한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
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pp.1640-1644
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2006
The first issue that should be overcome in copper process is its poor adhesive strength between pure copper film and glass substrate. In this study, defining the adhesive strength of pure copper film on various substrates and clarifying the key deposition parameters are presented for the investigation of copper process. First, using different kinds of surface plasma treatments were studied and the results showed that the adhesive strength was not improved even though the roughness of glass substrate surface was increased. Second, adding an adhesive layer between glass substrate and pure copper film was used to enhance the adhesion. Based on the data in the present paper, adopting copper alloy film as an adhesive layer can have capability preventing peeling problem in copper process. Besides, Cu/Cu alloy structure could be etched with the same etchant with better taper angle than the one with single layer of Cu. Unlike Cu/Mo structure, there is no residual problem for Cu/Cu alloy structure during etching process. Finally, this structure was examined in electrical test without significant difference in comparison with the conventional metal process.
Direct copper electroplating on Mg alloy AZ31B was carried out in a traditional pyrophosphate copper bath containing potassium fluoride. Electrochemical impedance spectroscopy and polarization methods were used to study the effects of added potassium fluoride on electrochemical behavior. The chemical state of magnesium alloy in the electroplating bath was analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy. Adhesion of the copper electroplated layer was also tested. Due to the added potassium fluoride, a magnesium fluoride film was formed in the pyrophosphate copper bath. This fluoride film inhibits dissolution of Mg alloy and enables to electroplate copper directly on it. A dense copper layer was formed on the Mg alloy. Moreover, this copper layer has a good adhesion with Mg alloy substrate.
Amino-carboxyl acid as a complexing agent in acid copper sulfate solution was utilized to improve the adhesion of immersion copper layer for steel wire. According to the tape test results, regardless of alloy composition of the wire, the adhesion of immersion copper layer was improved with the addition of amino-carboxyl acid. The incorporation of H and Fe in the plating layer was analyzed by TOF-SIMS. The H and Fe were detected at the entire coating layer without any addition of amino-carboxyl acid. However, with addition of amino-carboxyl acid, the H and Fe were scarcely detected at the coating layer.
We report the electrical properties of organic light emitting diodes (OLEDs) depending on the crystal structure of hole injection layer of copper(II)-phthalocyanine(CuPc) and the light irradiation the carrier mobility of copper(II)-phthalocyanine(CuPc) of light source. OLEDs were constructed with indium tin oxide(ITO)/CuPc/triphenyl-diamin(TPD)/tris-(8-hydroxyquinoline)aluminum(Alq$_3$)/Al.Photocurrent multiplication of OLEDs was varied by the heat-treatment condition of CuPc thin film and the light irradiation.
Electrochemical etching is a popular process to apply metal patterning in various industries. In this study, the electrochemical etching using a patterned copper layer was proposed to fabricate multilayered structures. The process consists of electrodeposition, laser patterning, and electrochemical etching, and a repetition of this process enables the production of multilayered structures. In the fabrication of a multilayered structure, an etch factor that reflects the etched depth and pattern size should be considered. Hence, the etch factor in the electrochemical etching process using the copper layer was calculated. After the repetition process of electrochemical etching using copper layers, the surface characteristics of the workpiece were analyzed by EDS analysis and surface profilometer. As a result, multilayered structures with various shapes were successfully fabricated via electrochemical etching using copper layers.
The properties of ZrN layer deposited by Sputtering system have been investigated in the application of diffusion barrier layer to copper. ZrN layer exhibited a excellent barrier property up to $700^{\circ}$ and higher resistivity. If an excess $O_2$is protected during the process of ZrN deposition, ZrN layer will be possible to use a diffusion barrier layer to copper.
본 연구는 금속 캐리어 소재상에 화학 동도금(Chemical Copper)으로 형성된 극박 동박 표면 및 석출막의 특성을 평가하기 위하여 다양한 진공 분석장비들을 활용하여 평가한 결과이다. 연구에 사용된 극박 동박은 현재 캐리어박 선점률이 높은 M, J, Y사의 제품이다. 최상층 구리 표면에서 조직, 조성, 표면조도를 평가하였고, 계면 평가에서는 copper layer 및 nodule layer, adhesion layer, anti-corrosion layer, release layer, substrate에서의 물성 및 특성 정밀평가 결과 각 특성치 및 구조는 Cr, Zn, Ni, Co, Cr계 thermal anti layer임의 확인이 가능하였다.
우수한 성능의 2층 연성동박적층판(이하 FCCL)을 제조하기 위해서는 동박과 폴리이미드 사이에서 높은 접착력이 요구된다. 이를 위해 이종 재료로 인한 두 계면 사이의 접착력을 향상시키기 위해서는 일반적으로 기능성 실란커플링제가 사용된다. 본 연구에서는 압연동박과 폴리이미드 사이의 접착력 향상과 이미드화를 위한 고온의 열처리 조건에서도 안정한 새로운 형태의 실란커플링제를 합성하였다. 또한, 합성된 실란커플링제를 압연동박에 처리하였을 때, 표면처리제의 농도에 따른 표면변화를 관찰하였으며, 이로 인해 발생되는 접착력 변화를 확인하기 위해서 2층 FCCL을 제조하여 $90^{\circ}$ peel test를 통해 관찰하였다. 그리고, 두 종류의 폴리이미드를 이용한 FCCL에서 실란 커플링제가 접착력에 미치는 영향을 확인하였다.
As the performance of microelectronic devices is improved, the use of copper as a heat dissipation member is increasing due to its good thermal conductivity. The high thermal conductivity of copper, however, leads to difficulties in the joining process. Satisfactory bonding with copper is known to be difficult, especially if high shear and peel strengths are desired. The primary reason is that a copper oxide layer develops rapidly and is weakly attached to the base metal under typical conditions. Thus, when a clean copper substrate is bonded, the initial strength of the joint is high, but upon environmental exposure, an oxide layer may develop, which will reduce the durability of the joint. In this study, an epoxy adhesive formulation was investigated to improve the strength and reliability of a copper to copper joint. Epoxy hardeners such as anhydride, dihydrazide, and dicyandiamide and catalysts such as triphenylphosphine and imidazole were added to an epoxy resin mixture of DGEBA and DGEBF. Differential scanning calorimetry (DSC) analyses revealed that the curing temperatures were dependent on the type of hardener rather than on the catalyst, and higher heat of curing resulted in a higher Tg. The reliability of the copper joint against a high temperature and high humidity environment was found to be the lowest in the case of dihydrazide addition. This is attributed to its high water permeability, which led to the formation of a weak boundary layer of copper oxide. It was also found that dicyandiamide provided the highest initial joint strength and reliability while anhydride yielded intermediate performance between dicyandiamide and dihydrazide.
The horizontal continuous casting process with the heated mold was applied to obtain the unidirectionally solidified rods($4{\sim}8mm$ dia.) of pure copper with good surface quality. The results could be summarized as follows. 1. The unidirectional solidification of pure copper rods with good surface(mirror surface) quality could be obtained by placing the S/L interface inside the heated mold cavity even though the cast copper rods were covered with thin copper oxide layer. 2. The casting speed for 4mm dia. rods with mirror surfaces was affected significantly by the mold-cooler distance rather than the cooling flow rate when other casting conditions were fixed. 3. The casting speed was the main factor affecting the oxidation of copper during the continuous casting and the thickness of copper oxide layer decreased almost linearly as the casting speed increased.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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