• 제목/요약/키워드: D-GaIN

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Cascode 결합 마이크로파 자기발진 믹서의 최적변환이득을 위한 바이어스 조건 분석 (Analysis of Optimum Bias for Maximun Conversion Gain of Cascode Coupled Microwave Self-Oscillating-Mixer)

  • 이성주;이영철
    • 한국정보통신학회논문지
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    • 제7권3호
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    • pp.492-498
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    • 2003
  • 본 논문은 캐스코드결합에 의한 마이크로파 자기발진믹서를 설계하기 위하여 믹서가 최적 변환이득을 나타내는 바이어스 조건에 대해 분석하였다. 마이크로파 자기발진믹서는 두 개의 GaAs MESFET를 케스코드 결합시켰으며 상위 MESFET는 비교적 높은 Q값을 가지는 유전체공진기에 의해서 발진기로 동작시키고 아래쪽 FET는 저잡음 특성과 최적의 변환이득을 나타내는 믹서로서 동작시켰다. 분석결과 드레인 전압은 $V_{ds}=2.5V$이고 게이트바이어스 전압은 $V_{gs1}=-0.2V와 \;V_{g2}=0V$로 선정하였을 때 설계된 5.15Ghz의 발진기 출력은 5.92dBm, 위상잡음은 -132.0dBc@100KHz, 믹서의 변환손실은 약 -3dB를 나타내어 이론에 의한 자기발진믹서를 설계할 수 있음을 보였다.

선형성이 우수한 GaAs MESFET 저항성 혼합기 설계 (The Desing of GaAs MESFET Resistive Mixer with High Linearity)

  • 이상호;김준수;황충선;박익모;나극환;신철재
    • 한국전자파학회논문지
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    • 제10권2호
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    • pp.169-179
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    • 1999
  • 본 논문에서는 선형성이 우수한 MIC형태의 GaAs MESFET 저항성 혼합기를 설계하였다. 설계된 저항성 혼합기는 채널저항을 이용하기 위해 게이트단에만 바이어스 전압을 인가하였으며 LO 신호를 게이트단에 입 력시키고 드레인단에는 LO- RF간의 적절한 격리도를 얻기 위하여 삽입된 7 -jXlle hairpin 대역통과 여파기를 통하여 RF 신호를 가하여서 소오스단에서 단락회로와 저역통과 여파기를 통해 IF 신호를 얻는 것이다 .. LO 신호와 RF 신호에 대한 간략화된 등가회로를 추출하여 변환손실을 계산하였으며 하모닉 발란스 해석의 결과 와 비교하였다. 제작된 S-band 수신용 혼합기의 변환손실은 7 -jXlle hairpin 대역통과 여파기의 3.0-3.4 dB 정 도의 삽입손실을 고려하여 8.2 -10.5 dB로 얻을 수 있었고, 왜곡 특성에서 IP3in는 26.5 dBm의 선형적인 특 성을 Vg=-0.85~-1.0 V에서 얻을 수 있었다.

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$MgAl_{2}O_{4}$ 기판위에 GaN의 HVPE 성장조건에 따른 광루미네센스 특성 (Photoluminescence Properties of GaN on $MgAl_{2}O_{4}$ Substrate with HVPE Growth Conditions)

  • 김선태;이영주
    • 한국재료학회지
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    • 제8권8호
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    • pp.667-671
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    • 1998
  • 이 연구에서는 HVPE법으로 $MgAl_{2}O_{4}$ 기판 위에 GaN를 서로 다른 조건에서 성장시키고, 성장된 GaN의 PL특성을 조사하였다. $MgAl_{2}O_{4}$ 기판위에 성장된 GaN는 $MgAl_{2}O_{4}$ 기판으로부터 Mg의 out-diffusion에 의한 auto-doping 효과에 의하여 불순물이 첨가된 GaN의 PL 성질을 나타내었다. Mg과 관련된 발광 강도는 GaN의 성장온도가 증가함에 따라 GaN의 표면에서 Mg의 재증발에 의하여 감소하였으며, GaN의 두께에 대하여 지수 함수적으로 감소하였다. 두 개의 무한 고체 사이에서 농도 차에 의한 확산현상을 고려하여 구한 GaN 내에서 Mg 원자의 확산계수는 D= 2$\times$$lO^{-10}\textrm{cm}^2/sec. 이었다.

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Sulfur를 첨가한 $In_{1-x}Ga_xP$의 발광 다이오드 특성 (The characteristics of the sulfur-doped $In_{1-x}Ga_xP$ Light emitting diode)

  • 조명환;문동찬;김선태
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1988년도 추계학술대회 논문집 학회본부
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    • pp.168-171
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    • 1988
  • The p-n homo junction diode of the III-V ternary alloy semiconductor $In_{1-x}Ga_xP$ : S grown by the temperature gradient solution (TGS) was fabricated by Zn-diffusion, and it's characteristics was investigated. The carrier concentration of $In_{1-x}Ga_xP$ doped with sulfur, 0.5 mol %, was $1{\times}10^{17}cm^{-3}$ and the mobility was varied with the composition. In the case that the diffusion time was constant as 30 minutes. The temperature dependence of diffusion coefficient was decreased from D= $4.2{\times}10^{-5}$ exp (-1.74/$k_{B}T$) to D= $2.5{\times}10^{-5}$ exp (-3.272/$k_{B}T$) with increasing of composition $\times$ from 0.43 to 0.98. The major peak of E.L spectrum was due to D-A pair recombination and the peak intensity was increased with the increasing of input current. And the E.L intensity was decreased with the increasing temperature, and shift to the long wavelength. The luminescence efficiencies measured at $5^{\circ}C$, atmosphere temperature, was decreased from $2.6{\times}10^{-4}$% to $9.49{\times}10^{-6}$ % with increasing of composition it from 0.39, direct transition region, to 0.98, indirect transition region.

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P 변조도핑한 In(Ga)As/InGaAsP 양자점에 대한 운반자 동역학 (Carrier Dynamics of P-modulation Doped In(Ga)A/InGaAsP Quantum Dots)

  • 장유동;박재규;이동한;홍성의;오대곤
    • 한국진공학회지
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    • 제15권3호
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    • pp.301-307
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    • 2006
  • P-modulation doping된 In(Ga)As/InGaAsP 양자점에서의 decay time 특성을 undoped 양자점 시료와의 비교를 통해 살펴보았다. 10 K 에서의 photoluminescence (PL) 세기는 doping 된 양자점이 doping되지 않은 양자점에 비해 약 10배 정도 약하게 나왔다. 또한 Time resolved PL (TR-PL) 실험을 통해 얻은 양자점 시료의 기저상태 PL peak 에서의 decay time은 doping된 양자점이 doping 되지 않은 양자점에 비해 매우 짧게 나왔다. 이러한 PL 세기와 decay time 특성을 통해서 본 연구에서 측정한 doping 된 양자점의 경우에는 doping에 의해 결함이 증가하게 되고, 그로 인해 운반자의 비발광 경로가 증가하게 되어 doping 된 양자점의 경우에 decay time이 짧게 나타나는 것으로 분석하였다.

직류전위차법을 이용한 점용접부의 피로수명 평가 (Fatigue Life Evaluation of Spot Weldment Using DCPDM)

  • 유효선;이송인;권일현;안병국
    • Journal of Welding and Joining
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    • 제19권1호
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    • pp.58-64
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    • 2001
  • The initiation and propagation lives of fatigue crack were studied for spot weldments composed of cold rolled steel plates(SPC$\times$SPC) and galvanized steel plates(GA$\times$GA) using DC potential drop method(DCPDM). Through the various test results, it was known that the fatigue crack initiation and propagation behaviors in all specimens could be definitely detected by DCPDM. The fatigue crack initiation life( $N_{i}$) detected by DCPDM in SPC$\times$SPC and GA$\times$GA spot weldments increased as the welding current and the nugget diameter( $N_{d}$) increased. The fatigue crack propagation life($\Delta$ $N_{f-i}$) declined as the difference of $N_{i}$ and the fatigue fracture life( $N_{f}$) also increased according to the decrease of fatigue load, $\Delta$P and the increase of nugget diameter. In the same spot weldments, the increase of nugget diameter came to increase fatigue crack propagation life owing to a decrease of stress concentration in front of nugget, especially the increasing extent for GA$\times$GA spot weldment was very high. In the welding current 6kA, $N_{f}$ for GA$\times$GA spot weldment decreased more than that of SPC$\times$SPC specimen due to zinc layer coated in steel plate and undersized nugget diameter. On the other hand, in 8kA and 10kA, the GA$\times$GA spot weldment showed higher $N_{f}$ in spite of lower $N_{i}$, than that of SPC$\times$SPC specimen except 3,000N fatigue load.ue load. load.d.

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The Characteristics of GaN by MBE with InxGa1-xN buffer layer

  • 윤재성;박승호;이창명;정운형;양석진;강태원;;김득영
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 1999년도 제17회 학술발표회 논문개요집
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    • pp.119-119
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    • 1999
  • GaN-based 물질들은 blue와 UV 영역의 LED, LD와 같은 광소자가 상용화되었을 뿐만아니라 HBT, FET와 같은 전기소자로도 널리 응용될 시점이지만 아직까지 해결되지 않은 문제점들이 있다. 그 중에 하나가 바로 GaN의 격자상수와 일치하는 기판이 없어 발생하는 dislocation인데, 이를 해결하기 위한 방법으로 새로운 기판이나, buffer, 또는 새로운 성장방법(ELOG) 등을 시도하고 있으나 dislocation density는 아직 높은 (107~1010cm-2) 상태이다. 이에 본 연구에서는 dislocation을 줄이기 위한 방책으로 InxGa1-xN를 새로운 buffer층으로 사용하여 GaN 박막을 MBE 방법으로 성장하였다. InxGa1-xN를 선택한 이유는 GaN와의 격자상수차이가 In0.12Ga0.88N일 경우 거의 일치한다는 보고가 있으며, 특히 InGaN의 melting point는 GaN의 성장온도 보다는 약간 높기 때문에 GaN 박막을 성장할 때와 식힐 때의 InGaN 원자결합은 약하게 작용되며, 결국 이는 열적인 stress를 줄여주게 된다. 이와 같이 성장된 GaN 박막은 그 결정성을 XRD로 분석하였고, 표면과 계면을 SEM으로 관찰하였다. 그리고 그 광학적 특성을 저온 PL로서 조사하였다. 그 결과를 살펴보면 35$^{\circ}$ 근방에서 GaN(0002) peak가 나온 것으로 보아 wurtzite 구조가 성장됨을 XRD로부터 확인하였다. 그리고 저온 (12K) PL에서는 3.470eV의 D$^{\circ}$X peak뿐만 아니라 3.258eV에 해당하는 peak를 얻었는데, 이는 InxGa1-xN buffer layer의 vapour pressure가 높은 (<50$0^{\circ}C$)에 도달하게 됨으로써 dissociation이 일어나면서 초기 성장이 이루어졌고 이는 다시 계면에서의 inter-diffusion을 발생시킨 것으로 보여진다.

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UV Enhanced NO2 Sensing Properties of Pt Functionalized Ga2O3 Nanorods

  • An, Soyeon;Park, Sunghoon;Mun, Youngho;Lee, Chongmu
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제34권6호
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    • pp.1632-1636
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    • 2013
  • $Ga_2O_3$ one-dimensional (1D) nanostructures were synthesized by using a thermal evaporation technique. The morphology, crystal structure, and sensing properties of the $Ga_2O_3$ nanostructures functionalized with Pt to $NO_2$ gas at room temperature under UV irradiation were examined. The diameters of the 1D nanostructures ranged from a few tens to a few hundreds of nanometers and the lengths ranged up to a few hundreds of micrometers. Pt nanoparticles with diameters of a few tens of nanometers were distributed around a $Ga_2O_3$ nanorod. The responses of the nanorods gas sensors fabricated from multiple networked $Ga_2O_3$ nanorods were improved 3-4 fold at $NO_2$ concentrations ranging from 1 to 5 ppm by Pt functionalization. The Pt-functionalized $Ga_2O_3$ nanorod gas sensors showed a remarkably enhanced response at room temperature under ultraviolet (UV) light illumination. In addition, the mechanisms via which the gas sensing properties of $Ga_2O_3$ nanorods are enhanced by Pt functionalization and UV irradiation are discussed.

GaN HEMT Die를 이용한 Ku-대역 전력 증폭기 설계 및 제작 (Design and Fabrication of Ku-Band Power Amplifier Using GaN HEMT Die)

  • 김상훈;김보기;최진주;정병구;태현식
    • 한국전자파학회논문지
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    • 제25권6호
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    • pp.646-652
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    • 2014
  • 본 논문은 GaN(Gallium Nitride) HEMT(High Electron Mobility Transistor) die를 이용하여 Ku-대역 전력 증폭기 설계, 제작 그리고 실험 결과에 대해 기술하였다. 저비용으로 Ku-대역 전력 증폭기를 설계하기 위하여 고가의 알루미나 회로 기판 제작 대신 PCB(Printed Circuit Board)를 이용하여 입/출력단 정합 회로를 이용하였다. 측정 결과로는 펄스 모드로 동작시켰을 때 14.8 GHz에서 42.6 dBm의 출력 전력, 37.7 % 드레인 효율 그리고 7.9 dB의 선형 이득을 얻었다. CW(Continuous Wave) 실험 결과로는 39.8 dBm의 출력 전력, 24.1 %의 드레인 효율 그리고 7.2 dB의 선형 이득을 얻을 수 있었다.

GaAs/AlAs/InGaAs 에피층의 고분해능 TEM 이미지 전산모사 (Computer Simulations of HRTEM Images in GaAs/AlAs/InGaAs Epilayers)

  • 이확주;류현;이재덕;남산
    • Applied Microscopy
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    • 제26권4호
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    • pp.479-487
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    • 1996
  • Thin epilayer structures of GaAs/AlAs/InGaAs, grown by Molecular Beam Epitaxy, were investigated by high resolution transmission electron microscopy, Image in the [110] zone axis was taken and compared with the calculated images. The supercell structure which contains GaAs, AlAs and InGaAs layers was designed and was employed in the image calculation with MacTempas computer program. Good agreement was shown between experimental image and a set of calculated images with varying defocus and sample thickness.

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