The etching characteristics of Er-doped sodium borosilicate glass film for the planar optical waveguides were investigated using reactive ion etching. The etch rate decreased as the pressure in creased but increased as the RF power increased. The etch rate increased as the flow rate C2F gas and the amount of O2 addition increased but decreased over critical point (C2F6 7,5 accm O2 20%) The etch rate was 180${\AA}$/min under C2F6 7.5 sccm O2 20% RF power 270 W, pressure 150 mTorr. With this optimum etching condition and subsequent heat treatment at 975$^{\circ}C$ for 30 minutes planar optical waveguides having improved sidewall roughness were fabricated successfully.
The purpose of this study is to evaluate the effects of etching time, environmental temperature and humidity on the adhesion of composite resin to glass-ionomer cement. Two chemical cure composite resins (Clearfil F II and Microrest AP) and two glass-ionomer cements (Fuji ionomer Type I and KET AC-CEM) were used as the experimental materials. The experiment is performed in 3 stages: The first stage is to bond composite resins to glass-ionomer cements, and the surface was not etched, and etched for 20 seconds, 40 seconds, and 60 seconds. Then specimens are stored in distilled water at $37^{\circ}C$ for 24 hours to measure tensile strength. The second stage is to choose the one group that had the highest tensile strength from the first stage and prepare two experimental groups: One group with composite resin bonded to glass-ionomer cement without etching and bonding agent application and the other with composite resin bonded to glass-ionomer cement with etching but without any bonding agent application. The specimens are stored in distilled water at $37^{\circ}C$ for 24 hours and tensile strength is measured. The third stage is to choose group that had the highest tensile strength from the first stage experiment, and bond composite resin to glass-ionomer cement at $24^{\circ}C$ 44%, $30^{\circ}C$ 44%, $30^{\circ}C$ 80%, and $32^{\circ}C$ 92%. The storage time of specimens is to bond immediately after storage, then changed to 30 sec., 60 sec., and 120 sec.. Specimens are stored in distilled water at $37^{\circ}C$ for 24 hours and their tensile strength are measured again. The following results were obtained: 1. As the etching time increases, the tensile bond strength between glass-ionomer cement and composite resin increase, and the tensile bond strength is the highest when acid etched for 60 minutes (P < 0.05). 2. After acid etching for 60 minutes, the tensile strength of the group with bonding agent was stronger than that without bonding agent application (P < 0.05). 3. The tensile strength of Clearfil F II was stronger than that of Microrest AP. 4. It was observed that the tensile bond strength is not affected by different storage time with different temperature and humidity. 5. As the humidity was increased, the tensile bond strength between glass-ionomer cement and composite resin decreased (P < 0.05).
한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
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pp.938-941
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2006
It is suggested that the bismate glass system is one of alternatives to the lead glass for barrier-ribs in PDP. Moreover it is necessary to investigate the resultant change in properties with addition of ceramic fillers. Glass frit was selected to be a $Bi_2O_3-ZnO-B_2O_3-Al_2O_3$ and two fillers, ZnO and $Al_2O_3$ were added into a glass matrix with the different content. We investigated thermal, chemical properties of bismate glass system with two different fillers. We confirmed that addition of fillers effects properties of composites such as the thermal expansion coefficient, etching mechanism.
In this paper, glass cap wafer for MEMS device package is fabricated by using sand blaster dry etcher and Its surface is studied. The surface of dry etched glass is analyzed by using SEM, and many glass particles and micro cracks are observed. If these kind of particles were dropped from glass to the surface of device, It would make critical failure to the operation of device. So, several cleaning and etching methods are induced to remove these kinds of dormant failure mode and optimized condition is found out.
PURPOSE. The purpose of this study was to evaluate the influence of acid etching treatment on surface characteristics and biological response of glass-infiltrated zirconia. MATERIALS AND METHODS. A hundred zirconia specimens were divided into four groups depending on surface treatments: untreated zirconia (group Z); acid-etched zirconia (group ZE); glass-infiltrated zirconia (group ZG); and glass-infiltrated and acid-etched zirconia (group ZGE). Surface roughness, surface topography, surface morphology, and Vickers hardness of specimens were evaluated. For biological response test, MC3T3-E1 cell attachment and proliferation on surface of the specimens were examined. The data were statistically analyzed using one-way ANOVA and Tukey's HSD test at a significance level of 0.05. RESULTS. Group ZGE showed the highest surface roughness ($Ra=1.54{\mu}m$) compared with other groups (P < .05). Meanwhile, the hardness of group Z was significantly higher than those of other groups (P < .05). Cell attachment and cell proliferation were significantly higher in group ZGE (P < .05). CONCLUSION. We concluded that effective surface roughness on zirconia could be made by acid etching treatment after glass infiltration. This surface showed significantly enhanced osteoblast cell response.
Er-doped sodiumborosilicate glass films for waveguides amplifier were fabricated by Aerosol Flame Deposition(AFD) method. Al2O3 was added to sodium borosilicate glass films to suppress the formation of crystalline phase and control the refractive index. the formation of crystalline phase was suppressed above Al2O3 of 6 wt%. As the amount of Al2O3 increased from 2 to 12 wt% the refractive index of glass films increased lineary from 1.4595 up to 1.4710. After the core of 77SiO2-15B2O3-8Na2O+6 wt%Al2O3+8wt%Er2O3 was coated on the buffer layer of 77SiO2-15B2O3-8Na2O+6 wt%Al2O3, the core was etched by reactive ion etching. The absorption spectrum of 3 cm waveguide amplifier showed two peaks of 1530 and 1550 nm.
This work focuses on improving the light-harvesting efficiency of thin-film silicon solar cells through innovative multi-architecture surface modifications. To create a regular optical structure, a lithographic process was performed to form it on a glass substrate through various etching processes, from Etch-1 to Etch-3. AZO was deposited on top of the structures and re-etched to create a multi-architectural surface. These surface-modified structures improved the light absorption and overall performance of the solar cell through changes in optical and physical properties, which we will analyze. In addition, we investigated the effect of post-cleaning on the etched glass structures through EDX analysis to understand the mechanism of the etching action. The results of this study are expected to provide important guidelines for the design and fabrication of solar cells and other photovoltaic devices.
Zinc oxide(ZnO) was sputtered on various glass and flexible substrates such as polyethylene terephthalate(PET) and polycarbonate(PC). A Q-switched $Nd:YVO_4$ laser with a wavelength of 1,064 nm was used for the direct etching of ZnO films. It was possible to obtain laser etched line patterns on the ZnO films on PC substrate at some specific laser beam conditions. In the flexible substrates, more thermal energy of laser beam is expected to be spreaded for the etching process.
This study describes a new mastless nano-fabrication technique of Pyrex 7740 glass using the combination of nanomachining by nano-indenter XP and HF wet etching. First, the surface of a Pyrex 7740 glass specimen was machined by using the nano-machining system, which utilizes the mechanism of the nano-indenter XP. Next, the specimen was etched by HF solution. After the etching process, the convex structure or deeper hole is made because of masking or promotion effect of the affected layer generated by nano-machining. On the basis of this interesting fact. some sample structures were fabricated.
Park, Hyeongsik;Cho, Jae Hyun;Jung, Jun Hee;Duy, Pham Phong;Le, Anh Huy Tuan;Yi, Junsin
Current Photovoltaic Research
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제5권3호
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pp.75-82
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2017
High efficiency thin film solar cells require an absorber layer with high absorption and low defect, a transparent conductive oxide (TCO) film with high transmittance of over 80% and a high conductivity. Furthermore, light can be captured through the glass substrate and sent to the light absorbing layer to improve the efficiency. In this paper, morphology formation on the surface of glass substrate was investigated by using HF, mainly classified as random etching and periodic etching. We discussed about the etch mechanism, etch rate and hard mask materials, and periodic light trapping structure.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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