For producing the fine ribs structure of plasma display panel, the metal ions of barrier materials during the etching process should be understood on the etching mechanism with etching conditions. Etching was done on bulk glasses of the $BaO_B_2O_3-ZnO$ system with $HNO_3$ solution at $40^{\circ}C$. The surface structure of glasses and ion dissolution were analyzed by ICP (Inductive Coupled Plasma measurement). The structure and surface of the etched bulk glass were investigated by using scanning electron microscopy and nanoindenter. As a result, Ba (3-35 ppm/min) and Zn (2-27 ppm/min) ions as major components were leached in the solution and the leached layers were found to be phosphor-rich surface layers. A decrease of the bridge oxygen and relative increase of non bridge oxygen in the etched glass were found by X-ray photoelectron spectroscopy.
In this paper, the purpose is to develop imaging technique of synchrotron radiation using CMOS image sensor. The detector using hybrid method to be research in this lab was used, in order to increase image signal. We made experiments with 1B2 Whitebeam/microprobe beamline in PAL (Pohang Accelerator Laboratory). Phosphor materials such as ZnS:(Ag,Li), ZnS:(Cu,Al), $Y_2O_2S:Eu$ were produced by spin coating on glass. Synchrotron radiation images were acquired and evaluated from monochromatic light from monochromoator in PAL 1B2line. From obtained object and phantom, MTF was 0.15 in ZnS:(Ag,Li) phosphor, and 0.178 in ZnS:( Cu,Al) at 151p/mm. MTFs were unsystematic because thickness of phosphor and uniformity of surface were not optimized. It's expected to improve MTF and the qualify of images as uniformity's optimized.
For a higher definition discharge cell, the method of high speed addressing is necessary. In order to modify the surface charges, the liquefied $TiO_2$ or MgO powder is added on MgO layer in front glass and on the phosphor in rear glass in micro barrier discharge. Both the electro-optical properties and the discharge time lag characteristics are measured from 4 inch. test panel, such as the discharge voltage, current, luminance, luminous efficacy and discharge time lag. As the results, the statistic time lag is improved by about 40 %.
본 연구의 대상인 자체발광 유리관은 밀봉된 유리관 내의 삼중수소에서 방출되는 베타입자와 유리관 내벽의 형광체와의 발광반응 메카니즘을 이용한 것이다. 자발광체는 삼중수소의 자연 붕괴와 형광체의 열화에 의해서 형광 효율이 감소되어 자발광체를 제조한 날로부터 지속적으로 휘도가 줄어들게 된다. 본 연구에서는 자발광체 제조 시 형광체의 열화를 최소화하기 위하여 형광체 열화에 영향을 미치는 요소인 온도, 온도 유지 시간, 공정 시 필요한 분위기를 다꾸지 방법에 의한 실험계획법으로 3인자 3수준의 교호작용을 고려하여 형광체의 음극선 발광 특성을 검토하였다.
Carbon nano tubes(CNTs) have been reported as field emission source because has a sharp tip, a high aspect tip, high chemical stability, high mechanical strength and low work function properties. In this study, we fabricated successfully the back-lamp of the I-inch flat type using CNTs, which was grown directly on cathode substrate of sodalime glass at low temperature. The brightness of CNT back-lamp is measured to $14 Kcd/m^{2}$ at $2000V_{dc}$ in spacing of $500{\mu}m$. And, the emission properties of packaged CNT back-lamp was analyzed as function of applying voltage and times.
한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권2호
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pp.1519-1521
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2007
In this work, a coplanar-type plasma flat fluorescent lamp having cross type of electrode was fabricated by screen printing and sealing technique. Cross type of electrode with a dielectric layer were screen-printed on a rear glass plate, and then fired at $550^{\circ}C$. Phosphor was printed on and fired at $450^{\circ}C$. Finally, the lamp was sealed by frit glass at $450^{\circ}C$. The lamp of cross electrode type was studied depending on the electrode gap and the thickness of dielectric layer.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제3권1호
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pp.4-8
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2002
The typical mold method for FED (field emission display) fabrication is used to form a gate electrode, a gate oxide layer, and emitter tip after fabrication of a mold shape using wet-etching of Si substrate. However, in this study, new mold method using a side wall space structure was developed to make sharp emitter tips with the gate electrode. In new method, gate oxide layer and gate electrode layer were deposited on a Si wafer by LPCVD (low pressure chemical vapor deposition), and then BPSG (Boro phosphor silicate glass) thin film was deposited. After then, the BPSG thin film was flowed into the mold at high temperature in order to form a sharp mold structure. TiN was deposited as an emitter tip on it. The unfinished device was bonded to a glass substrate by anodic bonding techniques. The Si wafer was etched from backside by KOH-deionized water solution. Finally, the sharp field emitter array with gate electrode on the glass substrate was formed.
At present, the study of direct digital X-ray detector and indirect digital X-ray detector proceed actively. But it needs high thickness and high voltage in selenium for high ionization rate. Therefore, we carried out the study of electric characteristics of a-Se with additive ratio of Iodine in drafting study for developing Hybrid X -ray Sensor for complementing direct digital X -ray detector and indirect digital X-ray detector in this paper. On this, there are formed Amorphous selenium multi-layers by sticking phosphor layer$(Gd_{2}O_{2}S(Eu^{2+}))$ using optical adhesives of EFIRON Co. Amorphous selenium multi-layers having dielectric layer(parylene) has characteristics of low dark-current, high X-ray sensitivity. So we can acquired a enhanced signal to noise ratio. We make Amorphous selenium multi-layers with $30{\mu}m$ thickness on glass.
This paper describes the Manufacturing process and electrical properties of ac thick film electroluminescent lamps which made of the mixture of ZnS:Cu,Cl phosphor powder and polymer binding materials. The phosphor layer is sandwiched between two electrodes, one of which is transparent, and is supported by a substrate. The substrate may be glass or flexible plastic or it may be metallic. In this study we manufactured suspend layer which consists of ZnS:Cu,Cl powder suspended in a NBR. As yet our results are behind other commercial product in electrical properties and brightness. However they can be improved by selection of appropriate polymer binding materials, development of blending technology.
Purpose: The aim of this study was to evaluate the radiopacities of various types of restorative materials with different thicknesses compared with enamel, dentin, and aluminum. Materials and Methods: Four bulk-fill resins, 2 hybrid ceramics, 2 micro-hybrid resin composites, 6 glass ionomer-based materials, 2 zinc phosphate cements, and an amalgam were used in the study. Twelve disk-shaped specimens were prepared from each of 17 restorative materials with thicknesses of 1 mm, 2 mm, and 4 mm (n=4). All the restorative material specimens with the same thickness, an aluminum (Al) step wedge, and enamel and dentin specimens were positioned on a phosphor storage plate and exposed using a dental X-ray unit. The mean gray values were measured on digital images and converted to equivalent Al thicknesses. Statistical analyses were performed using 2-way analysis of variance and the Bonferroni post hoc test(P<0.05). Results: Radiopacity was significantly affected by both the thickness and the material type (P<0.05). GCP Glass Fill had the lowest radiopacity value for samples of 1 mm thickness, while Vita Enamic had the lowest radiopacity value for 2-mm-thick and 4-mm-thick samples. The materials with the highest radiopacity values after the amalgam were zinc phosphate cements. Conclusion: Significant differences were observed in the radiopacities of restorative materials with different thicknesses. Radiopacity was affected by both the material type and thickness.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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