• 대한기계학회논문집 C: 기술과 교육
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• 제3권4호
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• pp.265-271
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• 2015

스마트폰을 비롯한 고성능 모바일 전자기기의 발전에 따라서 경박단소한 전자부품의 요구가 커지고 있으며 이를 위해서 새로운 패키징 방법이 탄생하고 있다. 이러한 새로운 패키징 공정에서 웨이퍼 본딩 공정이 많이 요구되고 있다. 웨이퍼 본딩에서 많이 활용되는 방법이 열 압착 방법으로 가열된 헤드로 웨이퍼에 압력을 가하여 본딩하는 방법이다. 열 압착 방법에서 요구되는 공정조건은 온도 균일성과 Uniform Press이다. 온도 균일성은 마이크로 히터와 열 해석을 통한 설계로 비교적 쉽게 요구조건을 만족 시킬 수 있지만 Uniform Press를 가공과 조립으로만 요구조건을 만족시키기 위해서는 매우 높은 정밀도가 요구된다. 열 압착 방법은 고온에서 동작되므로 열 변형에 대한 기계적인 오차를 고려하여 설계, 가공, 조립이 진행되어야하므로 많은 어려움이 따른다. 본 연구에서는 Air 스프링과 Metal Form의 자가 보정장치를 이용하여 가공, 조립, 열 변형으로 발생하는 기계적 오차를 보상하여 성능과 신뢰성을 향상시켰다.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제23권12호
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• pp.919-923
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• 2010

Copper pillar tin bump (CPTB) was developed for high density chip interconnect technology. Copper pillar tin bumps that have $100{\mu}m$ pitch were introduced with fabrication process using a KM -1250 dry film photoresist (DFR), copper electroplating method and Sn electro-less plating method. Mechanical shear strength measurements were introduced to characterize the bonding process as a function of thermo-compression. Shear strength has maximum value with $330^{\circ}C$ and 500 N thenno-compression process. Through the simulation work, it was proved that when the copper pillar tin bump decreased in its size, it was largely affected by the copper oxidation.

• 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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• 제53권9호
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• pp.488-493
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• 2004

In this paper, we present the fabrication of copper electrode array and test of electrochemical discharge machining(ECDM) for glass machining. An array of 72 Cu electrodes is used to machine Borofloat33 glass. The height and diameter of a Cu electrode are 400 $\mu\textrm{m}$ and 100 $\mu\textrm{m}$ respectively. It is fabricated by ICP-RIE, Au-Au thermo-compression bonding, and copper electroplating. Borofloat33 glass is machined by the fabricated copper electrode array in 60 seconds at 55 V. The surface roughness of the machined glass is measured and the machined glass is anodically bonded with silicon.

• 마이크로전자및패키징학회지
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• 제18권4호
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• pp.11-18
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• 2011

3차원 칩 적층 접합에 사용하기 위한 Cu-Cu 금속 저온 접합 공정을 위하여 접합 온도 및 플라즈마 표면 전처리에 따른 열 압착 접합을 수행 하였다. 4점굽힘시험과 CCD 카메라를 이용하여 Cu 접합부의 정량적인 계면접착에너지를 평가하였다. 접합 온도 $250^{\circ}C$, $300^{\circ}C$, $350^{\circ}C$에서 각각 $1.38{\pm}1.06$(상한값), $7.91{\pm}0.27$(하한값), $10.36{\pm}1.01$(하한값) $J/m^2$으로 접합온도 $300^{\circ}C$ 이상에서 계면접착에너지 5 $J/m^2$ 이상의 값을 얻었다. 접합 온도 $300^{\circ}C$ 이하 낮은 온도에서 접합하기 위해 Cu-Cu 열 압착 접합 전 Ar+$H_2$ 플라즈마로 $200^{\circ}C$에서 2분간 표면 전처리 후 $250^{\circ}C$ 조건에서 열 압착 접합할 경우 계면접착에너지 값이 $6.59${\pm}0.03$(하한값) $J/m^2$로 표면 전 처리하지 않은 시험편에 비해 접합 특성이 크게 증가 하였다.