Titanium alloys are extensively used in high-temperature applications due to their excellent high strength and corrosion resistance properties. However, titanium alloys are problematic because they tend to be extremely difficult-to-cut material. In this paper, the powder synthesis, spark plasma sintering (SPS), bulk material characteristics and machinability test of hybrid $Ti_2AlC$ ceramic bulk materials were systematically examined. The bulk samples mainly consisted of $Ti_2AlC$ materials with density close to theoretical value were synthesized by a SPS method. Random orientation and good crystallization of the $Ti_2AlC$ was observed at $1100^{\circ}C$ for 10 min under SPS sintering conditions. Scanning electron microscopy results indicated a homogeneous distribution and nano-laminated structure of $Ti_2AlC$ MAX phase. The hardness and electrical conductivity of $Ti_2AlC$ were higher than that of Ti 6242 alloy at sintering temperature of $1000^{\circ}C{\sim}1100^{\circ}C$. Consequently, the machinability of the hybrid $Ti_2AlC$ bulk materials is better than that of the Ti 6242 alloy for micro-EDM process of micro-hole shape workpiece.
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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v.44
no.12
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pp.12-17
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2007
The effects of the evaporation rate of MgO films using an electron beam on the MgO properties and the discharge characteristics of a plasma display panel(PDP) were investigated and analyzed. Mgo films were deposited with the various MgO evaporation rates. The MgO properties such as the crystal orientation, the surface roughness, and the film structure, were inspected using XRD(X-ray diffractometry), AFM(atomic force microscopy). From the experiments and Paschen law, the maximum value of the secondary, electron emission coefficient $(\gamma)$ was obtained at the evaporation rate of $5\AA/sec$. The minimum firing voltage and the maximum luminous efficiency were obtained at an evaporation rate of $5\AA/sec$. In the MgO film deposited at $5\AA/sec$, the (200) orientation and $F^+$ center were most intensive. The XRD results and cathode-luminescence(CL) spectra show the $\gamma$ values are correlated with $F/F^+$ centers of the molecular structure of MgO films.
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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v.45
no.11
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pp.8-12
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2008
For the reduction of fabrication cost and process time of AC plasma display panel (PDP), indium tin oxide (ITO) layer was patterned as bus electrode using Nd:$YVO_4$ laser. In comparison with the chemically wet etched ITO patterns, laser ablated ITO patterns showed the formation of shoulders and ripple-like structures at the edge of the ITO lines. For the reduction of shoulders and ripple-like structures, pulse repetition rate and scan velocity of laser was changed. In addition, we analyzed a discharge characteristic of PDP test panel to observe how the shoulders and ripple-like structures influence on the PDP. Based on experimental results, the pattern etched at the 500 mm/s and 40 kHz was better than any other condition. From this experiment we could see the possibility of the laser direct patterning for the application to the patterning of ITO in AC-PDP.
Ion thruster is a kind of electrostatic thruster that use electrostatic field in order to accelerate ionized propellant. Ion thruster have characteristics of small thrust but very high specific impulse among the electric thrusters. High specific impulse can reduce propellant consumption significantly. So, ion thruster have advantage for long time and long distance mission. Recently, plans for space exploration is increasing gradually not only at traditional forward countries for space like USA, Russia and Europe, but also other countries like Japan, China and India. Exploration for superior planets and asteroids the propellant ratio can go up to about 99% when chemical propulsion is used as a cruising thruster. Therefore, latest space exploration vehicles use the ion thruster as main thruster for del-V burn and use monopropellant thrusters for attitude control. In this paper, the development process of preliminary ECR ion thruster and the ECR discharge test results will be presented.
Lim, Ji Eun;Lee, Soo Eon;Ahn, Hyo Jung;Park, Jae-Hong;Choi, Sung Chul
Journal of The Korean Dental Society of Anesthesiology
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v.12
no.4
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pp.229-233
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2012
Hemophilia, the most common of the inherited bleeding disorder, is the result of a deficiency of clotting factor. Since bleeding after dental treatment may cause severe or even fatal complications, people with hemophilia must be given special dental care. We report on the diagnosis and treatment of a 9-year-old boy having severe hemophilia visited our department with the chief complaints of pus discharge on the left lower molar region. In the clinical and radiographic examination, periapical abscess and dental caries were diagnosed. Considering complexity of the treatment and complication in the coagulation, it was decided to carry on the treatment under general anesthesia. Clotting factor IX concentrates were intended to provide 50-70% plasma level. Pulpectomy, resin restoration and Stainless steel crown were given under general anesthesia. Several teeth were extracted and the sockets were packed with Surgicel$^{(R)}$ (Oxidized Regenerated Cellulose, Johnson and Johnson Co. Neuchatel, Switzerland) under general anesthesia. Transpalatal arch and lingual arch were given for maintaining the extracted space before discharged. For people with severe hemophilia, factor replacement is necessary before scaling, surgery or regional block injections. Therefore, if several extractions are needed, dental care under general anesthesia would be effective and efficient management.
We have investigated and analyzed the effects of the evaporation rate of MgO films on the MgO properties and the discharge characteristics of a plasma display panel(PDP). The MgO properties such as the crystal orientation, the surface roughness, the film structure, and cathode-luminescence (CL) spectra were inspected using XRD (X-ray diffraction), AFM(atomic force microscopy). And the discharging characteristics of the PDP such as the firing voltage, discharging current, and luminescence were measured using a vacuum chamber with oscilloscope (TDS 540C), current probe (TCP-312A), color meter (CS-100A) and etc. From the experiments results we confirmed the optimum evaporation rate at $5{\AA}/sec$, the MgO properties were shown to be strongly dependent on the evaporation rate, and the MgO properties had an effecton the optical and electrical characteristics. In other words, if the evaporation rates increase than $5{\AA}/sec$, the intensity of (200) orientation and cathode-luminescence (CL) spectra reduce, and the firing vlotage was increased. So the luminuous efficiency grows worse.
Application of power higher than the optimum operation value to an external electrode fluorescent lamps(EEFL) leads to the formation of small holes, called pinholes, which subsequently leads to lamp failure. The pinholes come from the insulating breakdown of the capacitor which is the dielectric layer between an external electrode and glass tube. The power of insulation breakdown is proportional to the electric power applied to the lamp. When a lamp current is low in the glass tube of dielectric constant K, the dielectric field strength of pinholes is about 3K kV/mm. The field strength of insulation breakdown decreases as the lamp current increases.
We are suggesting a new index to represent the performance of PDP, such as Specific Performance Index (SPI) that includes luminous efficacy and panel reflectance. High Xe gas mixture and low panel capacitance are well known as key factors to improve luminous efficacy of PDP [1]. However, higher driving voltage and longer discharge time lag is an obstacle when applying these technologies. Modified cell design, new materials and driving waveform enable us to overcome these obstacles. High efficient phosphor is also a key material to improve luminous efficacy. Phosphors coated with pigment are used to reduce panel reflectance. High performance 50-inch HD PDP with luminous efficacy of 2.3 lm/W has been developed.
Kim, H.H.;Lee, M.Y.;Kim, K.T.;Yoon, S.H.;Yoo, H.K.;Kim, J.M.;Park, C.H.;Lim, K.J.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2003.07b
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pp.787-790
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2003
A rf triode magnetron sputtering system is designed and installed its construction in vacuum chamber. In order to calibrate the rf triode magnetron sputtering for thin films deposition processes, the effects of different glow discharge conditions were investigated in terms of the deposition rate measurements. The basic parameters for calibrating experiment in this sputtering system are rf power input, gas pressure, plasma current, and target-to-substrate distance. Because a knowledge of the deposition rate is necessary to control film thickness and to evaluate optimal conditions which are an important consideration in preparing better thin films, the deposition rates of copper as a testing material under the various sputtering conditions are investigated. Furthermore, a triode sputtering system designed in our team is simulated by the SIMION program. As a result, it is sure that the simulation of electron trajectories in the sputtering system is confined directly above the target surface by the force of $E{\times}B$ field. Finally, some teats with the above 4 different sputtering conditions demonstrate that the deposition rate of rf triode magnetron sputtering is relatively higher than that of the conventional sputtering system. This means that the higher deposition rate is probably caused by a high ion density in the triode and magnetron system. The erosion area of target surface bombarded by Ar ion is sputtered widely on the whole target except on both magnet sides. Therefore, the designed rf triode magnetron sputtering is a powerful deposition system.
Statement of problem: HA has been used as a coating material on Ti implants to improve osteoconductivity. However. it is difficult to form uniform HA coatings on implants with complex surface geometries using a plasma spraying technique. Purpose : To determine if Ti6Al4V sintered porous-surfaced implants coated with HA sol-gel coated and hydrothermal treated would accelerate osseointegration. Materials and Methods : Porous implants which were made by electric discharge were used in this study. Implants were anodized and hydrothermal treatment or HA sol-gel coating was performed. Hydrothermal treatment was conducted by high pressure steam at $300^{\circ}C$ for 2 hours using a autoclave. To make a HA sol, triethyl phosphite and calcium nitrate were diluted and dissolved in anhydrous ethanol and mixed. Then anodized implant were spin-coated with the prepared HA sols and heat treated. Samples were soaked in the Hanks solution with pH 7.4 at $37^{\circ}C$ for 6 weeks. The microstructure of the specimens was observed with a scanning electron microscope (SEM), and the composition of the surface layer was analyzed with an energy dispersive spectroscope (EDS). Results : The scanning electron micrographs of HA sol-gel coated and hydrothermal treated surface did not show any significant change in the size or shape of the pores. After immersion in Hanks' solution the precipitated HA crystals covered macro- and micro-pores The precipitated Ca and P increased in Hanks' solution that surface treatment caused increased activity. Conclusion : This study shows that sol-gel coated HA and hydrothermal treatment significantly enhance the rate of HA formation due to the altered surface chemistry.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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