• 대한전자공학회논문지SD
• /
• 제41권1호
• /
• pp.15-20
• /
• 2004

산화막위에 증착된 금속박막과 산화막과의 계면효과를 조사하였다. 산화막으로는 현재 반도체소자제조공정에 많이 사용되고 있는 BPSG 산화막과 PETEOS 산화막을 사용하였다. 이 두 종류의 산화막위에 적층구조의 금속박막을 형성한 후, 금속박막의 열처리에 의한 계면의 영향을 SEM (scanning electron microscopy), TEM (transmission electron microscopy), AES (auger electron spectroscopy)를 사용하여 조사하였다. BPSG 산화막위에 증착된 금속박막을 $650^{\circ}C$ 이상에서 RTP anneal을 한 경우, BPSG 산화막과 금속박막의 계면결합상태가 좋지 않았고, BPSG 산화막과 금속박막의 계면에 phosphorus가 축적된 영역을 확인하였다. 반면에 PETEOS 산화막위에 증착된 금속박막의 경우, RTP anneal 온도에 관계없이 계면결합상태는 좋았다. 본 연구에서 BPSG 산화막위에 금속박막을 증착할 경우 RTP anneal 온도는 $650^{\circ}C$ 보다 작게 하여야 함을 알 수 있었다.

• 한국진공학회지
• /
• 제3권3호
• /
• pp.322-330
• /
• 1994

다결정실리콘 위에 저압 화학 증착법으로 비정질 WSix를 증착시킨 후에 질소 분위기, 87$0^{\circ}C$ 온 도에서 2시간 동안 열처리를 실시하여 결정화를 이룩한 다음 표면의 산화막을 희석된 불산용액으로 제 거한 후 산화를 실시하면 이상산화막이 형성이 되었다. 이와 같은 이상산화막 형성은 산화 공정전에 P 또는 As 이온 주입을 실시함으로써 억제되고 있었으며 P이온 주입 처리가 As 이온조입보다 이상산화 막 발생 억제에 보다 효율적임이 확인되었다. P이온 주입처리가 보다 효과적인 것은 산화시 산화막내에 형성되는 P2O5 가 산화막의 용융점을 크게 낮추어 양질의 산화막을 형성하는 데 기인하는 것으로 여겨 진다. 마지막으로 이온주입 처리에 의하여 비정질화된 텅스텐 실리사이드 표묘의 산화 기구에 대하여 제안하였다.

• 한국식품영양과학회지
• /
• 제32권2호
• /
• pp.207-210
• /
• 2003

폐염전에서 채취한 함초의 항산화 효과를 알아보기 위해 식육에 함초를 첨가하여 5$^{\circ}C$에서 저장기간 14일 동안의 TBARS치를 살펴보았다. 그 결과 동결건조한 잎(CBf3L-F)이 BHT 다음으로 높은 항산화 효과를 보였다. 유지산화 안정도를 측정 한 결과에서 구운소금(roasted salt)은 산화를 촉진하였으나 온풍건조한 줄기 (CSBS-D)는 ascorbic acid보다 높은 항산화 효과를 나타냈다 이 것은 단시간의 유지산화안 정 에는 동결건조하는 쪽이, 장기간의 산화 안정에는 온풍건조하는 것이 좋을 것으로 생각된다. 특히, 시료에 대한 함초의 함량이 증가됨에 따라 유지산화 억제 효과가 증가함을 나타냈는데 시료의 10% 함초를 첨가한 것은 천연 항산화제인 a-tocopherol을 1% 첨가한 것과 비슷한 항산화 효과를 나타냈다. 이 것은 폐염전 함초가 천연 항산화 물질로서 가능성이 있음을 시사한다.

• 한국재료학회지
• /
• 제3권4호
• /
• pp.352-360
• /
• 1993

열산화막위에 LPCVD법을 이용하여 질화막을 형성시킨 후, 질화막의 열처리 유무와 습식재산화처리의 공정조건에 따른 다양한 막의 두께를 가진 ONO(oxide nitride oxide)캐패시터를 제작하여 여러가지 물성을 조사하였다. 질화막을 습식산화처리하여 전체막의 굴절윷과 식각거동을 관찰한 결과, 40$\AA$두께의 질화막은 치밀하지 못하여 계속되는 산화공정동안에 하부층 산화막이 성장되었고 정전용량의 확보능력도 떨어졌다. ONO다층유전박막의 전도전류는 하부층 혹은 상부층 산화막의 두께가 증가함에 따라 감소하였다. 그러나 산화막이 50$\AA$ 이상인 경우에는 정전용량의 감소요인으로 작용할 뿐, hole유입에 대한 barrier역할은 크게 향상되지 못하였다. 산화전 질화막에 대한 열처리 효과는 막의 굴절율과 정전용량에 큰 영향을 주지 못하였으나 절연파괴전압은 약 2-3V 상승효과를 보였다.

• Nuclear Engineering and Technology
• /
• 제26권1호
• /
• pp.90-99
• /
• 1994

손상 핵연료에서 발생하는 주요한 현상중의 하나는 수중기의 분해로 갭에 존재하는 산소에 의해 $UO_2$ 가 $UO_{2+}$x/로 산화되고, 이로 인해 결정립내에서의 핵분열기체 확산계수가 증가하여 결과적으로 핵분열 기체의 방출이 증대하는 현상이다. 본 논문은 일반적인 원자로 운전 조건하에서 원자로 및 손상 핵연료의 운전조건을 고려하여 소결체의 산화거동을 모사하고 이를 바탕으로 소결체 산화가 핵분열기체의 방출 중대에 미치는 영향을 분석하였다. 소결체 산화거동은 갭에는 150기압의 포화된 순수한 수증기만이 존재한다는 가정하에 분석하였고, 산화에 의한 핵분열기체의 방출 증대 효과를 정량적으로 분석하기 위해 방출중대 인자를 도입하였다. 실험 치와 비교한 결과 방출증대 인자는 소결체 산화에 의한 핵분열기체의 방출증대 효과를 잘 예측하였다.

• 자원리싸이클링
• /
• 제7권4호
• /
• pp.64-75
• /
• 1998

본 연구의 목적은 분무배소법에 의해 조성과 입도분포가 매우 균일하고 고순도인 Fe 산화물과 Mn 산화물의 복합산화물 또는 Mn 페라이트 분말을 제조하는데 있다. 본 연구에서는 우선 염산 용액에$SiO_2$, P, Al, Ca, Na 등의 불순물들을 다량 함유하고 있는 Fe와 Mn 성분을 정해진 조성으로 용해시킴으로써 분무배소의 원료용액을 제조하였다. Na와 Ca를 제외한 대부분의 불순물들은 원료 산 용액의 pH를 약 3이상으로 유지시킴으로써 공침현상에 의해 효과적으로 제거되었으며 Na와 Ca 성분은 분말제조 후 수세에 의해 제거가 가능하였다. 반면 PVA, resin amine 등의 고분자 응집제들은 불순물 제거에 거의 효과가 없는 것으로 확인되었다. 본 연구에서는 불순물들이 효과적으로 제거된 정제된 산 용액을 노즐을 이용하여 고온의 배소로 내로 분무시킴으로써 Fe 산화물과 Mn 산화물의 복합 산화물 또는 Mn 페라이트 분말을 제조하였다. 이때 생성된 분말들은 매우 균일하게 혼합되어 있었으며, 배소로 내에서의 반응온도가 증가할수록 생성된 분말의 입도는 증가하였다.

• 한국식품과학회지
• /
• 제29권2호
• /
• pp.379-382
• /
• 1997

본 연구에서는 볶지않은 들깨와 볶은 들깨에서 착유한 들기름에 몇가지 산화방지제를 첨가하여 들기름의 산화안정성을 검토하였다. $190^{\circ}C$에서 20분동안 볶은 들깨와 볶지 않은 들깨에서 착유한 들기름에 ${\alpha}$-토코페롤, ${\delta}$-토코페롤을 100, 200, 300과 400 ppm, BHA, BHT와 TBHQ를 50, 100, 150과 200 ppm으로 농도별로 첨가하여 $50^{\circ}C$에서 저장하면서 과산화물가를 측정하였다. 측정한 과산화물가는 antioxidative index (항산화제를 첨가한 들기름의 유도기간/항산화제를 첨가안한 들기름의 유도기간)로 환산하여 산화적 안정성을 비교하였다. 볶지 않고 착유한 들기름보다 볶은 들깨에서 착유한 들기름의 산화안정성이 뛰어나, 볶음공정이 들기름의 산화안정성에 약 4배 정도 기여하는 것으로 나타났다. 첨가된 토코페롤류는 들기름의 산화를 촉진하였다. 합성산화방지제인 BHA는 산화방지 효과가 없었고, BHT는 미약한 산화방지 효과를 보였다. 그러나 TBHQ는 강한 산화방지 효과를 보였다. 이 결과로 미루어 볼때 TBHQ를 법적 허용 기준치인 200 ppm이내에서 첨가하였을때 들기름의 저장안정성을 약 5배 이상 향상시킬 수 있을 것으로 예상되며, TBHQ가 들기름의 산화 안정성 향상에 가장 적합한 산화방지제로 판단되었다. 또한 볶음조건을 조절함으로써 들기름의 산화안정성에도 기여할 것으로 판단되었다.

• KSBB Journal
• /
• 제18권3호
• /
• pp.229-233
• /
• 2003

PC 리포솜에 최대로 포함되는 DHA의 양은 PC : DHA의 비율이 1 : 0.8인 것으로 나타났으며 이때 적재 효율은 약 91 %였고 AVDL의 경우에는 약 17 %이었다. DHA의 산화를 방지하기 위하여 vitamin C/alginate 리포솜에 병합시킬 수 있었고 TEM을 통하여 제조된 다양한 리포솜의 형태와 크기를 확인할 수 있었다. TBARS 분석법에 의해 $40^{\circ}C$에서 DHA가 포함된 PC 리포솜과 AVDL에 포함된 DHA의 산화정도를 분석하였고, 결과적으로 자연 상태에서 리포솜에 포함된 DHA는 밀도가 높아질수록 산화에 안정하며, vitamin C를 포함한 alginate gel 리포솜은 DHA의 산화를 크게 억제한다는 것을 확인하였다. AVDL은 실험에서와 같은 산화조건에서 DHA의 산화를 초기 3일까지는 거의 완전히 억제하였고 그 이후에도 항산화 효과가 크다는 것을 확인하였다.

• 공업화학
• /
• 제30권2호
• /
• pp.151-154
• /
• 2019

코디어라이트 허니컴 표면에 알루미나 워시코트 지지체를 형성시키고 비교적 단순한 건식 코팅 공정으로 산화철 촉매를 코팅함으로써 실제 환경에 효과적으로 적용이 가능한 모노리스 구조 촉매를 제조하였다. 허니컴 통로 벽 구석으로 형성된 워시코트 알루미나 미세 기공으로 균일하게 코팅된 산화철 촉매를 확인하였으며, 일산화탄소 산화 반응에 적용하기 위하여 산화철 촉매의 열처리 효과를 검증하였다. $350^{\circ}C$ 부근에서 열처리한 산화철 촉매가 가장 우수한 촉매 성능을 발휘하였고, $200^{\circ}C$ 이상의 온도 영역에서 100% 전환율을 나타내었다.

• 한국재료학회지
• /
• 제3권4호
• /
• pp.403-409
• /
• 1993

본 논문에서는 Si(111)에 대한 건식산화와 어닐링에서 결함의 억제 또는 제거에 $NH_3$가 효과적임을 밝혔다. 산화방식은 건식산화(dry $O_2$ oxidation)및 $NH_3$산화($NH_3$ added in dry $O_2$oxidation)를 택하였고 $N_2$및 $NH_3N_2$분위기에서 어닐링 효과를 평가하였다. 건식산화에서는 발생되는 결함이 성장시간에 따라서 길이가 길어지며, $NH_3$산화에서는 결함이 발견되지 않았다. 또한 초기산화를 $NH_3$산화로 하고서 건식산화를 하였을 때 계면에서의 결함을 제거하는 효과가 있다. 건식산화 또는 $NH_3$산화를 한 후 이들 시료에 대하여 7.5% $NH_3N_2$분위로 어닐링하면OSF의 게터링(gettering)효과가 있었다. $NH_3$산화방식에서 7.5%$NH_3N_3$분위기로 어닐링했을때가 건식산화방식에 비하여 OSF의 길이가 20%정도 감소하였다. OSF의 모양은 pit형으로 (111)면에 대하여 (011)면 쪽으로 게터링이 일어났으며<110>방향으로 식각되는 성질이 있었다.