Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers (한국전기전자재료학회)
권호 표지

A study on the eliminating using non-Polarization beam on film of As-Ge-Se-S

As-Ge-Se-S 박막에서 비편광빔을 이용한 회절격자의 소거에 관한 연구

  • Lee, Ki-Nam (Department of Electronic Materials Engineering of Kwangwoon Uni.) ;
  • Kim, Chang-Hyoung (Department of Electronic Materials Engineering of Kwangwoon Uni.) ;
  • Park, Jung-Il (Department of Electronic Materials Engineering of Kwangwoon Uni.) ;
  • Chung, Hong-Bay (Department of Electronic Materials Engineering of Kwangwoon Uni.)
  • 이기남 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 김창형 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 박정일 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 정홍배 (광운대학교 전자재료공학과)
  • Published : 2005.07.07
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Abstract

본 논문에서는 As-Ge-Se-S 박막에 (P:P) 편광빔을 이용하여 회절격자를 형성시키고 비편광 (Non-Polarization) 빔을 이용하여 생성된 격자를 소거시키고 그에 따른 회절효율을 조사 하였다. (P:P) 편광으로 기록된 회절 효율은 시간이 지나도 최대 회절효율의 변화가 없었으나 비편광 빔으로 기록된 회절효율은 시간이 지남에 따라 급격한 회절효율의 감소를 보인다. 따라서 (P:P) 편광으로 회절격자를 형성시키고 비편광빔으로 격자의 소거를 진행하여 약 83%의 회절격자의 소거가 이루어졌다.

Keywords