• 전자통신동향분석
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• 제20권6호통권96호
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• pp.62-69
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• 2005

세계 최고 권위의 반도체 시장 조사기관인 Gartner Dataquest는 2004년 세계 메모리시장 규모는 480억 달러로 2003년의 335억 달러 대비 43% 성장하였다고 보고하고있다[1]. 또한 DRAM은 55%, 플래시 메모리는 35%를 차지하고 있으며, 이들 두 메모리가 전체 메모리 시장을 양분하고 있다[1]. DRAM은 cost 및 random access가 가능하다는 장점을 가지고 있지만 휘발성이라는 단점을 가지고 있으며, 플래시 메모리는cost 및 비휘발성의 장점을 보유하고 있으나 random access가 불가능하다는 단점을 보유하고 있다. 하지만, PRAM은 DRAM과 플래시 메모리의 장점만을 융합한 통합형메모리로서, 현재 가장 각광받고 있으며 양산화에 가장 근접한 메모리이다. 본 고에서는 PRAM의 구조 및 동작특성, 개발동향 및 향후 전망에 대해 논의하고자 한다.

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제38권4호
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• pp.243-250
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• 2001

본 논문에서는 μspring 패키지의 구조와 제조공정을 소개하고, 전기적 특성을 μBGA와 비교 분석한 결과를 제시하였다. μBGA에서와 같이 μSpring 패키지의 연결선 인덕턴스 값은 기존의 TSOP 패키지의 반 이하로서 월등한 고속 신호 전달 특성을 제공하게 된다. 또한 μSpring CSP 패키지의 경우 가장 열악한 substrate trace를 가진 핀에서도 2.9nH로 평가되어, Rambus DRAM module의 인덕턴스 규격 상한 값 4nH에 비하여, 약 25% 정도의 margin을 제공한다. μSpring CSP패키지는 μBGA의 약 50%의 제조 비용으로서 μBGA가 만족시키지 못하는 JEDEC Level 1 규격을 충족시킬 뿐만 아니라, thermal cycle 1000회를 통과하는 높은 신뢰성을 제공하여 강력한 경쟁력을 가진다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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• pp.156-157
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• 2012

단일 셀에서 비휘발성 및 고속의 휘발성 메모리를 모두 구동할 수 있는 다기능 메모리는 모바일 기기 및 embedded 장치의 폭발적인 성장에 있어 그 중요성이 커지고 있다. 따라서 최근 이러한 fusion기술을 응용한 unified RAM (URAM)과 같은 다기능 메모리의 연구가 주목 받고 있다. 이러한 다목적 메모리는 주로 silicon on insulator (SOI)기반의 1T-DRAM과 SONOS기술 기반의 비휘발성 메모리의 조합으로 이루어진다. 하지만 이런 다기능 메모리는 주로 단결정기반의 SOI wafer 위에서 구현되기 때문에 값이 비싸고 사용범위도 제한되어 있다. 따라서 이러한 다기능메모리를 다결정 실리콘을 이용하여 제작한다면 기판에 자유롭게 메모리 적용이 가능하고 추후 3차원 적층형 소자의 구현도 가능하기 때문에 다결정실리콘 기반의 메모리 구현은 필수적이라고 할 수 있겠다. 본 연구에서는 다결정실리콘을 이용한 channel recessed구조의 다기능메모리를 제작하였으며 각 1T-DRAM 및 NVM동작에 따른 memory 특성을 살펴보았다. 실험에 사용된 기판은 상부 비정질실리콘 100 nm, 매몰산화층 200 nm의 SOI구조의 기판을 이용하였으며 고상결정화 방법을 이용하여 $600^{\circ}C$ 24시간 열처리를 통해 결정화 시켰다. N+ poly Si을 이용하여 source/drain을 제작하였으며 RIE시스템을 이용하여 recessed channel을 형성하였다. 상부 ONO게이트 절연막은 rf sputter를 이용하여 각각 5/10/5 nm 증착하였다. $950^{\circ}C$ N2/O2 분위기에서 30초간 급속열처리를 진행하여 source/drain을 활성화 하였다. 계면상태 개선을 위해 $450^{\circ}C$ 2% H2/N2 분위기에서 30분간 열처리를 진행하였다. 제작된 Poly Si MFM에서 2.3V, 350mV/dec의 문턱전압과 subthreshold swing을 확인할 수 있었다. Nonvolatile memory mode는 FN tunneling, high-speed 1T-DRAM mode에서는 impact ionization을 이용하여 쓰기/소거 작업을 실시하였다. NVM 모드의 경우 약 2V의 memory window를 확보할 수 있었으며 $85^{\circ}C$에서의 retention 측정시에도 10년 후 약 0.9V의 memory window를 확보할 수 있었다. 1T-DRAM 모드의 경우에는 약 $30{\mu}s$의 retention과 $5{\mu}A$의 sensing margin을 확보할 수 있었다. 차후 engineered tunnel barrier기술이나 엑시머레이저를 이용한 결정화 방법을 적용한다면 device의 특성향상을 기대할 수 있을 것이다. 본 논문에서는 다결정실리콘을 이용한 다기능메모리를 제작 및 메모리 특성을 평가하였다. 제작된 소자의 단일 셀 내에서 NVM동작과 1T-DRAM동작이 모두 가능한 것을 확인할 수 있었다. 다결정실리콘의 특성상 단결정 SOI기반의 다기능 메모리에 비해 낮은 특성을 보여주었으나 이는 결정화방법, high-k절연막 적용 및 engineered tunnel barrier를 적용함으로써 해결 가능하다고 생각된다. 또한 sputter를 이용하여 저온증착된 O/N/O layer에서의 P/E특성을 확인함으로써 glass위에서의 MFM구현의 가능성도 확인할 수 있었으며, 차후 system on panel (SOP)적용도 가능할 것이라고 생각된다.

• 한국표면공학회지
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• 제32권3호
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• pp.239-243
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• 1999

At Present, 200mm wafer technology is being applied for commercial fabrications of 64, 128, and 256 M DRAM devices, and 300mm technology will be evolved for 1G DRAM devices in the early 21th century, recognizing limitations of several process technologies. In particular recognition has been realized in harmful effects of surface contamination of trace metals introduced during devicing processes. Such a guide line for surface metal contamination has been proposed as 1E9 and 1E10 atoms/$\textrm{cm}^2$ of individual metal contamination for wafering and devicing of 1G DRAM, respectively, and so its measurement limit should be at least 1E8 atoms/$\textrm{cm}^2$. The detection limit of present measurement systems is 2E9 atoms/$\textrm{cm}^2$ obtainable with TRXFA(Total Reflection X-Ray Fluorescence Analysis). TRXFA is nondestructive and the simplest in terms of operation, and it maps the whole wafer surfaces but needs detection improvement. X-Ray intensity produced with synchrotron accelerator is much higher than that of conventional X-ray sources by order of 4-5 magnitudes. Hence theoretically its reactivity with silicon surfaces is expected to be much higher than the conventional one, realizing improvement of detection limit. X-ray produced with synchrotron accelerator is illuminated at a very low angle with silicon wafer surfaces such as 0.1 degree and reflects totally. Hence informations only from surface can be collected and utilized without overlapping with bulk informations. This study shows the total reflection phenomenon and quantitative improvement of detection limit for metallic contamination. It is confirmed that synchrotron X-ray can be a very promising alternative for realizing improvement of detection limit for the next generation devices.

• 통상정보연구
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• 제9권1호
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• pp.451-465
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• 2007

It is true that every country which includes the developing country has planned own economic development through government subsidies. Korea also has developed their some major industry through supporting government subsidies. Under the WTO structure, however, government's specific supports for export firms come under prohibited subsidy and subsidy supporting must be based on WTO ASCM(Agreement on Subsidies and Countervailing Measures). The purpose of this paper was to study on the WTO ASCM and to analyze cases on the shipbuilding and Hynix DRAM dispute which Korean concerned major subsidy issue. Korea has been undergoing subsidy dispute with EU and U.S.A. concerned matter of shipbuilding and Hynix DRAM respectively. From this research results were as follow : First of all, the WTO ASCM introduced a definition of subsidy and divided subsidies into three categories and was legally bound through dispute settlement mechanism and implemented by all WTO members. Also, through analyzing cases, results were indicated that Korea wins a lawsuit against the matter of shipbuilding subsidy whereas losing the lawsuit against the matter of DRAM subsidy. It means that the case of shipbuilding subsidy do not violation WTO ASCM and the case of Hynix DARAM is against WTO ASCM. Additionally, as we see the dispute cases concerned Korean industry, it is necessary that government should operate subsidies which were provided for certain governmental policy as consisted with WTO ASCM.

• JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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• 제6권1호
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• pp.30-37
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• 2006

In this article, we evaluated the structural merits and the validity of a partially insulated MOSFET (PiFET) through the fabrication of prototype transistors and an 80 nm 512M DDR DRAM with partially-insulated cell array transistors (PiCATs). The PiFETs showed the outstanding short channel effect immunity and off-current characteristics over the conventional MOSFET, resulting from self-induced halo region, self-limiting SID shallow junction, and reduced junction area due to PiOX layer formation. The DRAM with PiCATs also showed excellent data retention time. Thus, the PiFET can be a promising alternative for ultimate scaling of planar MOSFET.

• JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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• 제4권1호
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• pp.45-51
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• 2004

We have proposed a new shallow trench isolation (STI) process using flowable oxide (F-oxide) chemical vapor deposition (CVD) for DRAM application and it was successfully developed. The combination of F-oxide CVD and HDP CVD is thought to be the superior STI gap-filling process for next generation DRAM fabrication because F-oxide not only improves STI gap-filling capability, but also the reduced local stress by F-oxide in narrow trenches leads to decrease in junction leakage and gate induced drain leakage (GIDL) current. Finally, this process increased data retention time of DRAM compared to HDP STI. However, a serious failure occurred by symphonizing its structural dependency of deposited thickness with poor resistance against HF chemicals. It could be suppressed by reducing the flow time during F-oxide deposition. It was investigated collectively in terms of device yield. In conclusion, the combination of F-oxide and HDP oxide is the very promising technology for STI gap filling process of sub-100nm DRAM technology.

• JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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• 제1권2호
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• pp.116-124
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• 2001

We implemented POPeye (Probe of Performance ＋ eye), a system analysis simulator to evaluate DRAM performance in a personal computer environment. When running any real-life application programs such as Microsoft Office and Paint Shop Pro on Windows OS, POPeye simulates detailed transactions between a CPU and a memory system. Using this tool, we comparatively analyzed the performance of a DDR-SDRAM, a D-RDRAM, and a DDR-FCRAM.

• 한국컴퓨터정보학회:학술대회논문집
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• 한국컴퓨터정보학회 2017년도 제55차 동계학술대회논문집 25권1호
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• pp.143-144
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• 2017

최근 그래픽 처리 장치는 DRAM에 대한 접근을 줄이고자 여러 메모리 계층을 사용하고 있다. GPGPU의 L2 캐쉬는 요청 데이터의 타입에 따라 별도로 접근하는 L1 메모리와 다르게 레이턴시가 긴 DRAM에 접근하기 전에 모든 데이터 타입이 접근 가능한 캐쉬이다. 본 논문에서는 애플리케이션에서 명시하는 다양한 데이터 타입에 대하여 접근 및 적재를 허용하는 L2 캐쉬를 오직 텍스쳐 데이터만을 허용하도록 하여 변화하는 성능을 분석하고자 한다. 본 실험을 위해 텍스쳐 데이터 이외의 데이터 타입은 L2 캐쉬를 바이패스하여 바로 DRAM에 접근하도록 구조를 변경한다. 실험을 통한 분석 결과 텍스쳐 데이터만을 허용하는 경우 대부분의 벤치마크에서 성능 감소가 발생하여 기존 구조대비 평균 5.58% 감소율을 확인하였다. 반대로, 본 논문의 실험 환경에서의 L2 캐쉬의 적중률이 낮은 애플리케이션인 needle은 불필요한 L2 접근을 바이패스 함으로써 전체적인 성능 증가를 이끌어낸 것으로 분석된다.

• JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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• 제6권4호
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• pp.252-256
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• 2006

A low-power ECC check bit generator is presented with competent DRAM implementation with minimal speed loss, area overhead and power consumption. The ECC used in the proposed scheme is a variant form of the minimum weight column code. The spatial and temporal correlations of input data are analyzed and the input paths of the check bit generator are ordered for the on-line adaptable power savings up to 24.4% in the benchmarked cases. The chip size overhead is estimated to be under 0.3% for a 80nm 1Gb DRAM implementation.