• 제목/요약/키워드: GeO

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전기장에 의한 Bi12GeO20 단결정의 굴절률 표시타원체의 변형 (Variation of the Representation Ellipsoid for Refractive Index of Bi12GeO20Single Crystal by an Electric Field)

  • 이수대;이찬구
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제18권1호
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    • pp.89-95
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    • 2005
  • We derived a formula which can calculate the space distribution of refractive index variation by an applied electric field about Bi$_{12}$ GeO$_{20}$ single crystal. Stereographic projection maps of refractive index variation by an applied electric field were made out using numerical value to be calculated by this formula. By the calculated results, since an electric field had applied to [(equation omitted) 1 1] direction and [1 (equation omitted) 1] direction of Bi$_{12}$ GeO$_{20}$ crystal, positive variation of the refractive index of [(equation omitted) 1 1] direction and [1 (equation omitted) 1] direction was the largest. The incremented refractive index per unit electric field was +3.2410${\times}$10$^{-11}$ V$^{-1}$ for the wavelength of 6328 $\AA$. Since an electric field had applied to [1 1 1] direction and [(equation omitted) 1] direction, negative variation of the refractive index of [1 1 1] direction and [(equation omitted) 1] direction was the largest. The decremented refractive index per unit electric field was -3.2410${\times}$10$^{-11}$ V$^{-1}$ for the wavelength of 6328 $\AA$.

Comparison of Adsorption Configurations between Phenylalanine and Tyrosine on Ge(100)

  • 임희선;양세나;이한길
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2011년도 제41회 하계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.216-216
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    • 2011
  • We will investigate the bonding configurations of phenylalanine and tyrosine adsorbed on the Ge(100) surface using CLPES and DFT calculations. First, the C 1s, N 1s, and O 1s spectra obtained at 300 K revealed that both the amine and carboxyl groups of phenylalanine and tyrosine concurrently participated in adsorption on the Ge(100) surface without bond breaking using CLPES, depending on the extent of coverage. In the second place, we confirmed that the "O-H dissociated-N dative bonded structure" is the most stable structure implying kinetically favorable structure, and the "O-H dissociation bonded structure" is another stable structure manifesting thermodynamically advantageous structure using DFT calculations. This tendency turns up both phenylalanine and tyrosine, similarly. Furthermore, through the CLPES data and DFT calculation data, we discovered that the "O-H dissociated-N dative bonded structure" and the "O-H dissociation bonded structure" are preferred at 0.30 ML and 0.60 ML, respectively. Moreover, we found that the phenyl ring of phenylalanine is located in axial position to Ge(100) surface, but the phenyl ring of tyrosine is located in parallel to Ge(100) surface using DFT calculations.

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강유전체 $Pb(Zr,Ti)O_3$박막에 대한 분극피로와 회복현상의 비대칭적인 성질

  • 채병규;박철홍;장민수;권식철
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 1999년도 제17회 학술발표회 논문개요집
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    • pp.84-84
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    • 1999
  • 최근 큰 잔류분극을 가진 강유전체 Pb(Zr, Ti)O3 박막을 이용한 비휘발성 기억소자의 연구가 활발히 진행되고 있다. 그러나 Pb(Zr, Ti)O3 박막을 비휘발성 기억소자로 응용하는 경우 분극피로(polarization fatigue), imprint, 누설전류 등의 문제점이 나타나는 것으로 알려져 있다. 특히 분극반전 횟수가 증가할수록 잔류분극이 감소하는 분극피로 현상은 비휘발성 기억소자의 응용에 있어서 치명적인 장애가 되므로 기억소자의 실용화를 위해서는 분극피로 현상의 개선이 무엇보다 중요하다. 본 연구에서는 Pb(Zr, Ti)O3 강유전체 박막의 분극피로 현상을 규명하고 개선하기 위해서 다음과 같은 세가 실험적 방법으로 접근하였다. 먼저 Pt와 금속산화물인 LaNiO3을 이용하여 상·하부 전극을 달리하여 제조한 축전기에 대해서 분극피로 특성을 관찰하고 이로부터 분극피로 현상에 대한 전극의 효과를 조사하였다. 여기서 금속산화물인 LaNiO3 박막과 Pt 박막은 r.f. 스퍼트 법으로 증가하였으며 Pb(Zr, Ti)O3 박막은 LaNiO3/Si(100)/와 Pt/Ti/SiO2/i(100) 기판위에 졸겔법으로 제조하였다. 다음으로 분극피로된 박막의 상부전극에 극성이 다른 직류전압을 인가해주었을 때 나타나는 분극회복 현상을 광범위하게 관찰하였으며, 특히 직류전압의 극성에 따라 비대칭적인 분극회복 특성을 보였다. 마지막으로 이와 같은 직류전압에 대한 비대칭적인 분극회복현상에 착안하여 양과 음의 방향으로 바이어스된 스윗칭 펄스를 인가하여 분극피로 특성을 조사한 결과 비대칭적인 분극피로 현상을 관찰할 수 있었다. 이와 같은 Pv(Zr, Ti)O3 박막의 분극피로와 회복의 비대칭적인 현상은 분극피로 현상의 기구를 밝히는 중요한 근거가 되었으며, 본 연구에서는 하부 계면에서의 산소빈자리의 역할로 분극피로 현상을 모형화하였다.식각하기 시작하였으며, 19.5J/cm2에서 유리기판의 rudraus(격벽 두께 130$\mu\textrm{m}$)까지 식각하였다. 대한 정보(RDF)는 명확하게 얻을 수 있었다.nospec과 SEM으로 관찰하였다. 또한 Ge 함량 변화에 따른 morphology 관찰과 변화 관찰을 위하여 AFM, SEM, XRD를 이용하였으며, 이온주입후 열처리 온도에 따른 활성화 정도의 관찰을 위하여 4-point probe와 Hall measurement를 이용하였다. 증착된 다결정 SiGe의 두게를 nanospec과 SEM으로 분석한 결과 Gem이 함량이 적을 때는 높은 온도에서의 증착이 더 빠른 증착속도를 나타내었지만, Ge의 함량이 30% 되었을 때는 온도에 관계없이 일정한 것으로 나타났다. XRD 분석을 한 결과 Peak의 위치가 순수한 Si과 순수한 Ge 사이에 존재하는 것으로 나타났으며, ge 함량이 많아짐에 따라 순수한 Ge쪽으로 옮겨가는 경향을 보였다. SEM, ASFM으로 증착한 다결정 SiGe의 morphology 관찰결과 Ge 함량이 높은 박막의 입계가 다결정 Si의 입계에 비해 훨씬 큰 것으로 나타났으며 근 값도 증가하는 것으로 나타났다. 포유동물 세포에 유전자 발현벡터로써 사용할 수 있음으로 post-genomics시대에 다양한 종류의 단백질 기능연구에 맡은 도움이 되리라 기대한다.다양한 기능을 가진 신소재 제조에 있다. 또한 경제적인 측면에서도 고부가 가치의 제품 개발에 따른 새로운 수요 창출과 수익률 향상, 기존의 기능성 안료를 나노(nano)화하여 나노 입자를 제조, 기존의 기능성 안료에 대한 비용 절감 효과등을 유도 할 수 있다. 역시 기술적인 측면에서도 특수소재 개발에 있어 최적의 나노 입자 제어기술 개발 및 나노입자를 기능성 소재로 사용하여 새로운 제품의 제조와 고압 기상 분사기술의 최적화에

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게르마늄 화합물의 원적외선 방사특성 (Far Infrared Radiation Characteristics of Germanium Compounds)

  • 이현경;이경미
    • 공업화학
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    • 제17권6호
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    • pp.597-603
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    • 2006
  • $XSiO_{2}{\cdot}YGeO_{2}$계 화합물과 $XSiO_{2}{\cdot}YNaO_{2}{\cdot}ZGeO_{2}$계 화합물을 제조하고 이들 화합물에서 $GeO_{2}$의 함량을 변화시켜 원적외선 방사율과 원적외선 방사에너지에 미치는 영향을 연구하였다. 제조된 시료의 특징은 TG-DTA, XRD, FT-IR spectrophotometer 그리고 FT-IR spectrometer에 의해 조사되었다. $XSiO_{2}{\cdot}YGeO_{2}$$XSiO_{2}{\cdot}YNaO_{2}{\cdot}ZGeO_{2}$계의 화합물은 $GeO_{2}$의 함량이 증가할수록 원적외선 방사율과 방사에너지가 점차적으로 증가하였다. 원적외선 방사율과 방사에너지는 $XSiO_{2}{\cdot}YGeO_{2}$계 화합물의 경우가 $XSiO_{2}{\cdot}YNaO_{2}{\cdot}ZGeO_{2}$계 화합물보다 높게 나타났다.

EFG법에 의한 ${\gamma}-6Bi_2O_3{\cdot}GeO_2$ (Growth of ${\gamma}-6Bi_2O_3{\cdot}GeO_2$ Single Crystals by EFG Method)

  • 김호건;유건종
    • 한국결정성장학회지
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    • 제1권2호
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    • pp.34-45
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    • 1991
  • 광기능소자로 응용성이 넓은 전기광학결정 $r-6Bi_2O_3{\cdot}GeO_2$(이하 BGO로 약칭)을 EFG(Edge-defined Film-fed Growth)법에 의하여 판상단결정으로 육성하는 기초적 조건을 조사하였고 얻어진 판상단결정의 characterization 및 평가를 행하였다. 본 연구에서 얻어진 최적성장조건은 온도구배가 $22^{\circ}C$/cm 이었고 인상속도는 2.0mm/h이었다. 결정성장 최적조건에서 육성된 BGO결정은 제 2상의 석출이 없고 grain boundary가 존재하지 않으며 X선분석으로도 단결정임이 확인되었다. 육성된 판상단결정의 판면은 (100)면이었고 결정성장 방위는 <110>이었다. 육성된 판상단결정은 편광현미경하에서는 pore, void, inclusion, striation등의 성장결함이 없는 양질의 단결정이었으나 미세결함인 전위(dislocation)의 존재가 확인되었고 전위밀도는 $7.0{\times}105/cm^2$이었다.

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Surface Treatment of Ge Grown Epitaxially on Si by Ex-Situ Annealing for Optical Computing by Ge Technology

  • Chen, Xiaochi;Huo, Yijie;Cho, Seongjae;Park, Byung-Gook;Harris, James S. Jr.
    • IEIE Transactions on Smart Processing and Computing
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    • 제3권5호
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    • pp.331-337
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    • 2014
  • Ge is becoming an increasingly popular semiconductor material with high Si compatibility for on-chip optical interconnect technology. For a better manifestation of the meritorious material properties of Ge, its surface treatment should be performed satisfactorily before the electronic and photonic components are fabricated. Ex-situ rapid thermal annealing (RTA) processes with different gases were carried out to examine the effects of the annealing gases on the thin-film quality of Ge grown epitaxially on Si substrates. The Ge-on-Si samples were prepared in different structures using the same equipment, reduced-pressure chemical vapor deposition (RPCVD), and the samples annealed in $N_2$, forming gas (FG), and $O_2$ were compared with the unannealed (deposited and only cleaned) samples to confirm the improvements in Ge quality. To evaluate the thin-film quality, room-temperature photoluminescence (PL) measurements were performed. Among the compared samples, the $O_2$-annealed samples showed the strongest PL signals, regardless of the sample structures, which shows that ex-situ RTA in the $O_2$ environment would be an effective technique for the surface treatment of Ge in fabricating Ge devices for optical computing systems.

0.5 mol% Pb5Ge3O11가 첨가된 반도성 (Ba1-xPbx)TiO3 세라믹스의 PTCR 효과 (PTCR Effects of Semiconducting (Ba1-xPbx)TiO3 Ceramics with 0.5 mol% Pb5Ge3O11)

  • 윤상옥;정형진;윤기현
    • 한국세라믹학회지
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    • 제28권7호
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    • pp.525-530
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    • 1991
  • The effects of 0.15mol% Y2O3 doped semiconducting (Ba1-xPbx)TiO3 ceramics with 0.5 mol% Pb5Ge3O11 as sintering additives have been investigated as function of Pb contents (from 0.05 mol to 0.3 mol) and sintering temperatures (from 1050$^{\circ}C$ to 1200$^{\circ}C$). As the Pb content increases in the (Ba1-xPbx)TiO3 system, the size and resistance of the grain increase but the capacitance of the grain boundary decreases due to the formation of liquid phase during the sintering. And with increasing the sintering temperatures, the resistance of the grain decreases but the capacitance of the grain boundary increases. The PTCR effects decrease with increasing the Pb content and the sintering temperature.

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