• 제목/요약/키워드: Double Carrier

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전리층 지연 효과의 통계적 모델을 이용한 반송파 정밀측위 (Precise Positioning from GPS Carrier Phase Measurement Applying Stochastic Models for Ionospheric Delay)

  • 양효진;권재현
    • 한국측량학회지
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    • 제25권4호
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    • pp.319-325
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    • 2007
  • GPS를 이용한 상대측위에 있어서 기선의 길이가 길어질수록 측위지점 사이의 상관관계 저하로 인하여 전리층 지연 효과와 같은 오차가 관측치내에 존재하는 문제가 여전히 남아있다. 본 연구에서는 중기선 이상의 상대측위에서 가장 큰 오차요인으로 알려져 있는 전리층 지연 효과를 통계적 모델을 이용하여 모델링하고, 이론적 경험적으로 가장 좋다고 알려져 있는 LAMBDA방법을 이용하여 모호정수를 결정하였다. 상시관측소데이터를 이용하여 통계적 모델을 경험적으로 Gauss-Markov 1차를 결정하였으며, 모델 파라미터인 상관시간(correlation time) 및 모델의 분산을 산출하였다. 최종적으로 개발된 알고리즘의 적용 및 정확도 분석을 위하여 상용소프트웨어 및 Bernese와 비교하였다.

The Uncertainties in Contemporary Art

  • Pan Bo
    • International Journal of Advanced Culture Technology
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    • 제11권2호
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    • pp.170-177
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    • 2023
  • In quantum mechanics, uncertainty refers to the uncertainty of a measurement physical quantity, because some mechanical quantity can only be in its eigenstate under certain conditions, and the values shown are discrete.The exact value can only be obtained by measuring it in the eigenstate of this mechanical quantity.Uncertainty is like a double-edged sword, which has both advantages and disadvantages in art itself and in the process of artistic creation. In this study, it is divided into three main parts. First, the existence of uncertainties in contemporary art is sorted out in two broad parts, the definition of the uncertainties in art and the specific expression in contemporary art, respectively, with examples from four aspects of psychological impact, accidental presentation effect, expression form and connection with the viewer. The purpose is to understand how uncertainties are expressed in the process of artistic creation. Second, the role of the uncertainties in artistic creation is analyzed through examples, and then it is proposed that artists should use uncertainties to serve art with a scientific and rational attitude. Thirdly, the application of uncertainties in my creative practice and their influences on my painting creation. In summary, every artistic creator should take art seriously and sincerely. The relationship among the creative subject, society and life is an eternal and continuous interaction, and art is a carrier of reflection. For the problems brought by uncertainties in artistic creation, from choosing new certainty by thinking to the emergence of uncertainties, such a cycle is the process of art sublimating from life and being closely related to life.

가우스분포를 이용한 이중게이트 MOSFET의 드레인유기장벽감소 분석 (Analysis of Drain Induced Barrier Lowering for Double Gate MOSFET Using Gaussian Distribution)

  • 정학기
    • 한국정보통신학회논문지
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    • 제16권2호
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    • pp.325-330
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    • 2012
  • 본 연구에서는 차세대 나노소자인 이중게이트(Double gate; DG) MOSFET에서 발생하는 단채널효과 중 하나인 드레인유기장벽감소(Drain Induced Barrier Lowering; DIBL)에 대하여 분석하였다. 포아송방정식을 풀어 전위분포에 대한 분석학적 해를 구할 때 전하분포함수에 대하여 가우시안 함수를 사용함으로써 보다 실험값에 가깝게 해석하였으며 이때 가우시안 함수의 변수인 이온주입범위 및 분포편차 그리고 소자 파라미터인 채널의 크기, 도핑강도 등에 대하여 드레인유기장벽감소의 변화를 관찰하고자 한다. 본 연구의 모델에 대한 타당성은 이미 기존에 발표된 논문에서 입증하였으므로 본 연구에서는 이 모델을 이용하여 드레인유기장벽감소에 대하여 분석한 결과 드레인유기장벽감소 현상은 채널의 구조 및 도핑강도에 따라 매우 급격히 변화하는 것을 알 수 있었다.

An Analytical Model for the Threshold Voltage of Short-Channel Double-Material-Gate (DMG) MOSFETs with a Strained-Silicon (s-Si) Channel on Silicon-Germanium (SiGe) Substrates

  • Bhushan, Shiv;Sarangi, Santunu;Gopi, Krishna Saramekala;Santra, Abirmoya;Dubey, Sarvesh;Tiwari, Pramod Kumar
    • JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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    • 제13권4호
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    • pp.367-380
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    • 2013
  • In this paper, an analytical threshold voltage model is developed for a short-channel double-material-gate (DMG) strained-silicon (s-Si) on silicon-germanium ($Si_{1-X}Ge_X$) MOSFET structure. The proposed threshold voltage model is based on the so called virtual-cathode potential formulation. The virtual-cathode potential is taken as minimum channel potential along the transverse direction of the channel and is derived from two-dimensional (2D) potential distribution of channel region. The 2D channel potential is formulated by solving the 2D Poisson's equation with suitable boundary conditions in both the strained-Si layer and relaxed $Si_{1-X}Ge_X$ layer. The effects of a number of device parameters like the Ge mole fraction, Si film thickness and gate-length ratio have been considered on threshold voltage. Further, the drain induced barrier lowering (DIBL) has also been analyzed for gate-length ratio and amount of strain variations. The validity of the present 2D analytical model is verified with ATLAS$^{TM}$, a 2D device simulator from Silvaco Inc.

20nm이하 이중게이트 FinFET의 크기변화에 따른 서브문턱스윙분석 (Analysis of Dimension Dependent Subthreshold Swing for Double Gate FinFET Under 20nm)

  • 정학기;이종인;정동수
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2006년도 춘계종합학술대회
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    • pp.865-868
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    • 2006
  • 본 연구에서는 20nm이하 채널길이를 가진 이중게이트 FinFET에 대하여 문턱전압이하에서 서브문턱스윙을 분석하였다. 분석을 위하여 분석학적 전류모델을 개발하였으며 열방사 전류 및 터널링 전류를 포함하였다. 열방사전류는 포아슨방정식에 의하여 구한 포텐셜분포 및 맥스월-볼쯔만통계를 이용한 캐리어분포를 이용하여 구하였으며 터널링전류는 WKB(Wentzel-framers-Brillouin)근사를 이용하였다. 이 두 모델은 상호 독립적이므로 각각 전류를 구해 더함으로써 차단전류를 구하였다. 본 연구에서 제시한 모델을 이용하여 구한 서브문턱스윙값이 이차원시뮬레이션값과 비교되었으며 잘 일치함을 알 수 있었다. 분석 결과 10nm이하에서 특히 터널링의 영향이 증가하여 서브문턱스윙특성이 매우 저하됨을 알 수 있었다 이러한 단채널현상을 감소시키기 위하여 채널두께 및 게이트산화막의 두께를 가능한한 않게 제작하여야함을 알았으며 이를 위한 산화공정개발이 중요하다고 사료된다.

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나노구조 이중게이트 FinFET의 크기변화에 따른 문턱전압이동 분석 (Analysis of Dimension Dependent Threshold Voltage Roll-off for Nano Structure Double Gate FinFET)

  • 정학기;이재형;정동수
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2006년도 춘계종합학술대회
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    • pp.869-872
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    • 2006
  • 본 연구에서는 나노구조 이중게이트 FinFET에 대하여 문턱전압이동 특성을 분석하였다. 분석을 위하여 분석학적 전류모델을 개발하였으며 열방사 전류 및 터널링 전류를 포함하였다. 열방사전류는 포아슨방정식에 의하여 구한 포텐셜분포 및 맥스월-볼쯔만통계를 이용한 캐리어분포를 이용하여 구하였으며 터널링전류는 WKB(Wentzel-framers-Brillouin)근사를 이용하였다. 이 두 모델은 상호 독립적이므로 각각 전류를 구해 더함으로써 문턱전압을 구하였다. 본 연구에서 제시한 모델을 이용하여 구한 문턱전압이동값이 이차원시뮬레이션값과 비교되었으며 잘 일치함을 알 수 있었다. 분석 결과 10nm이하에서 특히 터널링의 영향이 증가하여 문턱전압이동이 매우 현저하게 나타남을 알 수 있었다. 이러한 단채널현상을 감소시키기 위하여 채널두께 및 게이트산화막의 두께를 가능한한 얇게 제작하여야함을 알았으며 이를 위한 산화공정개발이 중요하다고 사료된다.

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나노구조 이중게이트 FinFET의 크기변화에 따른 문턱전압이동 및 DIBL 분석 (Analysis of Dimension-Dependent Threshold Voltage Roll-off and DIBL for Nano Structure Double Gate FinFET)

  • 정학기
    • 한국정보통신학회논문지
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    • 제11권4호
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    • pp.760-765
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    • 2007
  • 본 연구에서는 나노구조 이중게이트 FinFET에 대하여 문턱전압이동 특성 및 드레인유기장벽저하(Drain Induced Barrier Lowering; DIBL)특성을 분석하였다. 분석을 위하여 분석학적 전류모델을 개발하였으며 열방사전류 및 터널링전류를 포함하였다. 열방사전류는 포아슨방정식에 의하여 구한 포텐셜분포 및 맥스월-볼쯔만통계를 이용한 캐리어분포를 이용하여 구하였으며 터널링 전류는 WKB(Wentzel-Kramers-Brillouin)근사를 이용하였다. 이 두 모델은 상호 독립적이므로 각각 전류를 구해 더함으로써 문턱 전압을 구하였다. 본 연구에서 제시한 모델을 이용하여 구한 문턱 전압 이동값이 이차원 시뮬레이션값과 비교되었으며 잘 일치함을 알 수 있었다. 분석 결과 10nm 이하에서 특히 터널링의 영향이 증가하여 문턱전압이동 및 DIBL이 매우 현저하게 나타남을 알 수 있었다. 이러한 단채널현상을 감소시키기 위하여 채널두께 및 게이트산화막의 두께를 가능한한 얇게 제작하여야함을 알았으며 이를 위한 산화공정개발이 중요하다고 사료된다.

Mineral-Based Slow Release Fertilizers: A Review

  • Noh, Young Dong;Komarneni, Sridhar;Park, Man
    • 한국토양비료학회지
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    • 제48권1호
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    • pp.1-7
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    • 2015
  • Global population is expected to reach nine billion in 2050 and the total demand for food is expected to increase approximately by 60 percent by 2050 as compared to 2005. Therefore, it is important to increase crop production in order to meet the global demand for food. Slow release fertilizers have been developed and designed in order to improve the efficiency of fertilizers. Mineral-based slow release fertilizers are useful because the minerals have a crystalline structure and are environmentally friendly in a soil. This review focuses on slow release fertilizers based on montmorillonite, zeolite, and layered double hydroxide phases as a host for nutrients, especially N. Urea was successfully stabilized in the interlayer space of montmorillonite by the formation of urea-Mg or Ca complex, $[(Urea)_6Mg\;or\;Ca]^{2+}$ protecting its rapid degradation in soils. Naturally occurring zeolites occluded with ammonium nitrate and potassium nitrate by molten salt treatment could be used as slow release fertilizer because the occlusion process increased the capacity of zeolites to store nutrients in addition to exchangeable cations. Additionally, surface-modified zeolites could also be used as slow release fertilizer because the modified surface showed high affinity for anionic nutrients such as nitrate and phosphate. Moreover, there were attempts to develop and use synthetic layered double hydroxide as a carrier of nitrate because it has positively charged layers which electrostatically bond nitrate anions. Kaolin was also tested by combining with a polymer or through the mechanical-chemical process for slow release of nutrients.

Hydroxide ion Conduction Mechanism in Mg-Al CO32- Layered Double Hydroxide

  • Kubo, Daiju;Tadanaga, Kiyoharu;Hayashi, Akitoshi;Tatsumisago, Masahiro
    • Journal of Electrochemical Science and Technology
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    • 제12권2호
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    • pp.230-236
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    • 2021
  • Ionic conduction mechanism of Mg-Al layered double hydroxides (LDHs) intercalated with CO32- (Mg-Al CO32- LDH) was studied. The electromotive force for the water vapor concentration cell using Mg-Al CO32- LDH as electrolyte showed water vapor partial pressure dependence and obeyed the Nernst equation, indicating that the hydroxide ion transport number of Mg-Al CO32- LDH is almost unity. The ionic conductivity of Mg(OH)2, MgCO3 and Al2(CO3)3 was also examined. Only Al2(CO3)3 showed high hydroxide ion conductivity of the order of 10-4 S cm-1 under 80% relative humidity, suggesting that Al2(CO3)3 is an ion conducting material and related to the generation of carrier by interaction with water. To discuss the ionic conduction mechanism, Mg-Al CO32- LDH having deuterium water as interlayer water (Mg-Al CO32- LDH(D2O)) was prepared. After the adsorbed water molecules on the surface of Mg-Al CO32- LDH(D2O) were removed by drying, DC polarization test for dried Mg-Al CO32- LDH(D2O) was examined. The absorbance attributed to O-D-stretching band for Mg-Al CO32- LDH(D2O) powder at around the positively charged electrode is larger than that before polarization, indicating that the interlayer in Mg-Al CO32- LDH is a hydroxide ion conduction channel.

Characterization of 6H-SiC Single Crystals grown by Sublimation Method

  • Kim, Hwa-Mok;Kang, Seung-Min;Kyung Joo;Auh, Keun-Ho
    • 한국결정성장학회:학술대회논문집
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    • 한국결정성장학회 1997년도 Proceedings of the 12th KACG Technical Meeting and the 4th Korea-Japan EMGS (Electronic Materials Growth Symposium)
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    • pp.261-263
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    • 1997
  • 6H-SiC single crystals were successfully grown by the self-designed sublimation apparatus and the optimum growth condition was established. The grown SiC crystals were about 33mm in diameter and 10mm in length. Carrier concentration and doping type of undopped 6H-SiC wafer grown by sublimation method were 1016∼1017/㎤ and n-type Crystallinity of grown 6H-SiC wafer was better than of Acheson seed by data of Raman spectroscopy and Double Crystal XRD. We continue to characterize the grown 6H-SiC wafer in more detail and so we will grow the high-quality 6H-SiC single crystal wafer.

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