Porous $Al_2O_3$ film can be utilized as template for fabrication of nano-structured materials. Porous anodic alumina layer as template was prepared by anodization of aluminum in oxalic acid, and the pore diameter and barrier-type alumina layer can be controlled for proper anodizing parameter by widening process in $H_3PO_4$ solution. The $SiO_2$ nanodot and Ni nanowire was fabricated using anodic alumina template and their characteristics were investigated using SEM and TEM with EDS. Especially the growth mechanism of $SiO_2$ nanodot in alumina membrane compared with thinning of the alumina barrier layer during anodization was also investigated.
본 논문은 알루미늄의 양극산화를 통하여 알루미나(Alumina, $Al_2O_3$)를 형성함으로써 알루미나 및 알루미늄의 적층 구조 DRAM 패키지 기판을 구현하였다. 전송선 기반의 설계를 적용하기 위해 2차원 전자장 시뮬레이션을 수행하였다. 분석 결과를 바탕으로 새로운 기판에 적용할 신호선의 폭 및 간격과 알루미나 두께 등의 설계인자를 최적화하였다. 테스트 패턴 제작 및 측정을 통해 설계인자를 검증하였으며, 이를 바탕으로 설계 룰(Design rule)을 정하고 패키지의 개념 설계 및 상세 설계를 진행하여 DDR2 DRAM 패키지 기판을 성공적으로 제작하였다.
An alumina membrane with nano-sized pores was fabricated by anodic oxidation. The shape and structure of the pore on alumina membrane were changed according to the roughness of aluminum surface. The shape and structure of the nano-sized pre were investigated according to purity of aluminum substrate for the anodization process. The aluminum substrates with 99.5% and 99.999% purities were used. The aluminum substrate(99.5%) was anodized after the processes of pressing, mechanical polishing, chemical polishing, and electrochemical polishing. The nano-sized pores with the pore size of 50 - 100nm, the cell size of 20-50nm and the thickness of $10{\mu}m{\sim}45{\mu}m$ were obtained. Even though the electrochemical polishing was used for the aluminum substrate (99.999%), the same characteristics as the aluminum substrate (99.5%) was obtained. The alumina membrane prepared by anodization for 5 min using fixed voltage method shows the pore with irregular shape. The pore shape was changed to regular shape after pore widening process.
Studying the long-range ordering of nanopores on the anodic aluminum oxide (AAO) membranes under a hard anodization (HA) approach is crucial in producing well-aligned nanopores on the AAO membranes. Electro-polishing in a mixture of ethanol and perchloric acid for 5 min removed marks formed by rolling and produced flat surfaces on aluminum substrates. The AAO was formed by the first HA process, providing seeds for the subsequent production of uniform AAO nanopores. The second HA process carried out on the seeds produced well-aligned, uniform AAO nanopores. The AAO nanopores, varying in size and shape, were observed with voltages applied for HA. This study provides a route for controlling the size and shape of AAO nanopores by changing the applied voltages.
Aluminum 1000 series alloy, a pure aluminum with excellent workability and weldability, is mainly used in the ship field. Aluminum alloy can combine with oxygen in the atmosphere and form a natural oxide film with high corrosion resistance. However, its corrosion resistance and durability are decreased when it is exposed to a harsh environment for a long period of time. For solving this problem, a porous oxide film can be formed on the surface using an anodizing treatment method, a typical surface technique among various methods. In this study, aluminum 1050 alloy was anodized for 2 minutes, 6 minutes, and 10 minutes. The structure and shape of the oxide film were then analyzed to determine the corrosion resistance according to the thickness of the oxide film that changed depending on working condition using 15 wt% NaCl. After it was immersed in NaCl solution for 1, 5, and 10 days, corrosion damage was observed. Results confirmed that the thickness of the oxide film increased as the anodization time became longer. The depth of surface damage due to corrosion became deeper when the film was immersed in the 15 wt% NaCl solution for a longer period of time.
Since the development of anodic aluminum oxide (AAO), extensive studies have been conducted ranging from fundamental research to the applications of AAO. Most of the research on AAO structures have focused on well-aligned nanoporous structures fabricated under specific conditions. This study investigated fabricable AAO structures with anodization performed with various temperatures, electrical potentials, and basal plane surfaces. As a result, nanoporous and nanofibrous structures were fabricated. The nanopores were formed at a relatively lower temperature and potential, and the nanofibers were formed at a relatively higher temperature and potential regardless of the basal plane surface. The shape of the base surface was found to influence the structural arrangement in nanoporous morphologies. These interesting findings relating to new morphologies have the potential to broaden the possible applications of AAO materials.
As the size of manufacturing equipment for LCD and OLED displays increases, replacement of existing heavy stainless steel components with light metals, such as aluminum alloys, is being more important in semiconducting and display manufacturing industries. To use aluminum alloys for components in semiconducting and display industries, it is important to develop a new anodization method for improved performance of anodic oxide films than conventional anodization method based on sulfuric acid. In this work, optimum applied current density and the best sealing methods for anodic oxide films in 3% oxalic acid were explored. Experimental results showed 2.5 A/dm2 is the best applied current density for improved hardness and dielectric breakdown voltage. Sealing of the anodic oxide films further improved their hardness, dielectric breakdown voltage and resistance to HCl, by which application of anodic oxide films become applicable for components in semiconducting and display industries.
In the fabrication of joined materials between anodized aluminum alloy and polymer, the performance of the metal-polymer joining is greatly influenced by the chemical properties of the oxide film. In a previous study, the dependence of physical joining strength on the thickness, structure, pore formation, and surface roughness of films formed on aluminum alloys is investigated. In this study, we investigated the effect of silane coupling treatment on the joining strength and sealing performance between aluminum alloy and polymer. After a two-step anodization process with additional treatment by silane, the oxide film with chemically modified nanostructure is strongly bonded to the polymer through physical and chemical reactions. More specifically, after the two-step anodization with silane treatment, the oxide film has a three-dimensional (3D) nanostructure and the silane components are present in combination with hydroxyl groups up to a depth of 150 nm. Accordingly, the joining strength between the polymer and aluminum alloy increases from 29 to 35 MPa, and the helium leak performance increases from 10-2-10-4 to 10-8-10-9 Pa ㎥ s-1.
The anodization of ADC12 aluminum alloy was investigated in the metal anionic acid media. Anodic oxide films containing foreign elements were formed on ADC12 Al alloy by anodization in the anion complex solution. Furthermore, the rough surface and cracks were considerably smoothened by the deposit of metal anions. When the size of metal anion was small, relatively large amount of metal anions was loaded in anodic films. Existence of $MoO_3$, $TiO_2$ and MgO was confirmed by XPS. According to the results of Tafel analysis, Mo oxide represented the most noble anti-corrosion potential due to $MoS_2$ formation. Corrosion current densities were generally higher than that of pristine anodic oxide without anion complexes.
Nanoporous anodic alumina membranes (NAAM) with high aspect ratio, self-ordered pore array were fabricated by high-field 2-step anodization method. High voltages of 80, 100, 120 and 140 V as well as 40 V for comparison were applied to an aluminum anode with respect to a Pt cathode immersed both in 0.3M oxalic acid solution in order to investigate the self-ordering characteristics of the nanoporous structure. The pore structures, including interpore distance, pore size, pore density, and porosity as well as the ordering characteristic were analyzed using field-enhanced scanning electron microscopy (FE-SEM) and the corresponding Fourier-transformed images. The nanoporous structure could be produced for all the voltage conditions, but the well-ordered through-hole pore without a branched structure seemed to occur only at 40 and 140 V. It turned out that the growth rate under 140 V high-field anodization was about 40 times higher than under conventional 40 V mild anodization, which enabled the fast fabrication of self-ordered, high aspect ratio NAAMs.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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