Journal of the Korea Institute of Military Science and Technology
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v.5
no.3
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pp.77-86
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2002
An experimental study of the vortex interaction characteristics of a delta wing/LEX configuration was conducted in a wind tunnel using the micro water droplet and laser beam sheet visualization technique. The main focus of this study was to analyze the effect of the angle of attack and sideslip angle on the vortex interaction and vortex breakdown. These tests were accomplished at angles of attack between $16^{\circ}$ and $28^{\circ}$ and sideslip angle between $0^{\circ}$ and $-15^{\circ}$ at free-stream velocity of 6.2 m/s. Flow visualization data provide a description of the vortex interaction between LEX and wing vortices, and of the vortex breakdown. The introduction of LEX vortex stabilized the vortical flow, and delayed the vortex breakdown up to higher angle of attack. The vortex interaction and breakdown was promoted on the windward side, whereas they are suppressed on the leeward side.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2008.11a
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pp.74-75
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2008
TIGBT has some merits which are lower on-state voltage drop and smaller cell pitch, but also has a defect which is relatively lower breakdown voltage in comparison with planar IGBT. This lower breakdown voltage is due to the electric field which is concentrated on beneath the vertical gate. Therefore in this paper, new trench IGBT structure is proposed to improve breakdown voltage In the new proposed structure, a narrow oxide beneath the trench gate edge where the electric field is concentrated is extended into rectangular shape to decrease the electric field. As a result, breakdown voltage is improved to 23%.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2005.07a
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pp.149-150
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2005
Thyristor breakdown voltage variation acceleration aging test was investigated. The breakdown voltage was deceased after 1000 hours acceleration aging test. It temperature rising caused by electric field concentration at the edge beveling region of the thyristor was confirmed using Silvaco device simulation. The local temperature rising is driving force for the defect propagation. Consequently, propagated defects of the beveling region seems to decrease thyristor's breakdown voltage.
The Transactions of The Korean Institute of Electrical Engineers
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v.66
no.4
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pp.659-665
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2017
Power semiconductor devices required the low on-resistance and high breakdown voltage. Wide band-gap materials opened a new technology of the power devices which promised a thin drift layer at an identical breakdown voltage. The diamond had the wide band-gap of 5.5 eV which induced the low power loss, high breakdown capability, low intrinsic carrier generation, and high operation temperature. We investigated the p-type pseudo-vertical diamond Schottky barrier diodes using a numerical simulation. The impact ionization rate was material to calculating the breakdown voltage. We revised the impact ionization rate of the diamond for adjusting the parallel-plane breakdown field at 10 MV/cm. Effects of the field plate on the breakdown voltage was also analyzed. A conventional diamond Schottky barrier diode without field plate exhibited the high forward current of 0.52 A/mm and low on-resistance of $1.71{\Omega}-mm$ at the forward voltage of 2 V. The simulated breakdown field of the conventional device was 13.3 MV/cm. The breakdown voltage of the conventional device and proposed devices with the $SiO_2$ passivation layer, anode field plate (AFP), and cathode field plate (CFP) was 680, 810, 810, and 1020 V, respectively. The AFP cannot alleviate the concentration of the electric field at the cathode edge. The CFP increased the breakdown voltage with evidences of the electric field and potential. However, we should consider the dielectric breakdown because the ideal breakdown field of the diamond is higher than that of the $SiO_2$, which is widely used as the passivation layer. The real breakdown voltage of the device with CFP decreased from 1020 to 565 V due to the dielectric breakdown.
Kim, Tae-Hong;Jeong, Chung-Bu;Goh, Jin-Young;Kim, Kwang-Soo
Journal of IKEEE
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v.22
no.4
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pp.916-921
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2018
In this paper, we analyzed the power MOSFET devices for high voltage and high current operation. 4H-SiC was used instead of Si to improve the static characteristics of the device. Since 4H-SiC has a high critical electric field due to wide band gap, 4H-SiC is more advantageous than Si in high voltage and high current operation. In the conventional VDMOSFET structure using 4H-SiC, the breakdown voltage is limited due to the electric field crowding at the edge of the p-base region. Therefore, in this paper, we propose a Curvature VDMOSFET structure that improves the breakdown voltage and the static characteristics by reducing the electric field crowding by giving curvature to the edge of the p-base region. The static characteristics of conventional VDMOSFET and curvature VDMOSFET are compared and analyzed through TCAD simulation. The Curvature VDMOSFET has a breakdown voltage of 68.6% higher than that of the conventional structure without increasing on-resistance.
Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics
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v.20
no.3
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pp.33-39
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1983
New Schottky devices with thin stepped oxide layer (about 1000 ${\AA}$) along the edge of metal-semiconductor junction have been designed and fabricated. The breakdown voltages of these diodes have been compared with those of conventional metal overlap and P guard ring Schottky diode structures. Thin stepped oxide layer has been grown by the process of T.C.E. oxidation. In order to compare and demonstrate the improved down phenomena of these devices, conventional metal overlap diode and P guard ring which have the same dimension with new devices have also been integrated in a same New Schottty devices structured with thin stepped oxide layer have shown significant improvement in breakdown phenomena compared with conventional diodes.
Internal and external forces may be applied on the power cable in the both process of transportation and installation. Even though the EHV power cables have the structure of metal sheath and plastic jacket etc. to minimize these negative influences, the unusual forces result in the unexpected deformation of the cable. Compressing moulded XLPE model cable sheets were prepared and locally dented with round-edge and square-edge tools. All data were analyzed employing Weibull distribution. The breakdown strength of dented molded specimens showed lower values than the normal ones by 10-60%.
Kim, Doo-Young;Kim, Han-Soo;Choi, Yearn-Ik;Han, Min-Koo
Proceedings of the KIEE Conference
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1994.07b
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pp.1448-1450
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1994
The breakdown voltages of punchthrough-mode diodes with cylindrical junction are analytically calculated, The proposed method, which is based on th Gauss's law, estimates the lateral expansion of the depletion region as well as the electric field and the charge distribution. The proposed method is given in terms of epitaxial layer width, the epitaxial layer doping concentration, and curvature radius of the junction edge. The calculation results agree well with the MEDICI simulation results for various device parameters.
The recessed gate IGBT has a lower on-state voltage drop compared with the DMOS IGBT, because there is no JFET resistance. But because of the electric field concentration in the corner of the gate edge, the breakdown voltage decreases. This paper is about the new structure to effectively improve the Vce(sat) voltage without breakdown voltage drop in 1700V NPT type recessed gate IGBT with p floating shielding layer. For the fabrication of the recessed gate IGBT with p floating shielding layer, it is necessary to perform the only one implant step for the shielding layer. Analysis on the Breakdown voltage shows the improved values compared to the conventional recessed gate IGBT structures. The result shows the improvement on Breakdown voltage without worsening other characteristics of the device. The electrical characteristics were studied by MEDICI simulation results.
The planar edge termination techniques of field-ring and deep junction field-ring were investigated and optimized using a two-dimensional device simulator TMA MEDICI. By trenching the field ring site which would be implanted, a better blocking capability can be obtained. The results show that the p-n junction with deep junction field-ring can accomplish near 30% increase of breakdown voltage in comparison with the conventional field-rings. The deep junctionfield-rings are easy to design and fabricate and consume same area but they are relatively sensitive to surface charge. Extensive device simulations as well as qualitative analyses confirm these conclusions.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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