The formula of the diffraction patterns which were made by the grating with the variable periods were derived. The diffraction patterns which had the various data value of the variable periods were simulated by the IBM PC., and the characteristics of the patterns were discussed. The purposes of this study was to find the periods of the real grating and their degree of variation by using the results of the experiment.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2005.07a
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pp.514-515
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2005
본 논문에서는 As-Ge-Se-S 박막에 (P:P) 편광빔을 이용하여 회절격자를 형성시키고 비편광 (Non-Polarization) 빔을 이용하여 생성된 격자를 소거시키고 그에 따른 회절효율을 조사 하였다. (P:P) 편광으로 기록된 회절 효율은 시간이 지나도 최대 회절효율의 변화가 없었으나 비편광 빔으로 기록된 회절효율은 시간이 지남에 따라 급격한 회절효율의 감소를 보인다. 따라서 (P:P) 편광으로 회절격자를 형성시키고 비편광빔으로 격자의 소거를 진행하여 약 83%의 회절격자의 소거가 이루어졌다.
The phase-shifting diffraction-grating interferometer proposed in the investigation uses a diffraction grating that performs manifold functions of beam splitting, beam recombination, and phase shifting. The reference and measurement waves generated by means of diffraction have different amplitudes depending on their orders of diffraction, so the interference fringe pattern resulting from the two waves tends to yield poor visibility. To cope with this problem, we select a phase grating of reflection type and attempt to improve the interference visibility with optimization of the groove shape of the grating through electromagnetic analysis.
반도체 재료의 결정구조를 분석하기 위하여 사용되는 전자현미경의 전자선 회절패턴 형성에 대하여 연구하였다. 결정질 재료의 회절현상을 논의하기 위해 역격자이론에 대하여 간단히 살펴보고 X선과 전자선 회절패턴의 차이점 등을 고찰하였다. 파동역학에 기초한 회절물리학의 운동학 이론(kinematic theory)을 기본으로 하여 실리콘 결정에 대한 구조인자(structure factor) 및 형태인자(shape factor)를 계산하고 회절패턴으로부터 면지수를 결정하는 과정을 논의하였다. Basic program을 구성하여 전자현미경의 입력 data로부터 해당 회절패턴을 형성하도록 하였으며 이 결과는 실제의 패턴과 일치하였다. 이 program은 추후 전자현미경의 컴퓨터 시뮬레이션을 위하여 중요하게 이용될 수 있을 것으로 판단되었다.
In this review, the author discussed how the Fresnel and Fraunhoffer Diffraction can be deduced from the Huygens-Fresnel principle and Kirchhoff Diffraction Theory. Fresnel diffraction became the basic theory of the CTEM image theory, and Fraunhoffer diffraction became the base for electron diffraction and HRTEM image theory by Fourier transformation. The author also discussed the diffraction based on Born series.
The characteristics of diffraction gratings, fabricated using Slavich PFG-01 plates as a holographic recording material, were investigated using various bleach techniques. The changes in diffraction efficiencies, under given development conditions, resulting from the use of a new reversal bleach and a new fixation free rehalogenating bleach are investigated. From the experimental results, it was found that the diffraction efficiencies are influenced by the composition of the developer, the reversal bleach and the fixation free rehalogenating bleach. In this study, the highest values of the maximum diffraction efficiency was obtained when PFG-01 plates were developed in AAC developers contained with l-ascorbic acid 20 g/L and sodium carbonate 60 g/L, processed by a reversal bleach, as high as 89.0%. Moreover, the maximum diffraction efficiency of 82.1% was obtained when PFG-01 plates were processed by a fixation free rehalogenating bleach. In addition, higher diffraction efficiencies are yielded in the case of the revesal bleach than in the case of the fixation free rehalogenating bleach.
Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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2003.07a
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pp.148-149
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2003
렌즈와 거울의 형상을 정밀하게 측정하고 평가하는 광학시험에 많은 형태의 광간섭계가 개발되고 사용되어왔다. 그 중, 회절격자를 광선분할기로 사용하는 광간섭계들을 통칭하여 회절격자 간섭계라 부른다. 회절격자 간섭계는 별개의 광학표면을 사용하지 않고 회절격자에서 회절된 파면을 직접 기준파면으로 사용할 수 있으므로, 격자의 형태, 주기를 선정하여 기준파면과 측정파면을 원하는 방향으로 재생하여 다양한 형태의 간섭계를 만들 수 있다.(중략)
We fabricate a polarization-independent dielectric multilayer thin-film diffraction grating for a spectral-beam-combining (SBC) system with a simple grating structure and low aspect ratio. Due to the refractive index and thickness error of the manufactured thin films, the diffraction efficiency of the fabricated diffraction grating was lower than that of the design. The causes of the errors were analyzed, and it was confirmed through simulation that diffraction efficiency could be compensated through an additional coating on the manufactured diffraction grating. As a result of sputtering an additional Ta2O5 layer on a fabricated diffraction grating, the diffraction efficiency was corrected and a maximum 91.7% of polarization-independent diffraction efficiency was obtained.
A diffraction grating structure composed of two matching layers and two grating layers was formed, and a diffraction grating with high transmission diffraction efficiency in the -1st order was designed through an optimization technique. The designed diffraction grating had a transverse electric wave diffraction efficiency of 99.997% at the design center wavelength, and had a wavelength width of 80 nm and an incident angle width of 20.0° that maintained a diffraction efficiency of 95% or more. By performing the grating tolerance analysis, it was confirmed that the thickness tolerance for a diffraction efficiency of 95% or more was secured to at least 60 nm, and the diffraction efficiency could be maintained even in a trapezoidal shape with an internal angle of less than 10°.
According to the paraxial diffraction theory, diffractions of optical systems which have the same wavelength and numerical aperture are always the same, independent of lateral magnification. But the diffractions for optical systems with different magnifications are varied due to the non-paraxial diffraction effect on the imaging of high NA optics. In this study, the non-paraxial diffraction effect is interpreted as a phenomena caused by curved principal planes. Pupil functions and modulation transfer functions of aplanatic conic mirrors are examined as a function of lateral magnification.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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