Currently small and accurate dosimeters are on the rise. In this study, the feasibility and energy dependency of the electret dosimeter that made of PET (polyethylene terephtalate) were observed by irradiating 4, 6, 15 MV photon beams from the clinical linear accelerator to develop a dosimeter for the clinical field. $10{\times}10cm$ field size of the photon beams were irradiated to the electret dosimeter where the 2.5 cm depth in the polystylene phantom from 100 cm SSD, while 300 DCV was applied to the electret dosimeter. The result showed that the absorbed dose was proportional to the charge linearly, and the volume of a dosimeter could be reduced and the signals were high enough. According to this study, it was found that the polymer electret detector could be produced as a large quantity with a small cost and showed the feasibility of a realtime measurement.
Kim, In Jung;Kim, Byoung Chul;Kim, Joong Hyun;Chung, Jae-Pil;Kim, Hyun Moon;Yi, Chul-Young
Nuclear Engineering and Technology
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제49권4호
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pp.810-816
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2017
A graphite calorimetry system was built and tested under irradiation. The noise level of the temperature measurement system was approximately 0.08 mK (peak to peak). The temperature of the core part rose by approximately 8.6 mK at 800 MU (monitor unit) for 6-MV X-ray beams, and it increased as X-ray energy increased. The temperature rise showed less spread when it was normalized to the accumulated charge, as measured by an external monitoring chamber. The radiation energy absorbed by the core part was determined to have values of $0.798J/{\mu}C$, $0.389J/{\mu}C$, and $0.352J/{\mu}C$ at 6 MV, 10 MV, and 18 MV, respectively. These values were so consistent among repeated runs that their coefficient of variance was less than 0.15%.
$Y_2SiO_5$:Ce was considered as blue phosphor for field emission display because it had an excellent resistance against brightness saturation. But unfortunately It hadn't a sufficient brightness to be applied to FED. In this experiment It-$In_2O_3$, MgO and $SiO_2$ were coated onto $Y_2SiO_5$:Ce phosphor in order to improve the cathodoluminance(CL properties. The coating structures were identified to be the crystalline phases of $In_2O_3$ and MgO respectively. They had fine particle-like shape and were distributed on the surface of $Y_2SiO_5$:Ce phosphor. It was found that the CL efficiency of $Y_2SiO_5$:Ce phosphors were decreased after coatings with In20:j and MgO in voltage range from 500 V to 5 kV. But the brightness of $Y_2SiO_5$:Ce phosphor was increased after coating of 5 0 2 . And also the aging test showed that $In_2O_3$ coating improved the life time of $Y_2SiO_5$:Ce phosphor.
pMOSFET having 10 ${\mu}um$ thickness Gd layer has been tested to be used as a slow neutron sensor. The total thermal neutron cross section for the Gd is 47,000 barns and the cross section value drops rapidly with increasing neutron energy. When slow neutrons are incident to the Gd layer, the conversion electrons are emitted by the neutron absorption process. The conversion electrons generate electron-hole pairs in the $SiO_2$ layer of the pMOSFET. The holes are easily trapped in Oxide and act as positive charge centers in the $SiO_2$ layer. Due to the induced positive charges, the threshold turn-on voltage of the pMOSFET is changed. We have found that the voltage change is proportional to the accumulated slow neutron dose, therefore the pMOSFET having a Gd nuclear reaction layer can be used for a slow neutron dosimeter. The Gd-pMOSFET were tested at HANARO neutron beam port and $^{60}CO$ irradiation facility to investigate slow neutron response and gamma response respectively. Also the pMOSFET without Gd layer were tested at same conditions to compare the characteristics to the Gd-pMOSFET. From the result, we have concluded that the Gd-pMOSFET is very sensitive to the slow neutron and can be used as a slow neutron dosimeter. It can also be used in a mixed radiation field by subtracting the voltage change value of a pMOSFET without Gd from the value of the Gd-pMOSFET.
This paper deals with a crucial mechanism for interaction of basic drugs and cardiac glycosides at the hepatic uptake level. Available literature data is provided and new material is presented to picture the differential transport inhibition of bulky (type2) cationic drugs by a number of cardiac glycosides in rat liver. It is shown that the so called organic anion transporting peptide 2 (oatp2) is the likely interaction site: differential inhibition patterns as observed in oocytes expressing oatp2, could be clearly identified also in isolated rat hepatocytes, isolated perfused rat liver and the rat in vivo. The anticipation of transport interactions at the hepatic clearance level should be based on data on the relative affinities of interacting substrates for the transport systems involved along with knowledge on the pharmacokinetics of these agents as well as the chosen dose regimen in the studied species. This review highlights the importance of multispecific tranporter systems such as OATP, accommodating a broad spectrum of organic compounds of various charge, implying potential transport interactions that can affect body distribution and organ clearance.
Gachiljang(假漆匠), along with Jinchiljang(眞漆匠), is an important craftsman who cannot be left out during the finishing process of wooden furniture and wooden buildings during the Joseon Dynasty. The current definition of Gachiljang does not properly explain the nature and role of Gachiljang. In many related terminology dictionaries, Gachiljang is defined as "artisan who dose the base paintwork of Dancheong." But an analysis of the Joseon Dynasty's Uigwe(儀軌) shows that Gachiljang appears frequently in works that are not related to Dancheong at all. Therefore the current definition seems to be inaccurate and need to be revised. Gachiljang is a name that contrasts with Jinchiljang, and he makes and paints Myongyu(明油). Just as Jinchiljang uses not only lacquer but also various pigments to paint colorful lacquer, Gachiljang also uses various pigments to decorate buildings or furniture in a fancy way and then finishs with a transparent paint. Even in the Dancheong(丹靑) work of the building, all the base painting and finish coating work will be in charge of Gachiljang, except for the paintings performed by the Whawon(畫員) or the Whasa(畫師).
일렉트릿 (electret) 의 특성을 갖고 있는 Teflon-FEP 와 PET 필름의 유전체 양변에 크롬을 증착시켜 전극을 만들고 코발트-60 감마선을 찍어 이 두 유전체의 물리적 특성변화를 조사하였다. 선량률 25.0 cGy/min에서 방사선 조사하기 시작하여 2초이내에서 전류가 급격히 증가해 최대값에 이른후, 60초 이후에선 거의 안정값에 이르는 특성을 보였다. 방사선 조사동안 Teflon의 경우 유전 상수는 2.15에서 18.0으로, 전기전도도는 1$\times$$10^{-17}$ 에서 1.57$\times$$10^{-13}$$\Omega$$^{-l}$$cm^{-1}$ /으로 증가했고, PET는 유전상수는 3에서 18.3으로, 전기전도도는 $10^{-17}$ 에서 1.65$\times$$10^{-13}$$\Omega$$^{-1}$$cm^{-1}$ /값으로 변하였다. 분당선량률을 변화시켰을때 (4.0 cGy/min, 8.5 cGy/min, 15.6 cGy/min, 19.3 cGy/min) 정상상태 방사선 유도전류(Ic), 유전율($\varepsilon$), 전기전도도 ($\sigma$) 가 선량률에 따라 증가함을 보였다. 정상상태방사선유도전류(Ic)값은 12시간내에선 1%내의 재현성을 보였고, 1주일간에선 3%내에서 일치하였다. 전하 및 전류값이 측정간격 (방사선 조사후 다음 조사때까지의 시간)에 의존성을 보였으며, 측정간격이 작을수록 초기측정값과 후측정값의 차가 크며, 최소 20분이상 간격을 둘 때 후측정값이 초기측정값과 같아졌다. 25.0 cGy/min. 선량률에서 유전체가 20분동안 전하를 유지하는 일펙트릿 성질을 갖고 있음을 보였다. 위 실험결과들은 2차전자에 의한 자유전자와 정공의 발생 및 이로 인한 내부편극과 전도도의 변화, 재결합등으로 인한 전자평형상태에 의한 것으로 볼 수 있다. 방사선조사직후 시료에 열을 가한 후 다시 조사하면 측정값이 상승하는 현상을 보였다. 이는 열을 가함으로 내부편극이 감소되었고 이로인해 다음 방사선 조사시 전하운반자(charge carriers)의 숫자를 높이는데 기여했음을 알 수 있다. 인가전압 및 흡수선량에 따른 선형성 및 재현성과 다른 전리함에 비해 적은 부피로 큰 전하량을 측정하는 것은 미세전류검출기로서의 사용가능성과 검출기의 부피를 크게 줄일수 있는 가능성을 보여준다.
실리콘 기판에 질소를 이온주입한 다음에 게이트 산화막을 2nm, 3nm, 4nm 두께로 성장시켰다. 질소이온주입 에너지는 25keV로 고정하였고 이온주입량은 5.0×10/sup l3//cm/sup 2/과1.0×10/sup 14//cm/sup 2/으로 나누어서 진행하였다. 질소이온주입량과 산화막의 성장률은 밀접한 관계가 있으며 질소이온주입량이 많아지면 산화막의 성장시간이 늘어난다. 같은 두께를 기르는데 필요한 산화시간을 질소이온주입을 하지 않은 경우와 비교하면 질소이온 주입량이 5.0×10/sup 13//cm/sup 2/ 일 때는 약 20%, 1.0×10/sup 14//cm/sup 2/일 때는 약 50% 정도 산화시간이 증가한다. 질소이온 주입량이 증가함에 따라 Q/sub BD/값은 감소하는데 이의 개선을 위해 질소이온주입후에 N/sub 2/분위기에서 850℃ 60분간 열처리를 한 다음 산화막을 성장시키면 Q/sub BD/값이 증가하여 개선됨을 보인다. 이것은 질소이온주입으로 인한 손상이 게이트 산화막의 신뢰성에 나쁜 영향을 미치지만 이온주입직후에 적절한 열처리 공정을 거치면 이러한 손상으로 인한 영향을 없앨 수 있다는 것을 의미한다.
X-ray용 CMOS 영상 센서의 대조 해상도는 신호처리부 첫 단의 sample-and-hold 회로에서 단일 MOS 스위치를 사용하거나 이를 개선한 bootstrapped clock circuit을 스위치로 사용할 경우에도 높은 신호에서 제한되는 문제를 가지고 있다. Bootstrapped clock circuit을 이용하는 sample-and-hold 회로가 charge injection 현상으로 인해 sample 신호의 왜곡을 일으키기 때문이다. 본 논문에서는 계산을 통해 필요로 하는 범위의 L(Inductor)값 구현을 위해 표준 CMOS 공정에서 구현 가능한 micro-inductor를 3차원 구조로 설계하였고, 이를 이용하여 센서의 대조 해상도 혹은 ENOB(Effective number of bit)값이 향상된 sample-and-hold 회로를 제안하였다. 0.35 um CMOS 공정에서 BCC를 이용해 설계된 sample-and-hold 회로에 최적화된 L 값을 갖는 micro-inductor를 추가하여 ENOB가 17.64 bit에서 18.34 bit로 약 0.7 bit의 해상도 상승을 시뮬레이션으로 검증하였다. 제안된 micro-inductor 방법은 고해상도를 필요로 하는 mammography의 경우 환자가 받는 방사선량을 줄이는 효과가 있을 것으로 기대한다.
양성자 주입과 웨이퍼접합기술을 접목한 ion-cut기술로서 SOI 웨이퍼를 제조하는 기술을 개발하였다. SRIM 전산모사에 의하면 일반 SOI 웨이퍼 (200nm SOI, 400nm BOX) 제조에는 65keV의 양성자주입이 요구된다. 웨이퍼분리를 위한 최적 공정조건을 얻기 위해 조사선량과 열처리조건(온도 및 시간)에 따른 blistering 및 flaking 등의 표면변화를 조사하였다. 실험결과 유효선량범위는 $6\~9times10^{16}H^+/cm^2$이며, 최적 아닐링조건은 $550^{\circ}C$에서 30분 정도로 나타났다. RCA 세정법으로서 친수성표면을 형성하여 웨이퍼 직접접합을 수행하였으며, IR 조사에 의해 무결함접합을 확인하였다 웨이퍼 분리는 예비실험에서 정해진 최적조건에서 이루어졌으며, SOI층의 안정화를 위해 고온열처리($1,100^{\circ}C,\;60$분)를 시행하였다. TEM 측정상 SOI 구조결함은 발견되지 않았으며, BOX(buried oxide)층 상부계면상의 포획전하밀도는 열산화막 계면의 낮은 밀도를 유지함을 확인하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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