• 제목/요약/키워드: ${\alpha}-Ga_2O_3$

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원뿔 형태의 patterned sapphire substrate 위에 성장한 α-Ga2O3의 특성분석 (Characterization of alpha-Ga2O3 epilayers grown on cone-shape patterned sapphire substrate by halide vapor phase epitaxy)

  • 손호기;최예지;이영진;김진호;김선욱;라용호;임태영;황종희;전대우
    • 한국결정성장학회지
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    • 제29권4호
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    • pp.173-178
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    • 2019
  • 본 연구에서는 halide vapor phase epitaxy 성장법을 이용하여 원뿔 형태의 패턴이 주기적으로 형성된 patterned sapphire substrate(PSS) 위에 ${\alpha}-Ga_2O_3$를 성장하고 그 특성에 변화에 대해 분석하였다. PSS의 패턴의 유무에 따른 영향을 알아보기 위해 c-plane 사파이어 기판과 원뿔의 크기가 다른 두 개의 PSS 위에 ${\alpha}-Ga_2O_3$를 성장하여 비교 분석하였다. 또한 PSS 위에 성장된 ${\alpha}-Ga_2O_3$의 성장과정을 알아보기 위해 점차 성장 시간을 증가해가며 관찰하였고 성장 온도를 $470-550^{\circ}C$까지 변화해가며 성장하였다. 이를 통해 원뿔 형태의 패턴이 형성된 PSS 위에서의 최적 성장 조건과 그 성장 mechanism에 대해 분석이 가능하였고 그 결과로 성장과정에서 발생하는 수평 성장에 의해 ${\alpha}-Ga_2O_3$의 비대칭면인 (10-14) 반치폭 값을 크게 감소시킬 수 있었다.

균일침전법에 의한 $Ga_2O_3:Eu^{3+}$ 형광체의 제조 (Preparation of $Ga_2O_3:Eu^{3+}$ phosphors by homogeneous precipitation)

  • 천민호;박인용;이종원;김선태
    • 한국결정성장학회지
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    • 제12권3호
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    • pp.149-156
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    • 2002
  • $Ga_2O_3$ : $Eu^{3+}$ 형광체 분말을 균일침전법에 의해 제조하여 TG/DTA, XRD, FT-IR, SEM 등으로 특성을 분석하였다. 결정질 GaOOH 와 비정질에 가까운 $\gamma$-$Ga_2O_3$ 등 두 종류의 분말이 얻어졌다. 요소 농노가 0.5 M 이하에서는 입자는 막대모양을 이루고, 열처리에 따라 $\alpha$-$Ga_2O_3$을 거쳐서 $\beta$-$Ga_2O_3$상으로 변태하였다. 한편 나노미터 크기를 갖는 $\gamma$-$Ga_2O_3$분말은 1.0 M 이상의 요소 농도에서 생성되며, 직접 $\beta$-$Ga_2O_3$으로 전이하였다. 실온에서 광 발광 특성을 비교한 결과 마이크로미터 크기의 분말에 비해 나노미터 크기의 분말이 610 nm에서의 발광 강도가 더 크게 나타났다.

HVPE 방법으로 성장한 Alpha-Ga2O3의 특성 분석 (Characterization of Alpha-Ga2O3 Template Grown by Halide Vapor Phase Epitaxy)

  • 손호기;라용호;이영진;이미재;김진호;황종희;김선욱;임태영;전대우
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제31권6호
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    • pp.357-361
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    • 2018
  • We demonstrated a crack-free ${\alpha}-Ga_2O_3$ on sapphire substrate by horizontal halide vapor phase epitaxy (HVPE). Oxygen-and gallium chloride-synthesized Ga metal and HCl were used as the precursors, and $N_2$ was used as the carrier gas. The HCl flow and growth temperature were controlled in the ranges of 10~30 sccm and $450{\sim}490^{\circ}C$, respectively. The surface of ${\alpha}-Ga_2O_3$ template grown at $470^{\circ}C$ was flat and the root-mean-square (RMS) roughness was ~2 nm. The full width at half maximum (FWHM) values for the symmetric-plane diffractions, were as small as 50 arcsec and those for the asymmetric-plane diffractions were as high as 1,800 arcsec. The crystal quality of ${\alpha}-Ga_2O_3$ on sapphire can be controlled by varying the HCl flow rate and growth temperature.

HVPE 방법으로 성장된 알파-갈륨 옥사이드의 전처리 공정에 따른 특성 변화 (Effect of Pre-Treatment of Alpha-Ga2O3 Grown on Sapphire by Halide Vapor Phase Epitaxy)

  • 최예지;손호기;라용호;이영진;김진호;황종희;김선욱;임태영;전대우
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제32권5호
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    • pp.426-431
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    • 2019
  • In this study, we report the effect of pre-treatment of alpha-$Ga_2O_3$ grown on a sapphire substrate by halide vapor phase epitaxy (HVPE). During the pre-treatment process, 10 sccm of GaCl gas was injected to the sapphire substrate at $470^{\circ}C$. The surface morphologies of the alpha-$Ga_2O_3$ layers grown with various pre-treatment time (3, 5, and 10 min) were flat and crack-free. The transmittance of the alpha-$Ga_2O_3$ epi-layers was measured to analyze their optical properties. The transmittance was over 80% within the range of visible light. The strain in the alpha-$Ga_2O_3$ grown with a pre-treat 5 min was measured, and was found to be close to the theoretical XRD peak position. This can be explained by the reduction of strain having caused a lattice mismatch between the alpha-$Ga_2O_3$ layer and sapphire substrate. The calculated dislocation density of the screw and edge were $2.5{\times}10^5cm^{-2}$ and $8.8{\times}10^9cm^{-2}$, respectively.

Ni-Pd-CNT Nanoalloys에서 성장한 α-Ga2O3의 특성분석 (Characterization of Alpha-Ga2O3 Epilayers Grown on Ni-Pd and Carbon-Nanotube Based Nanoalloys via Halide Vapor Phase Epitaxy)

  • 차안나;이기업;김형구;성채원;배효정;노호균;;하준석
    • 마이크로전자및패키징학회지
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    • 제28권4호
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    • pp.25-29
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    • 2021
  • 본 연구에서는 HVPE 방법을 사용하여 Ni-Pd and Carbon-Nanotube nanoalloys (Ni-Pd-CNT) 위에 α-Ga2O3을 성장시켜 Ni-Pd-CNT에 따른 효과를 확인하였다. 그 결과, 무전해 Ni 도금 시간 40초에서 성장한 α-Ga2O3 에피층의 두께는 11 ㎛로 확인되었다. 또한, α-Ga2O3 에피층의 표면 형태는 균열 발생 없이 기판에 대한 우수한 접착력을 보여주었다. 결과적으로, 성장과정에서 발생한 수평 성장에 의해 α-Ga2O3 대의 비대칭면인 ($10{\bar{1}}4$) FWMH 값을 크게 감소할 수 있었다.

Henoch-Sch$\"{o}$nlein 자반증에서 Tumor Necrosis Factor-${\alpha}$ 유전자 다형성 분석 (Analysis of the Tumor Necrosis Factor-${\alpha}$ Promoter Polymorphism in Children with Henoch-Sch$\"{o}$nlein Purpura)

  • 양혜란;고재성;서정기
    • Pediatric Gastroenterology, Hepatology & Nutrition
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    • 제10권1호
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    • pp.11-19
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    • 2007
  • 목 적: 본 연구에서는 Henoch-Sch$\"{o}$nlein 자반증으로 진단된 환아들에서 급성기와 관해기에 TNF-${\alpha}$ 농도를 측정함으로써 Henoch-Sch$\"{o}$nlein 자반증의 발병과 임상양상의 발현에 있어 TNF-${\alpha}$의 의의를 평가하고, 각 환자에서 TNF-${\alpha}$ -308, -238 유전자 다형성의 유전자형과 대립유전자 빈도를 분석함으로써 Henoch-Sch$\"{o}$nlein 자반증의 발병에 있어 TNF-${\alpha}$ 유전자 다형성이 갖는 의의를 알아보고자 하였다. 방 법: 2004년 3월에서 2005년 11월까지 서울대병원 및 분당서울대병원 소아과에 내원하여 Henoch-Sch$\"{o}$nlein 자반증으로 진단받은 40명의 소아 환자를 대상으로 하였고, 건강한 소아 환아 32명을 대조군으로 하였다. 후향적인 의무기록지 검토를 통해 환아들의 임상양상을 조사하여 임상 점수를 평가하였다. 환자군에서 급성기와 관해기에 혈청 TNF-${\alpha}$ 농도를 측정하였다. 환자군과 대조군에서 혈액을 채취하여 TNF-${\alpha}$ -308과 -238 유전자 다형성을 조사하였다. 결 과: Henoch-Sch$\"{o}$nlein 자반증으로 진단된 40명 (남아 20명, 여아 20명)의 환아에서 급성기에 측정한 혈청 TNF-${\alpha}$ 농도는 $23.17{\pm}11.31$ pg/mL였으며, 증세가 소실된 후에 측정한 혈청 TNF-${\alpha}$ 농도는 $10.56{\pm}5.59$ pg/mL로서 유의하게 감소하였다(p=0.000). 혈청 TNF-${\alpha}$와 Henoch-Sch$\"{o}$nlein 자반증의 임상 점수 간에 유의한 상관관계는 없었다(r=0.310, p=0.070). TNF-${\alpha}$ -308 유전자형 빈도는 환자군에서 GG 80%, GA 20% 였으며, 대조군에서는 GG 93.8%, GA 6.2%로서 환자군에서 높은 GA 유전자형의 빈도를 보였지만 통계적인 유의성은 없었다(P=0.094). TNF-${\alpha}$ -238 유전자형 분포는 환자군에서 GG 97.5%, GA 2.5%였으며, 대조군에서는 GG 93.8%, GA 6.3%로서 두 군 사이에 통계적인 유의성이 없었다(p=0.429). 결 론: TNF-${\alpha}$는 Henoch-Sch$\"{o}$nlein 자반증의 발병에 중요한 역할을 하는 사이토카인으로 여겨지지만, TNF-${\alpha}$ -308, -238 유전자 다형성이 Henoch-Sch$\"{o}$nlein 자반증의 발병과 다양한 임상양상의 발현에 미치는 영향에 대해서는 뚜렷한 연관성이 확인되지 못하였기에 향후 지속적인 연구를 통하여 Henoch-Sch$\"{o}$nlein 자반증의 발병기전과 유전적 감수성을 밝히려는 시도가 이루어져야 할 것이다.

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HVPE 방법으로 성장된 alpha-Ga2O3의 특성에 대한 VI/III ratio 변화 효과 (Effect of VI/III ratio on properties of alpha-Ga2O3 epilayers grown by halide vapor phase epitaxy)

  • 손호기;최예지;이영진;이미재;김진호;김선욱;라용호;임태영;황종희;전대우
    • 한국결정성장학회지
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    • 제28권3호
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    • pp.135-139
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    • 2018
  • 본 연구에서는 HVPE 성장법을 이용하여 사파이어 기판 위에 알파 갈륨옥사이드를 성장시키며 VI/III 비의 변화에 따른 효과를 확인하였다. 성장된 알파 갈륨옥사이드의 표면은 평평하고 crack 없이 성장되었다. 성장된 갈륨옥사이드의 광학적 특성을 분석하기 위해 투과율을 측정하고 광학 밴드갭을 얻었다. 광학 밴드갭은 약 5.0 eV로 나타났고 VI/III 비가 증가함에 따라 비례하여 증가하는 결과를 보여주었다. 이론적 광학 밴드갭에 가장 근접한 VI/III 비가 23인 조건에서 성장된 알파 갈륨옥사이드의 결정성을 확인하기 위해 HR-XRD를 이용하여 FWHM을 측정하였고 이를 바탕으로 전위밀도를 계산하였을 때 나선형 전위밀도는 $1.5{\times}10^7cm^{-2}$, 칼날 전위 밀도는 $5.4{\times}10^9cm^{-2}$로 계산되었다.

Flavonol Glycosides of Maesa Lanceolata Leaves

  • Manguro, Lawrence O. Arot;Lemmen, Peter;Ugi, Ivar;Kraus, Wolfgang
    • Natural Product Sciences
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    • 제8권3호
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    • pp.77-82
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    • 2002
  • An investigation of the methanolic extract of Maesa lanceolata leaves has led to the isolation of four novel flavonol glycosides characterised as myricetin 3-0-2', 3', 4'-triacetylxylopyranoside (1), quercetin $3-O-{\beta}-3'$, $6'-diacetylglucopyranosyl-(1{\longrightarrow}4)-{\alpha}-2'$, 3'-diacetylrhamnopyranoside (2), myricetin $3-O-xylopyranosyl-(1{\to}3)-{\alpha}-rhamnopyranoside$ (3) and quercetin $3-O-{\beta}-ga1actopyranosyl-(1{\to}4)-{\alpha}-rhamnopyranoside-7-O-{\beta}-galactopyranoside$ (4). Also isolated from the same extract were known flavonols; quercetin (5), myricetin (6), quercetin 3-O-xylopyranoside (7), quercetin $3-O-{\alpha}-rhamnopyranoside$ (8), myricetin $3-O-{\alpha}-rhamnopyranoside$ (9), myricetin $3-O-{\beta}-galactopyranoside$ (10) and quercetin 3-O-rutinoside (11).

암모니아 분위기에서 열처리된 GaOOH와 ZnO 혼합분말의 구조적·광학적 성질 (Optical and Structural Properties of Ammoniated GaOOH and ZnO Mixed Powders)

  • 송창호;신동휘;변창섭;김선태
    • 한국재료학회지
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    • 제22권11호
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    • pp.575-580
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    • 2012
  • The purpose of this study is to investigate the crystalline structure and optical properties of (GaZn)(NO) powders prepared by solid-state reaction between GaOOH and ZnO mixture under $NH_3$ gas flow. While ammoniation of the GaOOH and ZnO mixture successfully produces the single phase of (GaZn)(NO) solid solution within a GaOOH rich composition of under 50 mol% of ZnO content, this process also produces a powder with coexisting (GaZn)(NO) and ZnO in a ZnO rich composition over 50 mol%. The GaOOH in the starting material was phase-transformed to ${\alpha}$-, ${\beta}-Ga_2O_3$ in the $NH_3$ environment; it was then reacted with ZnO to produce $ZnGa_2O_4$. Finally, the exchange reaction between nitrogen and oxygen atoms at the $ZnGa_2O_4$ powder surface forms a (GaZn)(NO) solid solution. Photoluminescence spectra from the (GaZn)(NO) solid solution consisted of oxygen-related red-emission bands and yellow-, green- and blue-emission bands from the Zn acceptor energy levels in the energy bandgap of the (GaZn)(NO) solid solutions.

HCl 용액을 이용한 α-Ga2O3 epitaxy 박막의 습식 식각 (Wet etching of α-Ga2O3 epitaxy film using a HCl-based solution)

  • 최병수;엄지훈;엄해지;전대우;황승구;김진곤;윤영훈;조현
    • 한국결정성장학회지
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    • 제32권1호
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    • pp.40-44
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    • 2022
  • 35 % 농도의 염산 용액을 이용하여 α-Ga2O3 epitaxy 박막의 습식 식각을 수행하였다. 35 % 염산 용액의 온도가 증가함에 따라 α-Ga2O3 epitaxy 박막의 식각 속도가 증가하였고, 본 연구에서 시도한 가장 높은 온도인 75℃에서 119.6 nm/min의 식각 속도를 나타내었다. 식각 반응의 활성화 에너지는 0.776 eV로 계산되었고, HCl 용액에서의 습식 식각은 reaction-limited 반응 기구에 의해 지배됨을 확인하였다. 각 온도에서 식각된 표면들의 AFM 분석결과 식각 용액의 온도가 증가함에 따라 식각된 표면의 표면조도가 증가함을 알 수 있었다.