이어서 $S/BL=\alpha$라 둘 수 있기 때문에 R(kg)은 근사적으로 $$R=18{\alpha}B^{0.5}L\;v^{1.5}$$으로 표시해도 좋다는 것을 알 수 있었다. 또한, $\alpha$의 값은 그물마다 달라 $0.40\~0.55$의 범위이긴 하나 전체 평균치 0.48에서 크게 벗어나지 않았기 때문에, 저층 트롤그물들을 총괄해서 표시할 때는 $\alpha=0.48$을 적용함으로써 R (kg)을 $$R=9\;B^{0.5}\;L\;v^{1.5}$$ 으로 대신해도 좋다는 것을 알 수 있었다.
I. 목적 MLC의 단점인 조사영역경계의 요동현상이나, 반음영의 크기를 감소시킬 수 있는 HD270 MLC에 관한 소개와 유용성에 대해 평가하였다. II 대상 및 방법 HD-270 MLC는 PRIMUS(Siemens)의 치료테이블(ZXT) 과 다엽콜리메이터(3D MLC)를 leafs면에 수직방향으로 이동시킴으로써 유효반음영과 조사영역 경계의 요동을 감소시킨다. HD-270 MLC의 효율성과 적당한 resolution을 결정하기 위해 field edge angle(Y축과 이루는 각)이 0도에서 75도까지 15도의 간격으로 된 다각형의 field를 만들고 resolution은 5mm, 3mm, 2mm로 각각의 HD-270 group을 만들어 Siemens사 선형가속기(PRIMUS)의 6MV 광자선을 사용하여 solid phantom에서 SAD 100cm, depth 1.5cm으로 X-Omat film(Kodak)에 60MU로 조사하였다. 조사된 film은 Lumiscan75(LUMISYS)로 스캔해서 RIT113(Radiological Imaging Technology Inc. USA)으로 분석하여 유효반음영과 조사영역 경계의 요동의 변화를 측정하였다. 그리고 치료테이블 움직임의 정확성을 테스트하기 위해 테이블 위에 50Kg의 인체모형팬텀을 놓고 0.001inch의 정밀도를 가진 dial gauge로 가로, 세로, 수직의 세 직각방향으로 ${\pm}5mm,\;{\pm}4mm,\;{\pm}3mm,\;{\pm}2mm$단계별로 측정하였다 III. 결과 Resolution과 field edge angle이 증가할수록 유효반음영과 조사영역 경계의 요동현상은 증가하였다. 그리고 지멘스 ZXT 치료테이블움직임의 오차범위는 ${\pm}1mm$ 이내로 양호하였다. IV. 결론 최근 많이 사용되어지고 있는 다엽콜리메이터의 문제점들을 보완 할 수 있는 HD-270 MLC를 사용함으로써 MLC의 임상적용범위를 보다 넓힐 수 있을 것이다.
두개 악안면 기형 환자의 종합적인 치료를 위해서는 입체적인 평가와 진단이 중요하다. 그러나 흔히 전후방적인 골격 평가에는 많은 분석 방법을 시행하고 있으나, 안모 비대칭과 상 하악골 횡적인 부조화의 진단을 위해 필요한 횡적 평가방법은 충분하지 못한 실정이다. 횡적인 부조화의 적절한 진단과 치료는 안정된 기능교합의 형성에 있어서 전후방 또는 수직적인 부조화보다 중요한 역할을 하며, 장기간의 안정성에도 영향을 미친다. 그리고 상하악의 횡적인 부조화에 따른 연조직의 변화가 제한되어 있기 때문에 시진을 통한 임상적 방법으로는 간과되기 쉬우며 더욱이 특징적인 안모 소견을 보이는 전후방 또는 수직적인 부조화와 동반된 경우에는 감별되기 어렵다. 그로 인해 정확한 진단과 치료를 위해서는 정상 안모에 관한 정모두부 방사선 계측학적 안모 비율의 평가가 필요하게 되었다. 본 연구는 1996학년도 연세대학교 신입생중에서 협조 가능한 정상 안모와 거의 정상 교합을 갖은 남녀 76명을 선정하여 안모 비대칭과 횡적인 부조화가 있는 악안면 기형 환자의 진단과 치료계획에 도움을 주는 자료를 얻고자 정모두부 방사선 계측사진을 이용하여 수평 및 수직 계측항목과 그 비율을 통계처리하여 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. 정모의 수평 및 수직적인 계측항목과 그 비율의 평균값과 표준편차를 구하였다. 2. 정모의 폭경에 대한 고경의 비율은 0.837(남자: 0.836, 여자:841)이었다. 3. 상악골과 하악골간의 폭경비율은 0.747(남자: 0.745, 여자:0.752)이며, 높은 연관성을 나타내었다. 4. 두개 안면부 폭경들간에는 서로 연관성이 나타났다. (두개폭경, 관골전두봉합폭경, 안면폭경, 상악폭경, 하악폭경, 상악과 하악 구치부폭경) 5. 정모의 폭경이 증가할수록 안모고경과 다른 길이 계측치도 연관되어 증가하였지만 각도 계측값 ($Bj\ddot{o}rk$의 합, 하악평면각)의 감소와, 후전 안면고경 비율 증가로 인하여, Brachycephalic facial type의 안모 경향을 보였다. 이상의 결과는 악안면 기형 환자의 교정치료 및 악교정 수술치료의 계획에 기준치로써 사용될 수 있을 것이다.
본 연구는 수확 전 단수처리가 치콘 저장성에 미치는 영향을 알아보고자 실시하였다. 단수처리 후 수확한 치콘은 단수처리 없이 수확한 치콘에 비해 처리시간별로 건물함량의 차이를 보임에 따라 예건효과가 있을 것으로 보여 실험에 임하였다. 단수처리는 치콘의 수확후 호흡률과 에틸렌 발생률에도 영향을 주었는데, 호흡률과 에틸렌 발생률은 각각 12시간과 6시간 처리에서 가장 높은 수준을 보였고, 이보다 처리시간이 길어지면 감소하는 경향을 보였다. 저장 중 생체중 변화를 조사 해 본 결과 6시간 단수처리의 경우 다른 단수처리들에 비해 변화율이 적게 나타났다. 그리고 포장재내의 대기조성 변화를 보았을 때 저장기간이 길어짐에 따라 포장내 산소농도와 이산화탄소 농도는 6시간 단수처리 시 약간의 예건효과를 보이는 듯 보였으나 통계적 유의성은 없는 것으로 판단되었다. 포장내 에틸렌농도는 저장 4일째에 전체적으로 단수처리하지 않은 대조구에 비해 에틸렌 농도가 높게 나타났으나 저장기간이 길어짐에 따라 저장 16일차에는 대조구에 비해 농도가 낮게 나타났으나 통계적 유의성은 없었다. 전체 외관품질을 보았을 때는 단수처리 3시간, 6시간, 24시간 순으로 좋은 평가를 받았으며, 절단면 갈변정도를 보았을 때는 단수처리 6시간이 가장 갈변의 정도가 심하지 않았다. 이상의 결과로 보아 치콘 생산시 수확 전 6시간부터 양액 공급을 중지시키는 단수처리를 할 경우 예건 효과를 가져옴으로써, 치콘의 저장기간 중 수분 손실량을 줄여주고 절단부 갈변 억제 효과를 가져와 저장기간동안 외관상 품질을 유지해줄 수 있을 것으로 생각되어진다.
본 연구에서는 열 화학기상증착법(thermal chemical vapor deposition)을 이용하여 분말 형태의 규소(Si)와 염화니켈 수화물 $(NiCl_2{\cdot}6H_2O)$을 혼합한 후 탄소공급원인 $CH_4$ 가스를 주입하여 탄화규소 나노선(SiC nanowire)을 합성하였다. 합성 온도와 $CH_4$ 가스 유량 변화에 따른 탄화규소 나노선의 구조적 특성을 분석한 결과, 합성온도가 $1,400^{\circ}C$, $CH_4$ 가스의 유량이 300 sccm인 경우가 탄화규소 나노선의 합성에 최적화된 조건임을 라만 분광법(Raman spectroscopy)과 X-선 회절(X-ray diffraction), 주사전자현미경(scanning electron microscopy), 그리고 투과전자현미경(transmission electron microscopy) 분석을 통해 확인하였다. 합성된 탄화규소 나노선의 직경은 약 50~150 nm이며, 곧은 방향성과 높은 결정성을 가지는 입방구조(cubic structure)를 지니고 있었다.
ICP-CVD를 사용하여 수소화된 비정질 실리콘(a-Si:H)을 60 nm 또는 20 nm 두께로 성막 시키고, 그 위에 전자총증착장치(e-beam evaporator)를 이용하여 30 nm Ni 증착 후, 최종적으로 30 nm Ni/(60 또는 20 nm a-Si:H)/200 nm $SiO_2$/single-Si 구조의 시편을 만들고 $200{\sim}500^{\circ}C$ 사이에서 $50^{\circ}C$간격으로 40초간 진공열처리를 실시하여 실리사이드화 처리하였다. 완성된 니켈실리사이드의 처리온도에 따른 면저항값, 상구조, 미세구조, 표면조도 변화를 각각 사점면저항측정기, HRXRD, FE-SEM과 TEM, SPM을 활용하여 확인하였다. 60 nm a-Si:H 기판 위에 생성된 니켈실리사이드는 $400^{\circ}C$이후부터 저온공정이 가능한 면저항값을 보였다. 반면 20 nm a-Si:H 기판 위에 생성된 니켈실리사이드는 $300^{\circ}C$이후부터 저온공정이 가능한 면저항값을 보였다. HRXRD 결과 60 nm 와 20 nm a-Si:H 기판 위에 생성된 니켈실리사이드는 열처리온도에 따라서 동일한 상변화를 보였다. FE-SEM과 TEM 관찰결과, 60 nm a-Si:H 기판 위에 생성된 니켈실리사이드는 저온에서 고저항의 미반응 실리콘이 잔류하고 60 nm 두께의 니켈실리사이드를 가지는 미세구조를 보였다. 20 nm a-Si:H 기판위에 형성되는 니켈실리사이드는 20 nm 두께의 균일한 결정질 실리사이드가 생성됨을 확인하였다. SPM 결과 모든 시편은 열처리온도가 증가하면서 RMS값이 증가하였고 특히 20 nm a-Si:H 기판 위에 생성된 니켈실리사이드는 $300^{\circ}C$에서 0.75 nm의 가장 낮은 RMS 값을 보였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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제 6 장 손해배상 및 기타사항
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[부 칙]
1. (시행일) 이 약관은 2016년 9월 5일부터 적용되며, 종전 약관은 본 약관으로 대체되며, 개정된 약관의 적용일 이전 가입자도 개정된 약관의 적용을 받습니다.