$SiO_2/HfO_2$ 와 $Al_2O_3/HfO_2$ 를 이용한 Engineered Tunnel Barrier의 전기적 특성
(Electrical Characteristics of Engineered Tunnel Barrier using $SiO_2/HfO_2$ and $Al_2O_3/HfO_2$ stacks)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
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- pp.127-128
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- 2008